清洁夹具、包括清洁夹具的基板处理设备、基板处理设备的清洁方法技术

技术编号:32617179 阅读:19 留言:0更新日期:2022-03-12 17:45
本发明专利技术实施方式涉及一种基板处理设备,并且可以包括一种基板处理设备。所述基板处理设备包括:可旋转的旋转头;杯子,其围绕所述旋转头;清洁夹具,其位于所述旋转头上,并通过所述旋转头的旋转朝向所述杯子排放清洁液;以及喷嘴单元,其位于所述清洁夹具的上部部分处,并将所述清洁液供应到所述清洁夹具的上表面的中心,并且所述清洁夹具包括飞溅导向槽,所述飞溅导向槽被形成为凹陷的,以使得从所述喷嘴单元提供的所述清洁液利用由于所述旋转头的旋转引起的离心力朝向所述杯子飞溅。旋转引起的离心力朝向所述杯子飞溅。旋转引起的离心力朝向所述杯子飞溅。

【技术实现步骤摘要】
清洁夹具、包括清洁夹具的基板处理设备、基板处理设备的清洁方法


[0001]本文描述的实施例涉及一种基板处理设备,更具体地涉及一种可以清洁设置在液体处理单元中的杯子的基板处理设备。

技术介绍

[0002]执行诸如清洁、沉积、拍摄、蚀刻和离子注入的各种处理来制造半导体器件。在这些处理中,在拍摄处理中,依次执行涂敷、曝光和显影步骤。涂敷过程是将诸如抗蚀剂的光敏液体涂敷到基板表面上的过程。曝光过程是在其中形成光敏膜的基板上曝光电路图案的过程。显影过程是选择性地显影基板的曝光区域的过程。
[0003]通常,涂敷过程和显影过程是用于液体处理的过程,并且执行将处理液体供应到基板上的过程。在处理容器中进行基板的液体处理过程,并且通过处理容器回收用过的处理液体。
[0004]因为通过处理容器根据过程回收各种处理液体,所以处理液体粘附在处理容器上。粘附在处理容器上的处理液体随后产生废气,或者成为污染基板的主要原因。
[0005]图1示出了液体处理单元。
[0006]参考图1,液体处理单元1包括:杯子2,其提供基板处理过程;支撑板4,该支撑板在杯子2的内部,基板放置在其上;以及喷嘴单元5,其位于支撑板4上方以朝向基板3排放处理液体。
[0007]供应到基板的处理液体通过杯子2回收。因为通过杯子2根据过程回收各种处理液体,所以处理液体粘附在杯子2上。粘附在杯子2上的处理液体6随后产生废气,或者可能再次飞溅到基板上。
[0008]因此,优选定期清洁杯子2,或者在用另一种处理液体处理基板之前清洁杯子2。
[0009]传统上,使用盘形清洁夹具。在其中杯子2和清洁夹具之间的相对高度固定的状态下,很难均匀地清洁分布在杯子2内部的不同高度处的待清洁物体。

