一种刻蚀设备及其防爆方法技术

本发明专利技术属于刻蚀技术领域，公开了一种刻蚀设备及其防爆方法。该刻蚀设备包括刻蚀反应箱和储液箱，储液箱通过药液管路与刻蚀反应箱连通并形成循环通路，储液箱内设置有加热器、冷却盘管和多个温度传感器；储液箱的底部设置排液管，排液管上设置阀门，阀门被配置为在达到刻蚀设备预设的生产值或温度传感器报警时使排液管与储液箱连通，排空储液箱内的刻蚀药液。该刻蚀设备，通过药液管路在刻蚀反应箱和储液箱之间形成循环回路，能够提高刻蚀药液的利用率，同时能够有效监控刻蚀药液的温度，在刻蚀药液温度异常或者达到刻蚀设备预设的生产值时能够及时将储液箱内的刻蚀药液排出，防止发生爆炸。止发生爆炸。止发生爆炸。

【技术实现步骤摘要】
一种刻蚀设备及其防爆方法


[0001]本专利技术涉及刻蚀
，尤其涉及一种刻蚀设备及其防爆方法。

技术介绍

[0002]由于铜导线制程具有低电阻、低延迟等优点，可以让讯号寻址速度更快、扫描线更密集，显示画质更清新；目前大尺寸薄膜晶体管液晶显示器中的导线普遍用铜取代铝，目前的铜导线刻蚀过程中，通常采用的刻蚀药液为双氧水系，该刻蚀药液在使用时会存在以下问题：随着刻蚀制程的持续，刻蚀药液中铜离子的浓度也会不断上升，而双氧水在铜离子的作用下会有加速分解的化学变化，进一步地，随着铜导线刻蚀过程的不断进行，刻蚀药液中铜离子的浓度也不断增加，双氧水的分解速率也越来越快，双氧水的分解速率将急剧加大，产生大量气体和热量，极易导致机台发生爆炸。
[0003]传统铜蚀刻制程设备通过药液温度检测系统实时监控刻蚀药液状态。当蚀刻药液温度超过设定值时，加热器自动断电，同时冷却盘管开始工作，降低蚀刻药液温度。但刻蚀设备发生异常时,温度会在短时间内急速上升，冷却盘管无法有效降低温度，从而导致爆炸。
[0004]因此，亟待一种刻蚀设备及其防爆方法来解决现有技术中的问题。

