在基底上沉积涂层的方法技术

本发明专利技术涉及一种在基底（100）上沉积涂层的方法，所述方法的特征在于，其包括在所述基底（100）上沉积薄金属间层（110）的步骤，以便在该步骤结束时获得具有预定最终颜色的外部部件（10）。（10）。（10）。

【技术实现步骤摘要】
在基底上沉积涂层的方法


[0001]本专利技术属于材料领域，并特别属于界定钟表、珠宝、时尚物品或更普遍地各种各样的物品的外部部件的外观的材料。
[0002]更具体地，本专利技术涉及一种在基底上沉积涂层的方法。

技术介绍

[0003]在受控的气氛中沉积薄层通常用于工业，并特别用于制表领域和珠宝领域，以制备具有美学和/或技术应用的涂层。
[0004]对于美学应用，沉积的薄层可以由贵金属，如金(Au)和银(Ag)或贵金属合金组成。这些贵金属合金通常由金、银和铜(Cu)的组合组成，并可能添加铂(Pt)或其他类似金属。在这些贵金属合金中，原子形成金属键，所述金属键是合金颜色及其延展性的来源。
[0005]一些常用的薄层沉积方法是特别包括阴极溅射法和蒸发法的物理气相沉积(PVD)法；化学气相沉积(CVD)法；电镀生长金属沉积法；以及原子层沉积(ALD)法。
[0006]此外，存在金属间化合物，特别是贵金属的金属间化合物，与上述标准贵金属合金相比，它们提供了更广泛的调色板。例如，黄色Pt
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>Al、橙色或粉色P本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.在基底（100）上沉积涂层的方法，所述方法的特征在于，其包括在所述基底（100）上沉积由金属间化合物形成的薄金属间层（110）的步骤，以便在该步骤结束时获得具有预定最终颜色的钟表、珠宝或时尚物品的外部部件（10）。2.根据权利要求1所述的方法，其中沉积所述薄金属间层（110）的步骤是通过实施选自阴极或离子溅射、热蒸发、电弧或电子束蒸发，或脉冲激光束烧蚀的PVD沉积方法来进行的。3.根据权利要求2所述的方法，其中所述薄层的沉积是从至少一个由至少两种金属的复合物组成的靶或从至少两个不同纯金属的靶进行的。4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法，其中进行沉积所述薄金属间层（110）的步骤，使得所述薄金属间层（110）具有20至1000 nm的厚度，优选200至500 nm的厚度，并且更优选300 nm的厚度。5.根据权利要求1至4所述的方法，其包括在所述薄金属间层（110）的预定区域（111）上的局部退火步骤，以便局部地改变所述外部部件（10）的最终颜色。6.根据权利要求5所述的方法，其中所述局部退火步骤通过激光束直径为10
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m至100
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m的激光进行。7.根据权利要求5或6中任一项所述的方法，其中所述局部退火步骤通过配置为发射持续时间为4 ns至350 ns，可变频率为10 kHz至1 MHz的脉冲的激光器进...

【专利技术属性】
技术研发人员：L，
申请(专利权)人：奥米加股份有限公司，
类型：发明
国别省市：