技术实现思路

[0010]本专利技术实施例提供了一种可以有效清洁杯子的清洁夹具、一种具有该清洁夹具的基板处理设备以及一种用于清洁基板处理设备的方法。
[0011]本专利技术实施例还提供了一种可以在不同高度处清洁杯子的清洁夹具、一种具有该清洁夹具的基板处理设备以及一种用于清洁基板处理设备的方法。
[0012]本专利技术实施例又提供了一种可以容易地利用空间的清洁夹具以及具有该清洁夹具的基板处理设备。
[0013]本专利技术构思的方面不限于此,并且本领域技术人员可以从以下描述中清楚地理解本专利技术的其他未提及的方面。
[0014]根据本专利技术构思的方面,基板处理设备包括:可旋转的旋转头;杯子,其围绕旋转
头;清洁夹具,其位于旋转头上并通过旋转头的旋转朝向杯子排放清洁液;以及喷嘴单元,其位于清洁夹具的上部部分处、并将清洁液供应到清洁夹具的上表面的中心,并且清洁夹具包括飞溅导向槽,其被形成为凹陷的,以使得从喷嘴单元提供的清洁液利用由于旋转头的旋转引起的离心力朝向杯子飞溅。
[0015]此外,飞溅导向槽可以形成为沿着清洁夹具的周向方向从清洁夹具的中心弯曲。
[0016]此外,飞溅导向槽的弯曲部可以在清洁夹具中沿与清洁液的流动方向相对应的方向弯曲。
[0017]此外,飞溅导向槽的弯曲部可以在清洁夹具中沿与清洁液的流动方向相反的方向弯曲。
[0018]此外,飞溅导向槽可以形成在同心圆上,同心圆以相等间隔按特定距离远离清洁夹具的中心。
[0019]此外,飞溅导向槽中的每一个飞溅导向槽可以配置成使得:每个飞溅导向槽面对清洁夹具外部的第一底表面相对于该每个飞溅导向槽底表面的底部点的倾斜度比该每个飞溅导向槽面对清洁夹具内部的第二底表面的倾斜度更平缓,该底部点的高度是最低的。
[0020]此外,飞溅导向槽中的每一个飞溅导向槽可以配置成使得:每个飞溅导向槽在其中清洁液飞溅的方向上的第一底表面相对于该每个飞溅导向槽底表面的底部点比第二底表面在相反方向上的倾斜度更平缓,该底部点的高度是最低的。
[0021]此外,飞溅导向槽的第一底表面的倾斜度可以不同。
[0022]此外,基板处理设备还可以包括:供应单元,其将清洁液供应到喷嘴单元,以及控制器,其控制供应单元使得供应到清洁夹具的清洁液的量在特定周期增加和减少。
[0023]此外,控制器可以控制旋转头,使得旋转头的旋转速度重复地加快和降低,同时将清洁液供应到清洁夹具。
[0024]此外,基板处理设备还可以包括后喷嘴,其将清洁液喷射到清洁夹具的底表面,并且清洁夹具还可以包括从其边缘的底表面向下突出的飞溅导向凸台。
[0025]根据本专利技术构思的另一方面,清洁夹具包括具有特定厚度的圆板形状的夹具主体,夹具主体包括中心区域和围绕中心区域的边缘区域,清洁液从喷嘴单元供应到该中心区域,并且飞溅导向槽在边缘区域中形成为凹陷的,使得清洁液利用由于旋转头的旋转引起的离心力飞溅。
[0026]此外,飞溅导向槽可以包括沿着夹具主体的第一同心圆布置的第一组飞溅导向槽,以及沿着大于第一同心圆的第二同心圆布置的第二组飞溅导向槽。
[0027]此外,第一组飞溅导向槽的长度可以不同于第二组飞溅导向槽的长度。
[0028]此外,飞溅导向槽可以形成为沿着清洁夹具的周向方向从清洁夹具的中心弯曲。
[0029]此外,飞溅导向槽可以形成在同心圆上,同心圆以特定距离远离夹具主体的中心。
[0030]此外,飞溅导向槽中的每一个可以配置成使得其面对清洁夹具外部的第一底表面相对于其底表面的底部点的倾斜度比其面对清洁夹具内部的第二底表面的倾斜度更平缓,该底部点的高度是最低的。
[0031]此外,飞溅导向槽中的每一个可以配置成使得其在其中清洁液飞溅的方向上的第一底表面相对于其底表面的底部点比第二底表面在相反方向上的倾斜度更平缓,该底部点的高度是最低的。
[0032]此外,清洁夹具还可以包括从其边缘的底表面向下突出的飞溅导向凸台。
[0033]根据本专利技术构思的又一方面,一种用基板处理设备清洁杯子的方法包括:将清洁夹具安置在旋转头上;使旋转头旋转;并且将清洁液供应到清洁夹具的上表面,该清洁夹具旋转以使得清洁液沿着形成在清洁夹具的上表面上的飞溅导向槽飞溅,供应到清洁夹具的清洁液的量在特定的周期增加和减少,并且在将清洁液供应到清洁夹具的同时,旋转头的旋转速度重复地加快和降低。
[0034]此外,旋转头的旋转速度重复地加快和降低,同时将清洁液供应到清洁夹具。
附图说明
[0035]根据以下参考附图的描述,上述和其他目的和特征将变得显而易见,其中,除非另有说明,否则相同附图标记在各个附图中是指相同部分,并且其中:
[0036]图1是示出一般液体处理单元的横截面视图;
[0037]图2是根据本专利技术构思的实施例的基板处理系统的平面图;
[0038]图3是沿图2的线A

