一种光刻膜的制备方法技术

技术编号:33133322 阅读:22 留言:0更新日期:2022-04-17 00:54
本发明专利技术涉及一种光刻膜的制备方法,包括基膜和涂覆在基膜上的涂层,制备方法包括以下步骤:步骤一涂料混合、步骤二涂布和步骤三烘干,本发明专利技术的优点:由于涂料通过丙烯酸异辛酯、乙酸正丙酯、丙二醇甲醚、乙酸丙酸纤维素、己二酸、二苯基碳酸酯,己烷

【技术实现步骤摘要】
一种光刻膜的制备方法


[0001]本专利技术涉及一种光刻膜的制备方法。

技术介绍

[0002]光刻膜是一种应用激光光刻技术,在塑料薄膜上进行镭射模压,获得材料表面特殊图案的产品,而现有塑料薄膜在镭射模压前,需要在塑料薄膜上涂覆一层涂料,而为了达到深纹路产品更好的模压成型,现有涂料大都需要涂布两次,这样造成了生产效率低下。

技术实现思路

[0003]本专利技术所要达到的目的就是提供一种光刻膜的制备方法,只需涂布一次就可以满足深纹模压的要求,大大提高了生产效率。
[0004]为了解决上述技术问题,本专利技术是通过以下技术方案实现的:一种光刻膜的制备方法,包括基膜和涂覆在基膜上的涂层,涂层由涂料通过涂布辊涂布而成,所述涂料包括以下组分组成:30~50重量份的丙烯酸异辛酯、10~15重量份的乙酸正丙酯、8~12重量份的丙二醇甲醚、2~6重量份的乙酸丙酸纤维素、5~10重量份的己二酸、6~10重量份的二苯基碳酸酯,己烷

1,6

二醇,5

异氰酸基
‑1‑
(异氰酸基甲基)

1,3,3

三甲基

环己烷并,噁庚环
‑2‑
酮,制备方法包括以下步骤:
[0005]步骤一:涂料混合:将丙烯酸异辛酯、乙酸正丙酯、丙二醇甲醚、乙酸丙酸纤维素、己二酸、二苯基碳酸酯,己烷

1,6

二醇,5

异氰酸基r/>‑1‑
(异氰酸基甲基)

1,3,3

三甲基

环己烷并,噁庚环
‑2‑
酮依次放入搅拌筒内搅拌,搅拌的搅拌速度为3000转/min,搅拌的温度为20~30℃,搅拌的湿度为35~55%RH,搅拌的时间为40~60min;
[0006]步骤二:涂布:将步骤一混合搅拌后的涂料通过涂布辊均匀的涂布在基膜上;
[0007]步骤三:烘干:将步骤二涂覆后的通过五节烘箱进行烘干处理,且五节烘箱钟的前四节烘箱的温度按T
n
=T1+(n

1)d设置,所述d为20~30,所述T1的温度为60~65℃,最后一节烘箱的温度为T5,其中:T2<T5<T3。
[0008]优选的,所述涂料包括以下组分组成:30重量份的丙烯酸异辛酯、15重量份的乙酸正丙酯、12重量份的丙二醇甲醚、6重量份的乙酸丙酸纤维素、10重量份的己二酸、10重量份的二苯基碳酸酯,己烷

1,6

二醇,5

异氰酸基
‑1‑
(异氰酸基甲基)

1,3,3

三甲基

环己烷并,噁庚环
‑2‑
酮。
[0009]优选的,所述涂料包括以下组分组成:41重量份的丙烯酸异辛酯、12.6重量份的乙酸正丙酯、9.1重量份的丙二醇甲醚、4.21重量份的乙酸丙酸纤维素、7.2重量份的己二酸、9.07重量份的二苯基碳酸酯,己烷

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二醇,5

异氰酸基
‑1‑
(异氰酸基甲基)

1,3,3

三甲基

环己烷并,噁庚环
‑2‑
酮。
[0010]优选的,所述涂料包括以下组分组成:50重量份的丙烯酸异辛酯、10重量份的乙酸正丙酯、8重量份的丙二醇甲醚、2重量份的乙酸丙酸纤维素、5重量份的己二酸、6重量份的二苯基碳酸酯,己烷

1,6

二醇,5

异氰酸基
‑1‑
(异氰酸基甲基)

1,3,3

三甲基

环己烷并,
噁庚环
‑2‑
酮。
[0011]优选的,每平方米的基膜中所述涂料的质量为2~2.3g。
[0012]优选的,步骤二中的涂布辊为170目的斜线辊,且所述涂布辊的干涂量为9~11g。
[0013]优选的,步骤三中的五节烘箱的温度分别为60℃、90℃、120℃、150℃、100℃。
[0014]综上所述,本专利技术的优点:通过步骤一涂料混合、步骤二涂布和步骤三烘干的制备方法制备的光刻膜,由于涂料通过丙烯酸异辛酯、乙酸正丙酯、丙二醇甲醚、乙酸丙酸纤维素、己二酸、二苯基碳酸酯,己烷

