一种用于提高MOCVD沉积中带材运动稳定性的弧形板制造技术

本发明专利技术公开一种用于提高MOCVD沉积中带材运动稳定性的弧形板，包括弧形板本体，其实施为一面为平面，另一面为弧面；所述弧形板本体的宽度方向的其中一个侧面上加工有若干间隔的、且朝向另一个侧面延伸的孔，所述孔用于插入控温热电偶；所述弧形板本体的弧面的两端分别铣有多个用于限制带材横向漂移的限位部。通过在弧形板上引入限位机构也即限位槽，可以保证带材在限位槽内顺利运动，也可起到限制带材横向漂移的作用。横向漂移的作用。横向漂移的作用。

【技术实现步骤摘要】
一种用于提高MOCVD沉积中带材运动稳定性的弧形板


[0001]本专利技术涉及多超导材料
，具体地涉及一种用于提高MOCVD沉积中带材运动稳定性的弧形板。

技术介绍

[0002]在MOCVD工艺制备高温超导带材时，基底带材需要被加热至工艺温度后才可进行工艺沉积。一般用于MOCVD制备REBCO薄膜的加热方式有如下三种：1）热壁式加热；2）接触式传导加热；3）基带直接通电加热。三者中，接触式传导加热更加适合于长带材的稳定制备，相比热壁式加热方式，其基带上方沉积空间温度相对较低，更容易控制MOCVD过程中的气相反应。
[0003]在热接触式传导加热过程中，基底带材是通过一块哈氏合金弧形板实现带材加热，并在沉积区进行超导膜的沉积。
[0004]为了提高带材的均匀性，以及提高生产效率，一般用于生产超导带材的设备，会采用螺旋缠绕的方式进行走带，即同一根带材会几次紧贴在弧形板上经过沉积区域。
[0005]然而，带材与带材中间存在一个非沉积区间，该区域为暴露在喷淋器下方的弧形板的一部分，随着生产的持续进行，会有越来越厚的化学源在本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于提高MOCVD沉积中带材运动稳定性的弧形板，其特征在于，包括弧形板本体，其实施为一面为平面，另一面为弧面；所述弧形板本体的宽度方向的其中一个侧面上加工有若干间隔的、且朝向另一个侧面延伸的孔，所述孔用于插入控温热电偶；所述弧形板本体的弧面的两端分别铣有多个用于限制带材横向漂移的限位部。2.根据权利要求1所述的用于提高MOCVD沉积中带材运动稳定性的弧形板，其特征在于，所述限位部为由弧面向平面方...

【专利技术属性】
技术研发人员：章鹏，冯仁，岳鹏，张爱兵，迮建军，古宏伟，蔡渊，
申请(专利权)人：苏州新材料研究所有限公司，
类型：发明
国别省市：