本申请公开了一种曝光机、挡板位置分析方法及装置。曝光机包括：玻璃基板；挡板，与所述玻璃基板相对设置；掩膜版，设于所述挡板和所述基板之间，所述掩膜版包括曝光区、非曝光区以及标尺，所述标尺包括尺身和设于所述尺身的刻度，所述刻度的刻度参考线与所述曝光区和所述非曝光区的分界线重合，所述刻度的测量范围大于所述挡板的衍射区域的尺寸，所述挡板用于遮挡所述非曝光区，且所述挡板的边缘与所述分界线重合。本申请实施例中设置标尺对挡板位置精度进行监控，如果发现异常可以及时修正，避免不良品产出后报废。免不良品产出后报废。免不良品产出后报废。
【技术实现步骤摘要】
曝光机、挡板位置分析方法及装置
[0001]本申请涉及显示
，具体涉及一种曝光机、挡板位置分析方法及装置。
技术介绍
[0002]使用掩膜板(mask)在玻璃基板上制作图形时，由于每一次曝光不需要用到掩膜板所有区域，因此要使用挡板对掩膜板上下左右的非曝光区域进行遮挡，防止基板上的图案过大或过小。但挡板是通过机械驱动的，其驱动位置受机械因素影响，在生产中可能会出现偏差。当挡板的位置与预设位置偏差较大时，会导致玻璃基板上的图案受到影响，使最终的产品质量下降。
[0003]目前对于CF(Color Filter，彩色滤光片)基板，由于前期没有对挡板的位置进行，挡板位置放错了或位置发生偏移无法及时监控，只有等产品做出来才能发现问题，导致不良品产出后报废。
技术实现思路
[0004]本申请实施例提供一种曝光机、挡板位置分析方法及装置，用于设置标尺对挡板位置精度进行监控，如果发现异常可以及时修正，避免不良品产出后报废。
[0005]第一方面，本申请实施例提供一种曝光机，包括：
[0006]玻璃基板；
[0007]挡板，与所述玻璃基板相对设置；
[0008]掩膜版，设于所述挡板和所述基板之间，所述掩膜版包括曝光区、非曝光区以及标尺，所述标尺包括尺身和设于所述尺身的刻度，所述刻度的刻度参考线与所述曝光区和所述非曝光区的分界线重合，所述刻度的测量范围大于所述挡板的衍射区域的尺寸，所述挡板用于遮挡所述非曝光区，且所述挡板的边缘与所述分界线重合。
[0009]本实施例中，设置标尺对挡板位置精度进行监控，如果发现异常可以及时修正，避免不良品产出后报废，缩短tact time，增加产能。
[0010]在一些实施例中，所述掩膜版包括多个标尺。
[0011]本实施例中，由于挡板的衍射区域的边缘线并不是完全规律、圆滑的线条，而是存在一定的波动，设置多个标尺，基于多个标尺的投影信息进行分析监控，避免由于设置单一的标尺对挡板的位置进行监控导致误差较大。
[0012]在一些实施例中，所述多个标尺沿所述分界线的延伸方向间隔设置。
[0013]本实施例中，多个标尺沿分界线的延伸方向间隔设置，采集衍射区域不同位置的边缘线，平衡衍射区域边缘的波动导致的误差。
[0014]在一些实施例中，所述刻度的数字由所述刻度参考线处的刻度数字开始依次向两侧递增或递减。
[0015]本实施例中，由于刻度的刻度参考线是挡板在预设位置也就是挡板边缘与分界线重合时，标尺投影到玻璃基板上挡板衍射区域的图像的中心线，将刻度参考线设置为刻度
的中心线能够更加直观快速确定挡板是否发生偏移。
[0016]第二方面，本申请提供一种挡板位置分析方法，包括：
[0017]控制曝光光线照射所述曝光机的掩膜版；
[0018]获取曝光在所述曝光机的玻璃基板上的标尺信息；
[0019]根据所述标尺信息分析所述曝光机的挡板的挡板位置；
[0020]若所述挡板位置偏移预设位置，则根据所述挡板位置对所述挡板进行调节。
[0021]本实施例中，设置标尺对挡板位置精度进行监控，如果发现异常可以及时修正，避免不良品产出后报废，缩短tact time，增加产能。
[0022]在一些实施例中，所述获取曝光在所述曝光机的玻璃基板上的标尺信息，包括：
[0023]获取曝光在所述曝光机的玻璃基板上的多个标尺的刻度信息；
[0024]根据所述多个标尺的刻度信息确定所述标尺信息。
[0025]本实施例中，由于挡板的衍射区域的边缘线并不是完全规律、圆滑的线条，而是存在一定的波动，设置多个标尺，基于多个标尺的投影信息进行分析监控，避免由于设置单一的标尺对挡板的位置进行监控导致误差较大。
[0026]在一些实施例中，所述根据所述标尺信息分析所述曝光机的挡板的挡板位置，包括：
[0027]根据所述标尺信息确定所述标尺的刻度参考线；
[0028]根据所述刻度参考线分析所述挡板的挡板位置。
