粗化镀镍材料及其制造方法技术

提供在粗化镀镍材料中抑制了粗化镀镍层的不均匀性、沟的产生等形成不均的粗化镀镍材料。粗化镀镍材料，其特征在于，包含：作为轧制材料的基材、和在所述基材的至少单面上形成的粗化镀镍层，上述粗化镀镍层的表面的SRzjis为2μm以上，且将上述粗化镀镍层中的最大高度设为SRz，在SRz

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】粗化镀镍材料及其制造方法


[0001]本专利技术涉及具有粗化镀镍层的镀敷材料及其制造方法。

技术介绍

[0002]近年来，在金属板、金属箔等基材上形成镀层的技术中，没有停步于平滑地形成该镀层，已知在镀敷面形成凹凸、或者使金属以粒状或针状在基材上附着的、形成所谓粗化镀层的技术。
[0003]其中，就形成有粗化镀镍层的粗化镀镍材料而言，作为例如食品罐、饮料罐、电池罐等的材料等，为了具有适于各个用途的功能或者为了进一步提高功能而使用。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1：日本专利第5885345号公报
[0007]专利文献2：日本特开2019
‑
104948号公报
[0008]专利文献3：日本特开2019
‑
104949号公报

技术实现思路

[0009]专利技术要解决的课题
[0010]另一方面，取决于上述的用途，在这些粗化镀镍材料的粗化镀镍层上，有时可进一步形成树脂等层。
[0011]另一方面，本专利技术人深入研究，结果查明：取决于粗化镀镍材料的制造条件，有时粗化镀镍层内的高度方向上的生长变得不均匀。特别地，查明：虽然在粗化镀镍材料的特定的方向上连续地析出粗化镀镍层，但有时产生难以生长的部分，有时以沟状形成该部分(以下将由上述难以生长的部分形成的沟状的区域、即、将粗化部中的镍粒子的集合体的一个一个的高度进行比较时相对于周围的粗化部成为稍低的区域也称为“沟”)。
[0012]由于这样的粗化镀镍层的不均匀性、沟的存在，在专利文献中所示的、特别是在粗化镀镍层上将另外的层被覆的情况下，有可能无法充分地发挥原来的目标功能。
[0013]本专利技术人进一步进行了深入研究，结果发现：在粗化镀镍层的形成中，通过采用特定的方法，可抑制上述的粗化镀镍层的不均匀性、沟的产生。
[0014]即，就本专利技术而言，鉴于以上述的课题作为一例而进行解决的事实，目的在于提供能够抑制粗化镀镍层的不均匀性、沟的产生(以下也称为“形成不均”)的粗化镀镍材料的制造方法及其粗化镀镍材料。
[0015]用于解决课题的手段
[0016]就本实施方式中的粗化镀镍材料而言，(1)其特征在于，包含：作为金属的基材、和在上述基材的至少单面上形成的粗化镀镍层，上述粗化镀镍层的表面的SRzjis为2μm以上，且，将上述粗化镀镍层中的最大高度设为SRz、在SRz
×
0.25的高度位置处观察的任意的假想平面区域A中的谷部区域B满足以下的(i)。
[0017](i)上述谷部区域B的上述基材的轧制方向或通板方向上的长度以直线距离计，不到40μm。
[0018]予以说明，在上述(1)中，优选(2)上述谷部区域B的周长CL的最大值不到500μm。
[0019]另外，就本实施方式中的粗化镀镍材料而言，(3)其特征还在于，包含：作为金属的基材、和在上述基材的至少单面上形成的粗化镀镍层，上述粗化镀镍层的表面的三维表面性状参数中的Str为0.1以上。
[0020]就本实施方式中的粗化镀镍材料而言，在上述(3)中，优选(4)上述粗化镀镍层的表面的三维表面性状参数中的Sk为1.0μm～4.0μm。
[0021]另外，就本实施方式中的粗化镀镍材料而言，在上述(3)中，优选(5)上述粗化镀镍层的表面的三维表面性状参数中的Vvc为0.6μm3/μm2～3.0μm3/μm2。
[0022]进而，就本实施方式中的粗化镀镍材料而言，在上述(3)中，优选(6)上述粗化镀镍层的表面的三维表面性状参数中的Vmc为0.45μm3/μm2～2.0μm3/μm2。
[0023]就本实施方式中的粗化镀镍材料而言，在上述(1)～(6)的任一项中，优选(7)上述基材为钢板。
[0024]就本实施方式中的粗化镀镍材料而言，在上述(1)～(7)的任一项中，优选(8)上述基材粗化镀镍层的表面的亮度用L
＊
值表示，为30～50。
[0025]就本实施方式中的粗化镀镍材料而言，在上述(1)～(7)的任一项中，优选(9)上述基材粗化镀镍层的表面的光泽度用85
