确定样本压射区域的集合的方法和信息处理装置制造方法及图纸

公开了确定样本压射区域的集合的方法和信息处理装置。提供了从基板的多个压射区域中确定样本压射区域的集合的方法，在每个样本压射区域中标记的位置要被实际地测量。该方法包括：设定样本压射区域的集合的初始布置，以及向样本压射区域的集合添加在除了初始布置中的样本压射区域之外的压射区域之中的如下压射区域，在该压射区域中指示出使用估计模型获得的标记的位置的测量值的估计值的不确定度的值超出预定阈值。的值超出预定阈值。的值超出预定阈值。

【技术实现步骤摘要】
确定样本压射区域的集合的方法和信息处理装置


[0001]本专利技术涉及确定样本压射区域的集合的方法、获得测量值的方法、信息处理装置、光刻装置、存储介质和物品制造方法。

技术介绍

[0002]伴随着器件的微图案化和更高集成度，对器件对准精度的改善的需求正在增长。为了改善对准精度，有必要以高精度检查对准偏移(在下文中将称作覆盖(overlay))，并基于对准偏移来控制偏移量。因此，对增大的覆盖检查精度的需求也在增长。
[0003]为了以高精度执行对准和覆盖检查，有必要增大在测量目标对象(比如晶圆或面板，在下文中将称作基板)上的测量点的数量。然而，增大测量点的数量导致测量/检查时间的增加，并且生产率降低。为了防止这种情况，国际公布No.2018/133999和美国专利No.10545412的每个提出了虚拟量测(Virtual Metrology)系统。这个系统使用基于在装置的操作期间的各种传感器的数据、在器件制造工艺中的操作日志、加工基板的装置的类型等的统计模型来估计没有实际地经历测量/检查的点的值。这实现了测量点的数量的虚拟增加。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种从基板的多个压射区域中确定样本压射区域的集合的方法，在每个样本压射区域中标记的位置要被实际地测量，该方法包括以下步骤：设定样本压射区域的集合的初始布置；以及向样本压射区域的集合添加在除了初始布置中的样本压射区域之外的压射区域之中的如下压射区域，在该压射区域中指示出使用估计模型获得的标记的位置的测量值的估计值的不确定度的值超出预定阈值。2.根据权利要求1所述的方法，其中，估计模型接收输入数据，该输入数据包括在上层和下层之间的覆盖测量值、器件制造工艺参数、在光刻步骤中使用的传感器的参数和通过实际地测量样本压射区域中的标记的位置而获得的测量值，并且输出在除了样本压射区域之外的压射区域中的标记的位置的测量值的估计值。3.根据权利要求2所述的方法，其中，估计模型是如下模型，在该模型中，在使用通过实际地测量样本压射区域中的标记的位置而获得的测量值作为教师数据时，输入/输出关系被学习。4.根据权利要求3所述的方法，其中，估计模型是根据教师数据来学习多项式的回归系数的多项式回归模型。5.根据权利要求4所述的方法，其中，在添加步骤中，其中指示出不确定度的值超出阈值的压射区域被提取，并且，在提取出的压射区域之中的具有最大的指示出不确定度的值的压射区域被添加到样本压射区域的集合。6.根据权利要求5所述的方法，还包括以下步骤：在添加步骤中添加新的样本压射区域之后，计算回归系数的概率分布的后验分布；以及根据计算出的后验分布，计算指示出在每个压射区域中的标记的位置的测量值的估计值的不确定度的值，以及重复地执行添加步骤、计算后验分布的步骤以及计算值的步骤直到没有如下的压射区域为止，该压射区域的在计算值的步骤中计算出的、指示出不确定度的值超出阈值。7.根据权利要求1所述的方法，其中，标记的位置是在与基板的表面平行的方向上的标记的位置。8.根据权利要求1所述的方法，其中，标记的位置是在与基板的表面垂直的方向上的标记的位置。9.根据权利要求1所述的方法，其中，标记的位置是在上层中的覆盖标记和在下层中的覆盖...

【专利技术属性】
技术研发人员：江头信一，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：