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本申请公开了一种曝光机、挡板位置分析方法及装置。曝光机包括：玻璃基板；挡板，与所述玻璃基板相对设置；掩膜版，设于所述挡板和所述基板之间，所述掩膜版包括曝光区、非曝光区以及标尺，所述标尺包括尺身和设于所述尺身的刻度，所述刻度的刻度参考线与所述...
该专利属于TCL华星光电技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过TCL华星光电技术有限公司授权不得商用。

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