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一种提高磁控溅射靶材利用率的装置制造方法及图纸
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下载一种提高磁控溅射靶材利用率的装置的技术资料
文档序号:32587068
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本实用新型公开了磁控溅射技术领域的一种提高磁控溅射靶材利用率的装置,包括盒体,盒体底端均匀固定连接有多个支撑柱;盒体上端转动连接有盒盖,盒盖表面设有用于清理靶材表面污垢用的清理机构;盒体内部设有用于固定以及调节靶材位置用的调节机构;该装置操...
该专利属于江苏东玖光电科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过江苏东玖光电科技有限公司授权不得商用。
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