一种屏下阴极材料的去除系统及去除方法技术方案

本发明专利技术公开了一种屏下阴极材料的去除系统，包括：激光发射器，激光发射器用于发射激光；二维可调狭缝组件，二维可调狭缝组件用于将激光整形为矩形光斑或线形光斑；管镜，管镜位于二维可调狭缝组件远离激光发射器的一端，用于将矩形光斑或线形光斑进行聚焦；物镜，物镜位于管镜远离二维可调狭缝组件的一端，用于将聚焦后的矩形光斑或线形光斑进行成像；真空腔体，真空腔体位于物镜远离管镜的一端，其内部用于放置屏体。本发明专利技术在真空环境下，利用精确可调节的红外激光能量和重力作用，使冗余的阴极材料脱离屏体，且超快激光脉宽极短，热效应小，可实现“冷加工”，从而可实现精准的选择性加工，又可避免对阴极层相邻结构造成热损伤和破坏。和破坏。和破坏。

【技术实现步骤摘要】
一种屏下阴极材料的去除系统及去除方法


[0001]本专利技术涉及显示行业激光微加工应用
，具体为一种柔性OLED屏屏下摄像头区域阴极材料的去除系统及去除方法。

技术介绍

[0002]屏下摄像头技术即将摄像头放置在屏幕下方，与传统的挖孔屏技术不同的是，摄像头区域还保留有完整的屏幕显示功能。即采用屏下摄像头后，在屏幕显示方面能够实现正面屏幕部分完整显示，具有类似弹出式摄像头方案的屏幕显示效果，而在手机重量和厚度等方面又具有挖孔屏能够达到的水平。为了进一步提升屏占比，让手机外观走向差异化、提升外型识别度、产品亮点和附加值，屏下摄像头技术成为屏幕显示行业需要攻克的关键技术。
[0003]为了兼顾摄像头区域的显示和透光性能，现有技术的做法是维持屏幕内部像素点数量及RGB比例不变的同时，缩小摄像头区域的子像素面积，使得摄像头区域子像素之间间隔(冗余空白区域)加大，减少子像素挡光；而显示屏幕在加工过程中需要在其下方涂覆阴极材料，阴极材料同样会被涂覆在冗余空白区域处，对摄像头的采光产生了阻碍作用，因此想要进一步获得屏幕的透光性能，就需要去除冗余空白区域的阴极材料，以提升子像素之间空余区域的透光特性，改善成像质量。
[0004]基于上述，中国专利技术专利CN202110955819.3一种屏下摄像显示屏真空蒸镀用共通金属掩膜版制作工艺公开了利用蒸镀的方式去除屏下的阴极材料，然而该工艺步骤繁多，在蒸镀过程中还容易对阴极层相邻的结构造成损伤和热影响，以及在加工过程中还会产生粉尘等副产物沉积到OLED面板上，需要二次清理的问题。
[0005]因此，需要一种易控制、不易污染、对阴极层相邻结构不会造成损伤的系统和工艺，以解决上述问题。

