一种提高磁控溅射靶材利用率的装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了磁控溅射技术领域的一种提高磁控溅射靶材利用率的装置，包括盒体，盒体底端均匀固定连接有多个支撑柱；盒体上端转动连接有盒盖，盒盖表面设有用于清理靶材表面污垢用的清理机构；盒体内部设有用于固定以及调节靶材位置用的调节机构；该装置操作简单，使用方便，不需要人工清理靶材，可以有效的节省时间和人力，同时清理靶材效率高，效果好，清理无死角，可以有效的提升靶材在镀膜时的利用率。用率。用率。

【技术实现步骤摘要】
一种提高磁控溅射靶材利用率的装置


[0001]本技术涉及磁控溅射
，具体是一种提高磁控溅射靶材利用率的装置。

技术介绍

[0002]物理气相沉积是一种利用物理方式在基材上沉积薄膜的技术。磁控溅射技术是物理气相沉积技术的一种。在磁控溅射镀膜技术中，在被处理材料即靶材背面配置磁场发生装置的磁控溅射技术为溅射法中的主流。磁控溅射通过磁体在靶材的表面形成磁场，利用电子的漂移运动将等离子体约束于靶材的表面附近，因此形成高密度的等离子体；高能离子(通常为电场加速的氩离子)轰击靶材表面，靶材表面离子或原子与入射的高能离子交换能量后从靶材表面飞溅出来，并在基材上沉积成膜。
[0003]当需要加工的靶材表面沾上了大量的污垢时，在加工靶材时，还需要人工手动的清理靶材表面的污垢，人工清理比较费力，浪费时间，同时人工难以感情全面的将靶材表面的污垢清理干净，因此会影响到靶材在镀膜时的利用率。
[0004]因此，本技术提供了一种提高磁控溅射靶材利用率的装置，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。

