掩模台垂向测量工装及掩模台垂向测量方法技术

本发明专利技术公开了一种掩模台垂向测量工装及掩模台垂向测量方法，该掩模台垂向测量工装包括：支撑座、测试支座、两个传感器支架和多个传感器，测试支座设置在支撑座上，两个传感器支架分别设置在测试支座两侧，且两个传感器支架均与测试支座连接，多个传感器分别设置在对应的传感器支架上。上述的掩模台垂向测量工装能够提高掩模台的垂向测量效率、提高光刻机产率、节约光刻机使用成本。相应地，本发明专利技术还提供一种掩模台垂向测量方法。一种掩模台垂向测量方法。一种掩模台垂向测量方法。

【技术实现步骤摘要】
掩模台垂向测量工装及掩模台垂向测量方法


[0001]本专利技术涉及集成电路制造领域，尤其涉及一种掩模台垂向测量工装及掩模台垂向测量方法。

技术介绍

[0002]一般地，为保证光刻机的曝光成像质量，需要保证掩模台承版面与物镜顶面之间的垂向距离等于物镜的物距，掩模台的垂向测量精度是保证光刻机曝光成像质量的重要前提。
[0003]现有技术中，普遍采用垂向测量块和千分表测量掩模台承版面与物镜顶面之间的垂向距离，垂向测量块的高度等于物镜的物距。测量时，将垂向测量块通过掩模台的镂空处放置于物镜顶面，之后使用大理石表座、千分表及标杆放置于垂向测量块顶面，分别对掩模台承版面上的4个测量点进行测量，如果4个测量点与垂向测量块的上表面不在同一平面上，则计算出误差并根据计算得到的误差调整掩模台垫块，调整后再分别对4个测量点进行测量，直至4个测量点与垂向测量块的上表面都在同一平面上，完成掩模台的垂向测量及调整操作。采用该种方式测量掩模台承版面与物镜顶面之间的垂向距离需要分别对4个测量点单独进行测量，测量操作复杂，测量效率低，影响光刻机产率。另外，为了确保测量精本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种掩模台垂向测量工装，其特征在于，包括：支撑座(10)、测试支座(20)、两个传感器支架(30)和多个传感器(40)，所述测试支座(20)设置在所述支撑座(10)上，两个所述传感器支架(30)分别设置在所述测试支座(20)两侧，且两个传感器支架(30)均与所述测试支座(20)连接，多个所述传感器(40)分别设置在对应的所述传感器支架(30)上。2.根据权利要求1所述的掩模台垂向测量工装，其特征在于，所述测试支座(20)包括支座本体(21)和支撑杆(22)，所述支座本体(21)与所述支撑座(10)连接，所述支撑杆(22)与所述支座本体(21)连接，所述传感器支架(30)与所述支撑杆(22)滑动连接。3.根据权利要求2所述的掩模台垂向测量工装，其特征在于，所述掩模台垂向测量工装还包括：顶紧旋钮(80)，所述顶紧旋钮(80)部分穿过所述传感器支架(30)与所述支撑杆(22)抵接。4.根据权利要求2所述的掩模台垂向测量工装，其特征在于，所述掩模台垂向测量工装还包括：把手(90)，所述把手(90)与所述支座本体(21)连接。5.根据权利要求1所述的掩模台垂向测量工装，其特征在于，所述传感器支架(30)上设置有位置调节部，所述传感器(40)通过所述位置调节部与所述传感器支架(30)连接。6.根据权利要求5所述的掩模台垂向测量工装，其特征在于，所述掩模台垂向测量工装还包括：紧固件，所述位置调节部为开设在所述传感器支架(30)上的条形孔，所述传感器(40)通过所述紧固件和所述条形孔的配合与所述传感器支架(30...

【专利技术属性】
技术研发人员：孟昆鹏，薛雷，程凯，李高波，
申请(专利权)人：上海微电子装备集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：