技术实现思路

[0006]本专利技术的目的在于提供一种屏下阴极材料的去除系统及去除方法，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0007]为了解决上述技术问题，本专利技术提供如下技术方案：一种屏下阴极材料的去除系统，包括：激光发射器，激光发射器用于发射激光；二维可调狭缝组件，二维可调狭缝组件用于将激光整形为矩形光斑或线形光斑；管镜，管镜位于二维可调狭缝组件远离激光发射器的一端，用于将矩形光斑或线形光斑进行聚焦；物镜，物镜位于管镜远离二维可调狭缝组件的一端，用于将聚焦后的矩形光斑或线形光斑进行成像；真空腔体，真空腔体位于物镜远离管镜的一端，其内部用于放置屏体。
[0008]优选的，二维可调狭缝组件包括：调节基板；横向光束调整模块，横向光束调整模块固定于调节基板上，且横向光束调整模块包括有横向光束调节板；纵向光束调整模块，纵向光束调整模块固定于调节基板上，且纵向光束调整模块包括有纵向光束调节板；横向光
束调节板与纵向光束调节板叠放，光束通过横向光束调节板和纵向光束调节板后，形成矩形光斑或线形光斑。
[0009]优选的，横向光束调节板包括有横向光束调节板A和横向光束调节板B，横向光束调节板A和横向光束调节板B均与调节基板滑动连接；横向光束调整模块还包括：第一马达；第一双向丝杆，第一双向丝杆与第一马达的输出端连接；第一丝杆支撑座，第一丝杆支撑座与调节基板固定连接，第一丝杆支撑座与第一双向丝杆转动连接；第一丝杆螺母A，第一丝杆螺母A与第一双向丝杆的一段螺纹螺接，且第一丝杆螺母A与横向光束调节板A固定连接；第一丝杆螺母B，第一丝杆螺母B与第一双向丝杆的另一段螺纹螺接，且第一丝杆螺母B与横向光束调节板B固定连接。
[0010]优选的，纵向光束调节板包括有纵向光束调节板A和纵向光束调节板B，纵向光束调节板A和纵向光束调节板B均与调节基板滑动连接；纵向光束调整模块还包括：第二马达；第二双向丝杆，第二双向丝杆与第二马达的输出端连接；第二丝杆支撑座，第二丝杆支撑座与调节基板固定连接，第二丝杆支撑座与第二双向丝杆转动连接；第二丝杆螺母A，第二丝杆螺母A与第二双向丝杆的一段螺纹螺接，且第二丝杆螺母A与纵向光束调节板A固定连接；第二丝杆螺母B，第二丝杆螺母B与第二双向丝杆的另一段螺纹螺接，且第二丝杆螺母B与纵向光束调节板B固定连接。
[0011]优选的，一种屏下阴极材料的去除系统还包括：光学衰减组件，光学衰减组件位于激光发射器与二维可调狭缝组件之间；扩束准直组件，扩束准直组件位于光学衰减组件与二维可调狭缝组件之间；激光匀光组件，激光匀光组件位于扩束准直组件与二维可调狭缝组件之间。
[0012]优选的，一种屏下阴极材料的去除系统还包括：成像二向色镜，成像二向色镜位于物镜与真空腔体之间；同轴成像组件，同轴成像组件位于成像二向色镜一侧；光源，光源位于真空腔体内。
[0013]优选的，一种屏下阴极材料的去除系统还包括：激光二向色镜，激光二向色镜位于成像二向色镜与真空腔体之间；自动对焦组件，自动对焦组件位于激光二向色镜一侧。
[0014]优选的，还包括反射镜，反射镜位于激光匀光组件与二维可调狭缝组件之间。
[0015]一种屏下阴极材料的去除方法，包括：
[0016]S1.将屏体置于真空腔内，使屏体位于冗余阴极材料的上方，使冗余阴极材料与放置面之间悬空；
[0017]S2.使红外激光穿过屏体作用于冗余阴极材料上，使冗余阴极材料脱离屏体。
[0018]优选的，步骤S2包括：
[0019]S2a.发射红外激光；
[0020]S2b.衰减红外激光；
[0021]S2c.将衰减后的红外激光进行扩束和准直；
[0022]S2d.将高斯能量分布的激光光束整形为平顶能量分布的激光光束；
[0023]S2e.调整激光光束的尺寸。
[0024]与现有技术相比，本专利技术所达到的有益效果是：
[0025]1.本专利技术公开的一种屏下阴极材料的去除系统及去除方法，使屏体侧位于阴极侧的上方，经过光束整形的超快红外激光光束透过屏体聚焦于阴极层区域，将摄像头区域子
像素之间的冗余阴极材料进行去除加工，在此过程中本去除系统中的二维可调狭缝组件配合自动对焦组件，可使激光能量始终聚焦于需要加工的阴极层处，且超快激光脉宽极短，热效应小，可实现“冷加工”，从而可对冗余的阴极材料进行精准的选择性加工，又可避免激光能量对冗余阴极材料的相邻结构造成热损伤和破坏；且加工过程中屏体放置在真空腔体内，可避免加工过程环境中异物对屏体污染，以及对阴极材料的氧化等问题，同时加工过程产生的微粒等，在真空环境下由于重力作用和激光脉冲轰击作用，会脱离屏体向下落沉积于真空腔底部，从而避免了微粒粉尘等落到屏体阴极上污染屏体的问题；另外本去除系统还设置了光学衰减组件、扩束准直组件、和激光匀光组件，可将高斯能量分布的激光整形成能量分布更为均匀的平顶(Top
‑
Hat)能量分布的激光，使加工均匀性好，颗粒物和材料溅射少；同时配备了去除系统，使加工过程可实时观察监控。
附图说明
[0026]附图用来提供对本专利技术的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本专利技术的实施例一起用于解释本专利技术，并不构成对本专利技术的限制。在附图中：
[0027]图本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种屏下阴极材料的去除系统，其特征在于，包括：激光发射器，所述激光发射器用于发射激光；二维可调狭缝组件，所述二维可调狭缝组件用于将激光整形为矩形光斑或线形光斑；管镜，所述管镜位于所述二维可调狭缝组件远离所述激光发射器的一端，用于将矩形光斑或线形光斑进行聚焦；物镜，所述物镜位于所述管镜远离所述二维可调狭缝组件的一端，用于将聚焦后的矩形光斑或线形光斑进行成像；真空腔体，所述真空腔体位于所述物镜远离所述管镜的一端，其内部用于放置屏体。2.根据权利要求1所述的一种屏下阴极材料的去除系统，其特征在于，所述二维可调狭缝组件包括：调节基板；横向光束调整模块，所述横向光束调整模块固定于所述调节基板上，且所述横向光束调整模块包括有横向光束调节板；纵向光束调整模块，所述纵向光束调整模块固定于所述调节基板上，且所述纵向光束调整模块包括有纵向光束调节板；所述横向光束调节板与所述纵向光束调节板叠放，光束通过所述横向光束调节板和所述纵向光束调节板后，形成矩形光斑或线形光斑。3.根据权利要求2所述的一种屏下阴极材料的去除系统，其特征在于：所述横向光束调节板包括有横向光束调节板A和横向光束调节板B，所述横向光束调节板A和所述横向光束调节板B均与所述调节基板滑动连接；所述横向光束调整模块还包括：第一马达；第一双向丝杆，所述第一双向丝杆与所述第一马达的输出端连接；第一丝杆支撑座，所述第一丝杆支撑座与所述调节基板固定连接，所述第一丝杆支撑座与所述第一双向丝杆转动连接；第一丝杆螺母A，所述第一丝杆螺母A与所述第一双向丝杆的一段螺纹螺接，且所述第一丝杆螺母A与所述横向光束调节板A固定连接；第一丝杆螺母B，所述第一丝杆螺母B与所述第一双向丝杆的另一段螺纹螺接，且所述第一丝杆螺母B与所述横向光束调节板B固定连接。4.根据权利要求2所述的一种屏下阴极材料的去除系统，其特征在于：所述纵向光束调节板包括有纵向光束调节板A和纵向光束调节板B，所述纵向光束调节板A和所述纵向光束调节板B均与所述调节基板滑动连接；所述纵向光束调整模块还包括：第二马达；第二双向丝杆，所述第二双向丝杆...

【专利技术属性】
技术研发人员：白丹妮，
申请(专利权)人：珠海东辉半导体装备有限公司，
类型：发明
国别省市：