【技术实现步骤摘要】
一种半导体晶圆用检测装置
[0001]本技术涉及半导体晶圆
,具体为一种半导体晶圆用检测装置。
技术介绍
[0002]半导体指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料,往往制作成晶圆,晶圆是指制作硅半导体电路所用的硅晶片,其原始材料是硅,高纯度的多晶硅溶解后掺入硅晶体晶种,然后慢慢拉出,形成圆柱形的单晶硅,硅晶棒在经过研磨,抛光,切片后,形成硅晶圆片,也就是晶圆,晶圆的主要加工方式为片加工和批加工,即同时加工一片或多片晶圆,随着半导体特征尺寸越来越小,加工及测量设备越来越先进,使得晶圆加工出现了新的数据特点,同时,特征尺寸的减小,使得晶圆加工时,空气中的颗粒数对晶圆加工后质量及可靠性的影响增大,而随着洁净的提高,颗粒数也出现了新的数据特点,在晶圆制作完毕后,需要进行检测,故此需要使用到半导体晶圆用检测装置。
[0003]传统的半导体晶圆用检测装置,在使用时大多调节效果均不佳,在室内光感无法进行测量时,无法通过调节来改变检测头的位置,导致在光线较差时,无法进行检测,还需工人手动使用手电筒进行照明,使用较为不便利。 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种半导体晶圆用检测装置,包括底座(1),其特征在于:所述底座(1)的底部两侧均安装有移动机构(2),所述底座(1)的顶部安装有升降机构(3),所述升降机构(3)的顶部安装有滑动机构(4),所述滑动机构(4)的外壁安装有支撑板(5),所述支撑板(5)的外壁安装有调节机构(6)。2.根据权利要求1所述的一种半导体晶圆用检测装置,其特征在于:所述移动机构(2)包括万向轮(201)、固定杆(202)、合页(203)和旋转杆(204),所述万向轮(201)均设置在底座(1)底部两侧,所述底座(1)的底部均焊接有若干个固定杆(202),所述固定杆(202)的底部安装有合页(203),所述合页(203)的底部连接有旋转杆(204)。3.根据权利要求1所述的一种半导体晶圆用检测装置,其特征在于:所述升降机构(3)包括升降套(301)、限位块(302)、限位孔(303)和升降杆(304),所述升降套(301)焊接在底座(1)顶部,所述升降套(301)的外壁贯穿有限位块(302),所述限位块(302)的外壁与限位孔(303)的内壁配合安装,所述限位孔(303)开设在升降杆(304)的外壁表面。4.根据权利要求1所述的一种半导体晶圆用检测装置,其特征在于:所述滑动机构(4)包括固定板(401)、第一滑槽(402)、第一滑块(403)、滑动板(404)和替换膜(405),所...
【专利技术属性】
技术研发人员:林虹虹,
申请(专利权)人:嘉兴鸿禹科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
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