°
光泽度计，为1.5～50。
[0026]就本实施方式中的粗化镀镍材料而言，在上述(1)～(9)的任一项中，优选(10)在上述基材与上述粗化镀镍层之间具有基底镍层。
[0027]另外，就本实施方式中的粗化镀镍材料的制造方法而言，具有：(11)使基材的表面处的SRzjis为0.5μm以上且不到1.7μm的基材表面处理工序、和在上述基材上形成粗化镀镍层的粗化镀镍工序。
[0028]另外，就本实施方式中的粗化镀镍材料的制造方法而言，具有：(12)在作为金属的基材上设置表面的Sku为4.0以上的基底镀镍层的工序、和在上述基底镀镍层上形成粗化镀镍层的粗化镀镍工序。
[0029]在上述(12)中，本实施方式中的粗化镀镍材料的制造方法进而优选(13)上述基底镀镍层的表面的Vvc为0.45μm3/μm2以下。
[0030]予以说明，在上述(11)中，优选(14)上述表面处理工序为冷轧工序或调质轧制工序。
[0031]另外，在上述(14)中，优选(15)进行上述冷轧工序中的压下率5％以上的轧制的最终的轧制辊的表面粗糙度为0.01μm以上且0.5μm以下。或者，在上述(14)中，优选(16)进行上述调质轧制工序中的压下率0.1％以上且不到5％的轧制的最终的轧制辊的表面粗糙度为0.01μm以上且0.5μm以下。
[0032]进而，在上述(11)～(16)的任一项中，优选(17)上述基材为钢板。
[0033]专利技术的效果
[0034]根据本专利技术的粗化镀镍材料的制造方法，可提供抑制了上述的形成不均的粗化镀镍材料。就本专利技术的粗化镀镍材料而言，利用其优异的特性，能够例如适合在以液体作为内容物的饮料罐、袋等包装容器、电池构件等中使用。
附图说明
[0035]图1(a)为表示本实施方式中的粗化镀镍材料1的剖面的示意图。
[0036]图1(b)为表示本实施方式中的粗化镀镍材料1的剖面的示意图。
[0037]图2(a)为表示本实施方式中的粗化镀镍层12的假想平面区域A的示意图。
[0038]图2(b)为表示本实施方式中的粗化镀镍层12的假想平面区域A的示意图。
[0039]图3(a)为表示本实施方式中得到的粗化镀镍材料的表面等的图。
[0040]图3(b)为表示本实施方式中得到的粗化镀镍材料的表面等的图。
[0041]图4为表示本实施方式中得到的粗化镀镍材料的表面等的图。
[0042]图5为表示本实施方式中得到的粗化镀镍材料的表面等的图。
[0043]图6(a)为表示本实施方式的比较例中得到的粗化镀镍材料的表面等的图。
[0044]图6(b)为表示本实施方式的比较例中得到的粗化镀镍材料的表面等的图。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种粗化镀镍材料，其特征在于，包含：作为金属的基材、和在所述基材的至少单面上形成的粗化镀镍层，所述粗化镀镍层的表面的SRzjis为2μm以上，且、将所述粗化镀镍层中的最大高度设为SRz，在SRz
×
0.25的高度位置处观察的任意的假想平面区域A中的谷部区域B满足以下的(i)：(i)所述谷部区域B的所述基材的轧制方向或通板方向上的长度以直线距离计，不到40μm。2.根据权利要求1所述的粗化镀镍材料，其中，所述谷部区域B的周长CL的最大值CLmax为不到500μm。3.一种粗化镀镍材料，其特征在于，包含：作为金属的基材、和在所述基材的至少单面上形成的粗化镀镍层，所述粗化镀镍层的表面的三维表面性状参数中的Str为0.1以上。4.根据权利要求3所述的粗化镀镍材料，其中，进一步，所述粗化镀镍层的表面的三维表面性状参数中的Sk为1.0μm～4.0μm。5.根据权利要求3所述的粗化镀镍材料，其中，进一步，所述粗化镀镍层的表面的三维表面性状参数中的Vvc为0.6μm3/μm2～3.0μm3/μm2。6.根据权利要求3所述的粗化镀镍材料，其中，进一步，所述粗化镀镍层的表面的三维表面性状参数中的Vmc为0.45μm3/μm2～2.0μm3/μm2。7.根据权利要求1～6中任一项所述的粗化镀镍材料，其中，所述基材为钢板。8.根据权利要求1～7中任一项所述的粗化镀镍材料，其中，所述粗化镀镍层的表面的亮度用L
＊
值表示，...

【专利技术属性】
技术研发人员：堀江慎一郎，堤悦郎，小柳利文，小幡骏季，河村道雄，吉冈兴，原田直治，入江毅，吉井阳之辅，
申请(专利权)人：东洋钢钣株式会社，
类型：发明
国别省市：