【技术实现步骤摘要】
一种光刻膜的制备方法
[0001]本专利技术涉及一种光刻膜的制备方法。
技术介绍
[0002]光刻膜是一种应用激光光刻技术,在塑料薄膜上进行镭射模压,获得材料表面特殊图案的产品,而现有塑料薄膜在镭射模压前,需要在塑料薄膜上涂覆一层涂料,而为了达到深纹路产品更好的模压成型,现有涂料大都需要涂布两次,这样造成了生产效率低下。
技术实现思路
[0003]本专利技术所要达到的目的就是提供一种光刻膜的制备方法,只需涂布一次就可以满足深纹模压的要求,大大提高了生产效率。
[0004]为了解决上述技术问题,本专利技术是通过以下技术方案实现的:一种光刻膜的制备方法,包括基膜和涂覆在基膜上的涂层,涂层由涂料通过涂布辊涂布而成,所述涂料包括以下组分组成:30~50重量份的丙烯酸异辛酯、10~15重量份的乙酸正丙酯、8~12重量份的丙二醇甲醚、2~6重量份的乙酸丙酸纤维素、5~10重量份的己二酸、6~10重量份的二苯基碳酸酯,己烷
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1,6
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二醇,5
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异氰酸基 />‑1‑
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【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种光刻膜的制备方法,包括基膜和涂覆在基膜上的涂层,其特征在于:涂层由涂料通过涂布辊涂布而成,所述涂料包括以下组分组成:30~50重量份的丙烯酸异辛酯、10~15重量份的乙酸正丙酯、8~12重量份的丙二醇甲醚、2~6重量份的乙酸丙酸纤维素、5~10重量份的己二酸、6~10重量份的二苯基碳酸酯,己烷
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1,6
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二醇,5
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异氰酸基
‑1‑
(异氰酸基甲基)
‑
1,3,3
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三甲基
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环己烷并,噁庚环
‑2‑
酮,制备方法包括以下步骤:步骤一:涂料混合:将丙烯酸异辛酯、乙酸正丙酯、丙二醇甲醚、乙酸丙酸纤维素、己二酸、二苯基碳酸酯,己烷
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二醇,5
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异氰酸基
‑1‑
(异氰酸基甲基)
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1,3,3
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三甲基
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环己烷并,噁庚环
‑2‑
酮依次放入搅拌筒内搅拌,搅拌的搅拌速度为3000转/min,搅拌的温度为20~30℃,搅拌的湿度为35~55%RH,搅拌的时间为40~60min;步骤二:涂布:将步骤一混合搅拌后的涂料通过涂布辊均匀的涂布在基膜上;步骤三:烘干:将步骤二涂覆后的通过五节烘箱进行烘干处理,且五节烘箱钟的前四节烘箱的温度按T
n
=T1+(n
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1)d设置,所述d为20~30,所述T1的温度为60~65℃,最后一节烘箱的温度为T5,其中:T2<T5<T3。2.根据权利要求1所述的一种光刻膜的制备方法,其特征在于:所述涂料包括以下组分组成:30重量份的丙烯酸异辛酯、15重量份的乙酸正丙酯、12重量份的丙二醇甲醚、6重量份的乙酸丙酸纤维素、10重量份的己二酸、10重量份的二苯基碳酸酯,己烷
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【专利技术属性】
技术研发人员:沈亚雄,孔秀英,刘兵,伍燕德,周文龙,李志伟,付建强,刘锁,章帅军,
申请(专利权)人:浙江亚欣包装材料有限公司,
类型:发明
国别省市:
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