技术实现思路

[0005]本技术的目的在于提供一种提高磁控溅射靶材利用率的装置，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0006]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种提高磁控溅射靶材利用率的装置，包括盒体，所述盒体底端均匀固定连接有多个支撑柱；所述盒体上端转动连接有盒盖，所述盒盖表面设有用于清理靶材表面污垢用的清理机构；所述盒体内部设有用于固定以及调节靶材位置用的调节机构。
[0007]作为本技术进一步的方案：所述调节机构包括第一螺纹杆、第一锥齿轮、第二锥齿轮、支撑板、固定块和第二螺纹杆；通过调节机构可以起到能够在将需要清理的靶材固定好的同时，还可以根据靶材的厚度，将靶材调节到最佳清理位置的作用。
[0008]作为本技术再进一步的方案：所述支撑板位于盒体内部且支撑板与盒体滑动连接；所述第一螺纹杆与支撑板底端表面转动连接且第一螺纹杆与盒体螺纹配合，所述第一螺纹杆表面设有第一滑槽，所述第一锥齿轮与第一滑槽滑动连接；所述第一锥齿轮与第一螺纹杆间隙配合且第一锥齿轮与盒体转动连接，所述第二锥齿轮与第一锥齿轮啮合且第二锥齿轮与盒体转动连接；所述盒体左右两端对称设有凹槽，所述第二螺纹杆分布在支撑板表面左右两侧位置且第二螺纹杆位于凹槽内部位置，所述第二螺纹杆与支撑板螺纹配合，所述固定块与第二螺纹杆转动连接且固定块与支撑板表面滑动配合；通过转动第二锥齿轮可以带动第一锥齿轮转动，第一锥齿轮转动时可以带动第一螺纹杆转动，第一螺纹杆转动时在盒体的作用下可以带动盒体内部的支撑板向上移动，通过转动左右两侧的第二螺
纹杆可以带动固定块在支撑板表面滑动，通过左右两侧的固定块可以起到将需要清理的靶材固定在支撑板表面。
[0009]作为本技术再进一步的方案：所述清理机构包括电机、第一同步轮、第二同步轮、同步带、第三锥齿轮、第四锥齿轮、第三螺纹杆、滑动架和清理筒；通过清理机构可以起到能够自动的清理靶材表面的污垢，从而可以有效的节省人力和时间，提升靶材的利用率。
[0010]作为本技术再进一步的方案：所述盒盖表面左右两侧位置对称设有第二滑槽，所述滑动架与左右两侧的第二滑槽滑动连接，所述清理筒位于盒盖底端位置且清理筒与滑动架转动连接；所述电机与滑动架上端面固定连接，所述第一同步轮分布在电机左右两侧位置且左右两侧的第一同步轮分别与电机左右两侧的输出轴固定连接；所述第二同步轮与清理筒固定连接且同步带同时与第一同步轮和第二同步轮啮合；通过启动电机可以带动左右两侧的第一同步轮转动，第一同步轮在转动时通过同步带可以带动第二同步轮转动，第二同步轮转动时可以带动清理筒转动清理靶材表面的污垢。
[0011]作为本技术再进一步的方案：所述第三锥齿轮和第四锥齿轮啮合，所述第三锥齿轮与第一同步轮固定连接；所述第三螺纹杆与盒盖固定连接且第四锥齿轮与第三螺纹杆螺纹配合；第一同步轮转动时可以带动第三锥齿轮转动，第三锥齿轮带动第四锥齿轮转动，第四锥齿轮转动时在第三螺纹杆的作用下可以带动滑动架在第二滑槽内滑动，第二滑槽带动清理筒移动清理靶材表面其他位置，当滑动架滑动到第二滑槽内尽头位置时，控制电机反向转动即可使得滑动架带动清理筒向原位置移动清理。
[0012]有益效果
[0013]与现有技术相比，本技术的有益效果是：
[0014]该装置通过将需要清理的靶材放置在盒体内部，然后转动第二螺纹杆带动固定块将靶材固定稳定，然后盖上盒盖转动第一锥齿轮，第一锥齿轮带动第二锥齿轮转动，第二锥齿轮带动第一螺纹杆转动，通过第一螺纹杆可以使得支撑板将靶材带动到与清理筒接触的位置；然后启动电机，电机带动清理筒清理靶材表面的污垢，同时电机带动第三锥齿轮转动，第三锥齿轮带动第四锥齿轮转动，第四锥齿轮通过第三螺纹杆可以带动清理筒移动清理靶材；该装置操作简单，使用方便，不需要人工清理靶材，可以有效的节省时间和人力，同时清理靶材效率高，效果好，清理无死角，可以有效的提升靶材在镀膜时的利用率。
附图说明
[0015]图1为本技术整体的结构示意图；
[0016]图2为图1中A的放大结构示意图；
[0017]图3为本技术中仰视图的结构示意图；
[0018]图4为本技术中盒盖打开状态的结构示意图；
[0019]图5为图4中B的放大结构示意图。
[0020]图中：1
‑
盒体，2
‑
支撑柱，3
‑
盒盖，4
‑
第一螺纹杆，5
‑
第一锥齿轮，6
‑
第二锥齿轮，7
‑
支撑板，8
‑
固定块，9
‑
第二螺纹杆，10
‑
第一滑槽，11
‑
凹槽，12
‑
电机，13
‑
第一同步轮，14
‑
第二同步轮，15
‑
同步带，16
‑
第三锥齿轮，17
‑
第四锥齿轮，18
‑
第三螺纹杆，19
‑
滑动架，20
‑
清理筒，21
‑
第二滑槽。
具体实施方式
[0021]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。
[0022]请参阅图1～5，本技术实施例中，一种提高磁控溅射靶材利用率的装置，包括盒体1，盒体1底端均匀固定连接有多个支撑柱2；盒体1上端转动连接有盒盖3，盒盖3表面设有用于清理靶材表面污垢用的清理机构；盒体1内部设有用于固定以及调节靶材位置用的调节机构。
[0023]本实施例中:调节机构包括第一螺纹杆4、第一锥齿轮5、第二锥齿轮6、支撑板7、固定块8和第二螺纹杆9；通过调节机构可以起到能够在将需要清理的靶材固定好的同时，还可以根据靶材的厚度，将靶材调节本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种提高磁控溅射靶材利用率的装置，包括盒体(1)，其特征在于：所述盒体(1)底端均匀固定连接有多个支撑柱(2)；所述盒体(1)上端转动连接有盒盖(3)，所述盒盖(3)表面设有用于清理靶材表面污垢用的清理机构；所述盒体(1)内部设有用于固定以及调节靶材位置用的调节机构。2.根据权利要求1所述的一种提高磁控溅射靶材利用率的装置，其特征在于：所述调节机构包括第一螺纹杆(4)、第一锥齿轮(5)、第二锥齿轮(6)、支撑板(7)、固定块(8)和第二螺纹杆(9)。3.根据权利要求2所述的一种提高磁控溅射靶材利用率的装置，其特征在于：所述支撑板(7)位于盒体(1)内部且支撑板(7)与盒体(1)滑动连接；所述第一螺纹杆(4)与支撑板(7)底端表面转动连接且第一螺纹杆(4)与盒体(1)螺纹配合，所述第一螺纹杆(4)表面设有第一滑槽(10)，所述第一锥齿轮(5)与第一滑槽(10)滑动连接；所述第一锥齿轮(5)与第一螺纹杆(4)间隙配合且第一锥齿轮(5)与盒体(1)转动连接，所述第二锥齿轮(6)与第一锥齿轮(5)啮合且第二锥齿轮(6)与盒体(1)转动连接；所述盒体(1)左右两端对称设有凹槽(11)，所述第二螺纹杆(9)分布在支撑板(7)表面左右两侧位置且第二螺纹杆(9)位于凹槽(11)内部位置，所述第二螺纹杆(9)与支撑板(7)螺纹配合，所述固定块...

【专利技术属性】
技术研发人员：孔伟华，
申请(专利权)人：江苏东玖光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：