掩模台垂向测量工装及掩模台垂向测量方法技术

本发明专利技术公开了一种掩模台垂向测量工装及掩模台垂向测量方法，该掩模台垂向测量工装包括：支撑座、测试支座、两个传感器支架和多个传感器，测试支座设置在支撑座上，两个传感器支架分别设置在测试支座两侧，且两个传感器支架均与测试支座连接，多个传感器分别设置在对应的传感器支架上。上述的掩模台垂向测量工装能够提高掩模台的垂向测量效率、提高光刻机产率、节约光刻机使用成本。相应地，本发明专利技术还提供一种掩模台垂向测量方法。一种掩模台垂向测量方法。一种掩模台垂向测量方法。

【技术实现步骤摘要】
掩模台垂向测量工装及掩模台垂向测量方法


[0001]本专利技术涉及集成电路制造领域，尤其涉及一种掩模台垂向测量工装及掩模台垂向测量方法。

技术介绍

[0002]一般地，为保证光刻机的曝光成像质量，需要保证掩模台承版面与物镜顶面之间的垂向距离等于物镜的物距，掩模台的垂向测量精度是保证光刻机曝光成像质量的重要前提。
[0003]现有技术中，普遍采用垂向测量块和千分表测量掩模台承版面与物镜顶面之间的垂向距离，垂向测量块的高度等于物镜的物距。测量时，将垂向测量块通过掩模台的镂空处放置于物镜顶面，之后使用大理石表座、千分表及标杆放置于垂向测量块顶面，分别对掩模台承版面上的4个测量点进行测量，如果4个测量点与垂向测量块的上表面不在同一平面上，则计算出误差并根据计算得到的误差调整掩模台垫块，调整后再分别对4个测量点进行测量，直至4个测量点与垂向测量块的上表面都在同一平面上，完成掩模台的垂向测量及调整操作。采用该种方式测量掩模台承版面与物镜顶面之间的垂向距离需要分别对4个测量点单独进行测量，测量操作复杂，测量效率低，影响光刻机产率。另外，为了确保测量精度，对垂向测量块的加工精度要求非常高，需要使用磨床根据物镜物距修模垂向测量块，并使用三坐标标定垂向高度与平行度，经过反复修模标定才能够达到加工精度要求，垂向测量块的加工劳动强度大、加工效率低，严重影响掩模台的垂向测量效率，进而影响光刻机产率。并且，每个垂向测量块只能适用于一台光刻机，不同机型的光刻机之间垂向测量块无法通用，生产过程中，需要根据每台光刻机的物镜物距加工多个垂向测量块，需要耗费大量的时间成本和人力成本，一定程度上影响光刻机的使用成本。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的在于提出一种掩模台垂向测量工装及掩模台垂向测量方法，能够提高掩模台的垂向测量效率、提高光刻机产率、节约光刻机使用成本。
[0005]为达此目的，一方面，本专利技术采用以下技术方案：
[0006]一种掩模台垂向测量工装，包括：支撑座、测试支座、两个传感器支架和多个传感器，所述测试支座设置在所述支撑座上，两个所述传感器支架分别设置在所述测试支座两侧，且两个传感器支架均与所述测试支座连接，多个所述传感器分别设置在对应的所述传感器支架上。
[0007]在其中一个实施例中，所述测试支座包括支座本体和支撑杆，所述支座本体与所述支撑座连接，所述支撑杆与所述支座本体连接，所述传感器支架与所述支撑杆滑动连接。
[0008]在其中一个实施例中，所述掩模台垂向测量工装还包括：顶紧旋钮，所述顶紧旋钮部分穿过所述传感器支架与所述支撑杆抵接。
[0009]在其中一个实施例中，所述掩模台垂向测量工装还包括：把手，所述把手与所述支
座本体连接。
[0010]在其中一个实施例中，所述传感器支架上设置有位置调节部，所述传感器通过所述位置调节部与所述传感器支架连接。
[0011]在其中一个实施例中，
[0012]所述掩模台垂向测量工装还包括：紧固件，所述位置调节部为开设在所述传感器支架上的条形孔，所述传感器通过所述紧固件和所述条形孔的配合与所述传感器支架连接；或，
[0013]所述位置调节部包括滑轨、滑块和顶紧件，所述滑轨与所述传感器支架连接，所述滑块与所述滑轨滑动连接，所述传感器与所述滑块连接，所述顶紧件分别穿过所述传感器和所述滑块后与所述传感器支架抵接。
[0014]在其中一个实施例中，所述支撑座与所述测试支座可拆卸连接。
[0015]在其中一个实施例中，所述支撑座的高度大于或等于光刻机的物镜物距。
[0016]在其中一个实施例中，多个所述传感器均具有可变量程。
[0017]另一方面，本专利技术还提供一种基于掩模台垂向测量工装的掩模台垂向测量方法，包括以下步骤：
[0018]将掩模台垂向测量工装的支撑座通过掩模台承版台的镂空处放置于物镜的顶面上，并定位各个传感器的触点位置；
[0019]取出工装，使用校准块同步标定各个传感器的初始测量值，使各个传感器的初始测量值相同；