A截取的图2的系统的横截面视图;
[0039]图4是沿图1的线B

B截取的图2的系统的横截面视图;
[0040]图5是沿图2的线C

C截取的图2的系统的横截面视图;本文档来自技高网
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基板处理设备,包括:可旋转的旋转头;杯子,其被配置成围绕所述旋转头;清洁夹具,其位于所述旋转头上,并且被配置成通过所述旋转头的旋转朝向所述杯子排放清洁液;以及喷嘴单元,其位于所述清洁夹具的上部部分,并且被配置成将所述清洁液供应到所述清洁夹具的上表面的中心,其中所述清洁夹具包括:飞溅导向槽,其被形成为凹陷的,以使得从所述喷嘴单元提供的所述清洁液利用由于所述旋转头的旋转引起的离心力朝所述杯子飞溅。2.根据权利要求1所述的基板处理设备,其中所述飞溅导向槽被形成为从所述清洁夹具的所述中心沿着所述清洁夹具的周向方向弯曲。3.根据权利要求2所述的基板处理设备,其中所述飞溅导向槽的弯曲部在与所述清洁夹具中的所述清洁液的流动方向相对应的方向上弯曲。4.根据权利要求2所述的基板处理设备,其中所述飞溅导向槽的弯曲部在与所述清洁夹具中的所述清洁液的流动方向相反的方向上弯曲。5.根据权利要求1所述的基板处理设备,其中所述飞溅导向槽被形成在同心圆上,所述同心圆以相等间隔按特定距离远离所述清洁夹具的所述中心。6.根据权利要求1所述的基板处理设备,其中所述飞溅导向槽中的每个飞溅导向槽被配置成使得:该飞溅导向槽面对所述清洁夹具外部的第一底表面相对于该飞溅导向槽的底表面的底部点的倾斜度比该飞溅导向槽面对所述清洁夹具内部的第二底表面的倾斜度平缓,所述底部点的高度是最低的。7.根据权利要求1所述的基板处理设备,其中所述飞溅导向槽中的每个飞溅导向槽被配置成使得:该飞溅导向槽在所述清洁液飞溅的方向上的第一底表面相对于该飞溅导向槽底表面的底部点比第二底表面在相反方向上的倾斜度平缓,所述底部点的高度是最低的。8.根据权利要求6或7所述的基板处理设备,其中所述飞溅导向槽的所述第一底表面的所述倾斜度不同。9.根据权利要求1所述的基板处理设备,还包括:供应单元,其配置成向所述喷嘴单元供应所述清洁液;以及控制器,其配置成控制所述供应单元,以使得供应到所述清洁夹具的所述清洁液的量以特定周期增加和减少。10.根据权利要求9所述的基板处理设备,其中所述控制器控制所述旋转头,以使得所述旋转头的旋转速度重复地加快和降低,同时将所述清洁液供应到所述清洁夹具。11.根据权利要求1所述的基板处理设备,还包括:后喷嘴,其被配置成将所述清洁液喷射...

【专利技术属性】
技术研发人员:严基象吴昌石卢尚垠
申请(专利权)人:细美事有限公司
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1