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二醇,5

异氰酸基
‑1‑
(异氰酸基甲基)

1,3,3

三甲基

环己烷并,噁庚环
‑2‑
酮制备而成,不仅增加了涂料的韧性,而且能增大涂料的固含量以及改变涂料的粘度,涂料的固含量能增大至25~30%,涂料的粘度为25~28s,因此,涂布后的光刻膜有助于深纹路产品的模压,而且高固含量使涂料只需涂布一次就可以满足深纹模压要求,大大提高生产效率,而且也能解决高干量条件下的涂层松脆问题其次,可以满足客户不上清漆需求,节省成本,更好的平衡了高干量下的VOC残留,步骤三的烘干步骤中,通过良好的控制烘箱的温度,使烘干过程光刻膜不易出现模压“糊版”问题,提高成品率,最后,在涂料中加入乙酸正丙酯,使其能对涂料进行稀释,使涂料在烘干的过程中慢慢挥发,防止挥发过快导致涂布膜产生表干里不干的现象,影响模压性能。
具体实施方式
[0015]一种光刻膜的制备方法,包括基膜和涂覆在基膜上的涂层,涂层由涂料通过涂布辊涂布而成,所述涂料包括以下组分组成:30~50重量份的丙烯酸异辛酯、10~15重量份的乙酸正丙酯、8~12重量份的丙二醇甲醚、2~6重量份的乙酸丙酸纤维素、5~10重量份的己二酸、6~10重量份的二苯基碳酸酯,己烷

1,6

二醇,5

异氰酸基
‑1‑
(异氰酸基甲基)

1,3,3

三甲基

环己烷并,噁庚环
‑2‑
酮,制备方法包括以下步骤:
[0016]步骤一:涂料混合:将丙烯酸异辛酯、乙酸正丙酯、丙二醇甲醚、乙酸丙酸纤维素、己二酸、二苯基碳酸酯,己烷

1,6

二醇,5

异氰酸基
‑1‑
(异氰酸基甲基)

1,3,3

三甲基

环己烷并,噁庚环
‑2‑
酮依次放入搅拌筒内搅拌,搅拌的搅拌速度为3000转/min,搅拌的温度为20~30℃,搅拌的湿度为35~55%RH,搅拌的时间为40~60min;
[0017]步骤二:涂布:将步骤一混合搅拌后的涂料通过本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光刻膜的制备方法,包括基膜和涂覆在基膜上的涂层,其特征在于:涂层由涂料通过涂布辊涂布而成,所述涂料包括以下组分组成:30~50重量份的丙烯酸异辛酯、10~15重量份的乙酸正丙酯、8~12重量份的丙二醇甲醚、2~6重量份的乙酸丙酸纤维素、5~10重量份的己二酸、6~10重量份的二苯基碳酸酯,己烷

1,6

二醇,5

异氰酸基
‑1‑
(异氰酸基甲基)

1,3,3

三甲基

环己烷并,噁庚环
‑2‑
酮,制备方法包括以下步骤:步骤一:涂料混合:将丙烯酸异辛酯、乙酸正丙酯、丙二醇甲醚、乙酸丙酸纤维素、己二酸、二苯基碳酸酯,己烷

1,6

二醇,5

异氰酸基
‑1‑
(异氰酸基甲基)

1,3,3

三甲基

环己烷并,噁庚环
‑2‑
酮依次放入搅拌筒内搅拌,搅拌的搅拌速度为3000转/min,搅拌的温度为20~30℃,搅拌的湿度为35~55%RH,搅拌的时间为40~60min;步骤二:涂布:将步骤一混合搅拌后的涂料通过涂布辊均匀的涂布在基膜上;步骤三:烘干:将步骤二涂覆后的通过五节烘箱进行烘干处理,且五节烘箱钟的前四节烘箱的温度按T
n
=T1+(n

1)d设置,所述d为20~30,所述T1的温度为60~65℃,最后一节烘箱的温度为T5,其中:T2<T5<T3。2.根据权利要求1所述的一种光刻膜的制备方法,其特征在于:所述涂料包括以下组分组成:30重量份的丙烯酸异辛酯、15重量份的乙酸正丙酯、12重量份的丙二醇甲醚、6重量份的乙酸丙酸纤维素、10重量份的己二酸、10重量份的二苯基碳酸酯,己烷

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【专利技术属性】
技术研发人员:沈亚雄孔秀英刘兵伍燕德周文龙李志伟付建强刘锁章帅军
申请(专利权)人:浙江亚欣包装材料有限公司
类型:发明
国别省市:

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