[0029]本实施例中，由于刻度的刻度参考线是挡板在预设位置也就是挡板边缘与分界线重合时，标尺投影到玻璃基板上挡板衍射区域的图像的中心线，将刻度参考线作为参考能够更加直观快速确定挡板是否发生偏移。
[0030]在一些实施例中，所述根据所述刻度参考线分析所述挡板的挡板位置，包括：
[0031]若所述刻度参考线为所述标尺信息的中心线，则所述挡板位置为预设位置；
[0032]若所述刻度参考线非所述标尺信息的中心线，则根据所述刻度参考线的偏移信息分析所述挡板的挡板位置。
[0033]本实施例中，如果刻度参考线不是标尺信息的中心线，说明挡板的边缘与曝光区和非曝光区的分界线不重合，挡板位置不是预设位置，挡板发生了偏移，刻度参考线与挡板边缘相对应，基于刻度参考线的偏移能够对应快速确认挡板边缘的偏移。
[0034]在一些实施例中，所述偏移信息包括偏移方向和偏移量，所述若所述刻度参考线非所述标尺信息的中心线，则根据所述刻度参考线的偏移量分析所述挡板的挡板位置，包括：
[0035]若所述刻度参考线非所述标尺信息的中心线，则所述挡板位置偏移预设位置；
[0036]根据所述标尺信息确定所述刻度参考线两侧的刻度数据；
[0037]根据所述两侧的刻度数据分析所述刻度参考线的所述偏移方向和所述偏移量；
[0038]根据所述偏移方向和所述偏移量分析所述挡板的挡板位置。
[0039]本实施例中，刻度参考线与挡板边缘相对应，以刻度参考线为参考，刻度参考线的偏移方向和偏移量即为挡板的偏移方向和偏移量，从而快速确定挡板的挡板位置。
[0040]第三方面，本申请提供一种挡板位置分析装置，包括：
[0041]曝光模块，用于控制曝光光线照射所述曝光机的掩膜版；
[0042]信息获取模块，与所述曝光模块通讯连接，用于获取曝光在所述曝光机的玻璃基板上的标尺信息；
[0043]位置分析模块，与所述信息获取模块通讯连接，用于根据所述标尺信息分析所述曝光机的挡板的挡板位置；
[0044]挡板调节模块，与所述位置分析模块通讯连接，用于若所述挡板位置偏移预设位置，则根据所述挡板位置对所述挡板进行调节。
[0045]本实施例中，设置标尺对挡板位置精度进行监控，如果发现异常可以及时修正，避免不良品产出后报废，缩短tact time，增加产能。
[0046]在一些实施例中，信息获取模块还用于获取曝光在所述曝光机的玻璃基板上的多个标尺的刻度信息；根据所述多个标尺的刻度信息确定所述标尺信息。
[0047]本实施例中，由于挡板的衍射区域的边缘线并不是完全规律、圆滑的线条，而是存在一定的波动，设置多个标尺，基于多个标尺的投影信息进行分析监控，避免由于设置单一的标尺对挡板的位置进行监控导致误差较大。
[0048]在一些实施例中，位置分析模块还用于根据所述标尺信息确定所述标尺的刻度参本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种曝光机，其特征在于，包括：玻璃基板；挡板，与所述玻璃基板相对设置；掩膜版，设于所述挡板和所述基板之间，所述掩膜版包括曝光区、非曝光区以及标尺，所述标尺包括尺身和设于所述尺身的刻度，所述刻度的刻度参考线与所述曝光区和所述非曝光区的分界线重合，所述刻度的测量范围大于所述挡板的衍射区域的尺寸，所述挡板用于遮挡所述非曝光区，且所述挡板的边缘与所述分界线重合。2.如权利要求1所述的曝光机，其特征在于，所述掩膜版包括多个标尺。3.如权利要求2所述的曝光机，其特征在于，所述多个标尺沿所述分界线的延伸方向间隔设置。4.如权利要求1所述的曝光机，其特征在于，所述刻度的数字由所述刻度参考线处的刻度数字开始依次向两侧递增或递减。5.一种挡板位置分析方法，应用于上述权利要求1至4任意一项所述的曝光机，其特征在于，包括：控制曝光光线照射所述曝光机的掩膜版；获取曝光在所述曝光机的玻璃基板上的标尺信息；根据所述标尺信息分析所述曝光机的挡板的挡板位置；若所述挡板位置偏移预设位置，则根据所述挡板位置对所述挡板进行调节。6.如权利要求5所述的挡板位置分析方法，其特征在于，所述获取曝光在所述曝光机的玻璃基板上的标尺信息，包括：获取曝光在所述曝光机的玻璃基板上的多个标尺的刻度信息；根据所述多个标尺的刻度信息确定所述标尺信息。7.如权利要求5所述的挡板位置分析方法，其特征在于，所述根据所述标尺信息分析所述曝光机的挡板的...
【专利技术属性】
技术研发人员：何武，
申请(专利权)人：TCL华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
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