技术实现思路

[0005]本专利技术的目的在于提供一种刻蚀设备及其防爆方法，能够解决现有技术中的刻蚀设备在刻蚀过程中刻蚀药液温度急剧升高，冷却盘管无法有效降温，从而导致爆炸的问题。
[0006]为达此目的，本专利技术采用以下技术方案：
[0007]一种刻蚀设备，包括：
[0008]刻蚀反应箱；
[0009]储液箱，通过药液管路与所述刻蚀反应箱连通并形成循环通路，所述储液箱内设置有加热器，所述加热器能加热所述储液箱内的刻蚀药液；
[0010]所述储液箱内还设置有冷却盘管和多个温度传感器，所述冷却盘管内通冷却水，所述温度传感器被配置为检测所述储液箱内的温度；
[0011]所述储液箱的底部设置有排液管，所述排液管上设置有阀门，所述阀门被配置为在达到所述刻蚀设备预设的生产值或所述温度传感器报警时使所述排液管与所述储液箱连通，排空所述储液箱内的所述刻蚀药液。
[0012]可选地，所述储液箱上设置有铜离子监控器，所述铜离子监控器用于检测所述刻蚀药液的铜离子浓度。
[0013]可选地，所述储液箱上还设置有压力传感器，所述压力传感器用于检测所述储液箱内的压力。
[0014]可选地，连通刻蚀反应箱和所述储液箱的所述药液管路的入液口的位置高于出液口的位置，以使所述刻蚀药液回流到所述储液箱内。
[0015]可选地，所述药液管路上设置有多个球阀，所述球阀的球体上朝向所述刻蚀药液流动的方向设置有开口。
[0016]可选地，所述药液管路上设置有多个管路支架，所述管路支架用于支撑所述药液管路。
[0017]一种刻蚀设备的防爆方法，采用上述的刻蚀设备，包括：
[0018]用所述加热器加热所述储液箱内的所述刻蚀药液，当所述刻蚀药液的温度超过第一设定值时，所述加热器自动断电，同时向设置在所述储液箱内的所述冷却盘管通入冷却水对所述刻蚀药液降温；
[0019]当所述刻蚀药液的温度超过所述第一设定值小于第二设定值时，向所述储液箱内通入常温纯水，通过所述刻蚀药液与所述常温纯水混合，降低所述刻蚀药液的温度；
[0020]在达到刻蚀设备预设的生产值或所述刻蚀药液的温度超过所述第二预设值时，打开所述阀门，排空所述储液箱内的所述刻蚀药液。
[0021]可选地，在所述储液箱内设置铜离子监控器，用于检测所述储液箱内的铜离子浓度，在预设的时间内，所述储液箱内的铜离子浓度超过预设浓度，打开所述阀门，排空所述储液箱内的所述刻蚀药液。
[0022]可选地，在所述储液箱上部设置泄压管路，所述泄压管路与负压抽风机连通，使所述储液箱内处于负压状态；
[0023]当所述负压抽风机出现异常，所述储液箱内的压力超过预设压力时，切断刻蚀设备的电源，停止刻蚀工艺，打开所述阀门，排空所述储液箱内的所述刻蚀药液。
[0024]可选地，在所述储液箱的上部设置超液位溢流口，所述超液位溢流口与所述排液管连通，所述超液位溢流口的口径大于所述储液箱的进液口的两倍。
[0025]本专利技术的有益效果：
[0026]本专利技术提供的刻蚀设备，通过药液管路在刻蚀反应箱和储液箱之间形成循环回路，能够提高刻蚀药液的利用率，同时能够有效监控刻蚀药液的温度，在储液箱的底部设置排液管，在排液管上设置阀门，该阀门能够在达到刻蚀设备的预设值时或温度传感器报警时，能够及时排空储液箱中的刻蚀药液，防止发生爆炸，提高了刻蚀过程中的安全系数。
附图说明
[0027]图1是本专利技术提供的刻蚀设备的示意图；
[0028]图2是本专利技术提供的刻蚀设备的防爆方法的流程图一；
[0029]图3是本专利技术提供的刻蚀设备的防爆方法的流程图二。
[0030]图中：
[0031]1、刻蚀反应箱；
[0032]2、储液箱；21、排液管；211、阀门；2111、手动阀门；2112、气动阀门；22、超液位溢流口；23、刻蚀药液；24、常温纯水；
[0033]3、药液管路；31、球阀；32、管路支架；33、不间断电源；
[0034]4、加热器；
[0035]5、冷却盘管；
[0036]6、温度传感器；
[0037]7、铜离子监控器；
[0038]8、泄压管路；81、压力传感器。
具体实施方式
[0039]下面结合附图和实施例对本专利技术作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本专利技术，而非对本专利技术的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本专利技术相关的部分而非全部结构。
[0040]在本专利技术的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“相连”、“连接”、“固定”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本专利技术中的具体含义。
[0041]在本专利技术中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
[0042]在本实施例的描述中，术语“上”、“下”、“左”、“右”等方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述和简化操作，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。此外，术本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种刻蚀设备，其特征在于，包括：刻蚀反应箱(1)；储液箱(2)，通过药液管路(3)与所述刻蚀反应箱(1)连通并形成循环通路，所述储液箱(2)内设置有加热器(4)，所述加热器(4)能加热所述储液箱(2)内的刻蚀药液(23)；所述储液箱(2)内还设置有冷却盘管(5)和多个温度传感器(6)，所述冷却盘管(5)内通冷却水，所述温度传感器(6)被配置为检测所述储液箱(2)内的温度；所述储液箱(2)的底部设置有排液管(21)，所述排液管(21)上设置有阀门(211)，所述阀门(211)被配置为在达到所述刻蚀设备预设的生产值或所述温度传感器(6)报警时使所述排液管(21)与所述储液箱(2)连通，排空所述储液箱(2)内的所述刻蚀药液(23)。2.根据权利要求1所述的刻蚀设备，其特征在于，所述储液箱(2)上设置有铜离子监控器(7)，所述铜离子监控器(7)用于检测所述刻蚀药液(23)的铜离子浓度。3.根据权利要求1所述的刻蚀设备，其特征在于，所述储液箱(2)上还设置有压力传感器(81)，所述压力传感器(81)用于检测所述储液箱(2)内的压力。4.根据权利要求1所述的刻蚀设备，其特征在于，连通刻蚀反应箱(1)和所述储液箱(2)的所述药液管路(3)的入液口的位置高于出液口的位置，以使所述刻蚀药液(23)回流到所述储液箱(2)内。5.根据权利要求1
‑
4任一项所述的刻蚀设备，其特征在于，所述药液管路(3)上设置有多个球阀(31)，所述球阀(31)的球体上朝向所述刻蚀药液(23)流动的方向设置有开口。6.根据权利要求1
‑
4任一项所述的刻蚀设备，其特征在于，所述药液管路(3)上设置有多个管路支架(32)，所述管路支架(32)用于支撑所述药液管路(3)。7.一种刻蚀设备的...

【专利技术属性】
技术研发人员：李晓波，施利君，宋金林，
申请(专利权)人：苏州晶洲装备科技有限公司，
类型：发明
国别省市：