【技术实现步骤摘要】
一种新型高维持电压SCR结构
[0001]本专利技术涉及芯片保护
,具体是一种新型高维持电压SCR结构。
技术介绍
[0002]静电放电(ESD)是指物体带有不同的静电电荷,在互相靠近或接触时,电荷发生转移的自然现象。静电放电可以分为两个阶段,第一阶段是电荷在物体表面逐渐积累的过程,第二阶段是放电过程。在集成电路产业中,在芯片制造、封装、运输等过程中,芯片内部或外界环境可能会形成一定量的电荷积累。当芯片与外界形成导电通路后,聚集在电路内部或者外界的电荷通过Pin引脚流过芯片,虽然总电荷量不多,但由于ESD过程时间短,电应力大,会产生高电压大电流,在芯片内的局部空间,短时间内大量焦耳热积累,温度迅速升高造成芯片被烧毁。
[0003]为了避免芯片在发生静电放电过程中被损坏,需要对芯片添加必要的ESD防护。芯片的片上防护一般是在内部核心电路的引脚并联ESD防护电路。电路正常工作时,ESD防护电路处于关闭状态,当ESD事件发生时,由于瞬时的高电压,ESD防护电路开启,提供一条导通电阻很低的电流泄放路径,泄放大部分静电电 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种新型高维持电压SCR结构,包括P型衬底(100),其特征在于:所述P型衬底(100)顶部设有一组P型阱区(200)和一组第一N型阱区(300),所述P型阱区(200)远离第一N型阱区(300)一侧设有第二N型阱区(400);所述P型阱区(200)一侧设有第一P+重掺杂区域(500),所述P型阱区(200)另一侧设有第二P+重掺杂区域(600);所述P型阱区(200)上设有第三P+重掺杂区(201),所述第三P+重掺杂区(201)两侧均设有浅沟道隔离,所述第一P+重掺杂区域(500)设置在浅沟道隔离远离第三P+重掺杂区(201)一侧。2.根据权利要求1所述的一种新型高维持电压SCR结构,其特征在于:所述第一P+重掺杂区域(500)和第三P+重掺杂区(201)通过金属线互连。3.根据权利要求2所述的一种新型高维持电压SCR结构,其特征在于:所述第一P+重掺杂区域(500)设置在P型阱区(200)与第一N型阱区(300)桥接处,所述第二P+重掺杂区域(600)设置在P型...
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