[0020]将支撑座再次放到物镜的顶面上，同时启动各个传感器对掩模台承版面上的多个测量点进行测量，分别得到每个测量点处掩模台承版面与物镜的顶面之间的垂向距离；
[0021]将每个测量点处掩模台承版面与物镜的顶面之间的垂向距离与物镜物距进行比较，得到测量结果。
[0022]在其中一个实施例中，所述定位各个传感器的触点位置的步骤包括：根据所述物镜物距调节各个所述传感器的触点位置。
[0023]上述的掩模台垂向测量工装使用时，先将支撑座通过掩模台承版台的镂空处放置于物镜顶面上，并定位各个传感器的触点位置；之后，取出工装，使用校准块同步标定各个传感器的初始测量值，使各个传感器的初始测量值相同；然后，将支撑座再次放到物镜顶面，同时启动各个传感器对掩模台承版面上的多个测量点进行测量，分别得到每个测量点处掩模台承版面与物镜顶面之间的垂向距离，并将每个测量点处掩模台承版面与物镜顶面之间的垂向距离与物镜物距进行比较，如果测量点处掩模台承版面与物镜顶面之间的垂向距离与物镜物距不相等，则计算误差并根据误差对应调整掩模台垫块，调整后再次启动各个传感器对各测量点进行测量，直至各个测量点处掩模台承版面与物镜顶面之间的垂向距离均与物镜物距相等，完成掩模台的垂向测量及调整操作。
[0024]上述的掩模台垂向测量工装能够同时对掩模台承版面上的多个测量点进行测量，且测量操作简单方便，能够降低人工劳动强度、提高测量效率，有助于提高光刻机产率。并且，上述掩模台垂向测量工装可以根据光刻机的物镜物距调节传感器触点的位置，使传感器的测量量程与光刻机的物镜物距匹配，从而可以满足不同机型的光刻机的垂向测量使用需求，掩模台垂向测量工装的通用性高，能够有效节约光刻机的使用成本。
[0025]上述的掩模台垂向测量方法通过应用上述的掩模台垂向测量工装，具有测量效率高、测量成本低的有益效果，有利于提高光刻机产率、节约光刻机使用成本。
附图说明
[0026]图1是一个实施例中掩模台垂向测量工装的正视图；
[0027]图2是一个实施例中掩模台垂向测量工装的俯视图；
[0028]图3是一个实施例中掩模台垂向测量工装的校准标定结构示意图；
[0029]图4是一个实施例中掩模台垂向测量工装的应用结构示意图。
[0030]附图标记说明：
[0031]10-支撑座，20-测试支座，21-支座本体，22-支撑杆，30-传感器支架，40-传感器，50-掩模台承版台，60-物镜，70-校准块，80-顶紧旋钮，90-把手。
具体实施方式
[0032]下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本专利技术的技术方案。
[0033]在本专利技术的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种掩模台垂向测量工装，其特征在于，包括：支撑座(10)、测试支座(20)、两个传感器支架(30)和多个传感器(40)，所述测试支座(20)设置在所述支撑座(10)上，两个所述传感器支架(30)分别设置在所述测试支座(20)两侧，且两个传感器支架(30)均与所述测试支座(20)连接，多个所述传感器(40)分别设置在对应的所述传感器支架(30)上。2.根据权利要求1所述的掩模台垂向测量工装，其特征在于，所述测试支座(20)包括支座本体(21)和支撑杆(22)，所述支座本体(21)与所述支撑座(10)连接，所述支撑杆(22)与所述支座本体(21)连接，所述传感器支架(30)与所述支撑杆(22)滑动连接。3.根据权利要求2所述的掩模台垂向测量工装，其特征在于，所述掩模台垂向测量工装还包括：顶紧旋钮(80)，所述顶紧旋钮(80)部分穿过所述传感器支架(30)与所述支撑杆(22)抵接。4.根据权利要求2所述的掩模台垂向测量工装，其特征在于，所述掩模台垂向测量工装还包括：把手(90)，所述把手(90)与所述支座本体(21)连接。5.根据权利要求1所述的掩模台垂向测量工装，其特征在于，所述传感器支架(30)上设置有位置调节部，所述传感器(40)通过所述位置调节部与所述传感器支架(30)连接。6.根据权利要求5所述的掩模台垂向测量工装，其特征在于，所述掩模台垂向测量工装还包括：紧固件，所述位置调节部为开设在所述传感器支架(30)上的条形孔，所述传感器(40)通过所述紧固件和所述条形孔的配合与所述传感器支架(30...

【专利技术属性】
技术研发人员：孟昆鹏，薛雷，程凯，李高波，
申请(专利权)人：上海微电子装备集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：