【技术实现步骤摘要】
描画装置
[0001]本专利技术涉及对基板进行描画的描画装置。
[0002][参照相关申请][0003]本申请主张于2020年9月23日申请的日本国专利申请JP2020
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158317的优先权的利益，该申请的全部公开内容并入本申请中。
技术介绍
[0004]以往，通过对形成在半导体基板、印刷电路板、有机EL显示装置或液晶显示装置用的玻璃基板等(以下称为“基板”)上的感光材料照射光来描画图案。在这种描画装置中，依次进行基板的搬入、基板的定位、对基板的描画以及基板的搬出。
[0005]近年来，为了提高描画装置的处理能力，提出有如下方案：在一台描画装置中设置了两个载物台、两个定位检测系统和一个曝光头，在对一个载物台上的基板描画期间，进行对另一个载物台上的基板的更换和定位。
[0006]例如，提出有如下方案：在国际公开第2003/010802号(文献1)的步进扫描式的扫描型投影曝光设备中，当在对一个载物台上的基板进行曝光期间进行另一个载物台的移动时，对另一个载物台的移动速度和移动时的加速度设...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种描画装置，对基板进行描画，其中，具备：图案描画部，对在下方水平移动的基板的上侧主面照射光来描画图案；第一基板保持部；第一移动机构，在所述图案描画部的下方在基板移动方向上水平移动所述第一基板保持部；第二基板保持部，与所述第一基板保持部相邻地配置；第二移动机构，在与所述基板移动方向交叉的方向上与所述第一移动机构并排配置，在所述图案描画部的下方在所述基板移动方向上水平移动所述第二基板保持部；框架，支撑所述第一移动机构和所述第二移动机构；配重，在与所述基板移动方向交叉的配重移动方向上可移动地安装于所述框架；配重移动机构，在所述配重移动方向上移动所述配重；以及配重移动控制部，基于所述基板移动方向上的所述第一基板保持部和所述第二基板保持部的位置控制所述配重移动机构，使得所述配重配置于抑制因所述第一基板保持部和所述第二基板保持部的重量导致的所述框架的变形的位置。2.根据权利要求1所述的描画装置，其中，所述配重移动方向与所述基板移动方向垂直。3.根据权利要求1所述的描画装置，其中，所述配重的重心在上下方向上位于比所述第一基板保持部的上表面和所述第二基板保持部的上表面更靠下侧的位置。4.根据权利要求3所述的描画装置，其中，所述配重的上端在上下方向上位于比所述第一基板保持部的所述上表面和所述第二基板保持部的所述上表面更靠下侧的位置。5.根据权利要求1所述的描画装置，其中，所述框架具备机架部，所述机架部横跨所述第一移动机构和所述第二移动机构并且支撑所述图案描画部，所述机架部从所述第一移动机构和所述第二移动机构的所述基板移动方向上的中央部的上方向所述基板移动方向的一侧延伸，所述第一移动机构和所述第二移动机构从所述机架部向所述基板移动方向的另一侧突出，所述配重相对于所述第一移动机构和所述第二移动机构在所述基板移动方向的另一侧相邻地配置。6.根据权利要求1所述的描画装置，其中，所述框架的刚性按照所述第一移动机构和所述第二移动机构的所述基板移动方向上的一侧的端部、中央部和另一侧的端部的顺序变低，所述配重相对于所述第一移动机构和所述第二移动机构在所述基板移动方向的所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：藤田雄也，原望，福田浩士，早川直人，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：
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