一种激光能量调节装置和检测方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种激光能量调节装置和检测方法，激光能量调节装置激光器，用于发射不同波长的连续的激光；设置于激光器激光出射口一侧的用于将激光改变为准直平行光束的扩束镜片；设于扩束镜片激光口一侧的能量调节器，用于调节激光能量，能量调节器包括在不同区域设置有不同折射率折射膜的折射镜、移动装置和偏振器；能量探头，用于实时采集经过能量调节器的激光，得到采样激光，依据采样激光计算其能量值，若能量大于设置阈值，则停止激光器工作。用于解决现有技术中单一波长对扫描像素大小的局限性使得该类型机台在一些特殊缺陷的抓取上有所欠缺，且较大的激光能量可能会使得图形容易受扫描影响而造成图形崩溃的问题。形容易受扫描影响而造成图形崩溃的问题。形容易受扫描影响而造成图形崩溃的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种激光能量调节装置和检测方法


[0001]本专利技术涉及半导体
，特别是涉及一种激光能量调节装置和检测方法。

技术介绍

[0002]随着集成电路工艺的发展，半导体工艺器件尺寸不断微缩，在器件缩小到28nm以下时， 对于UV系列亮场扫描机型，由于光源为单一波长266nm(短波)的激光光源，该单一波长 对扫描像素大小的局限性使得该类型机台在一些特殊缺陷的抓取上有所欠缺(如一些缺陷需 要长波波段容易抓取)，且较大的激光能量可能会使得图形容易受扫描影响而造成图形崩溃 (如图7所示)；此外，在28nm以下产品研发过程中，光罩弱点是产品通线的最大阻碍：
[0003]①
当光刻胶曝光波长与机台扫描波长相近时，容易导致光刻胶损伤；
[0004]②
做光罩窗口时，由于光刻胶容易受光强影响，如此将产生扫描的缺陷数量小于实际数 量，影响缺陷检测结果，因此目前的光罩窗口缺陷检测只能在刻蚀工艺之后进行，延长了先 进工艺的研发时间。

技术实现思路

[0005]鉴于以上所述现有技术的缺点，本专利技术的目的在于提供一种激本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种激光能量调节装置，其特征在于，所述激光能量调节装置至少包括：激光器，用于发射不同波长的连续的激光；设置于所述激光器激光出射口一侧的用于将所述激光改变为准直平行光束的扩束镜片；设于所述扩束镜片激光口一侧的能量调节器，用于调节所述激光能量，所述能量调节器包括：折射镜，所述折射镜的不同区域设置有不同折射率的折射膜；用于改变所述折射镜位置的移动装置的移动装置；设置于所述折射镜的出射光一侧的偏振器，所述偏振器用于改变由所述折射镜折射后激光的偏振方向。能量探头，用于实时采集经过所述能量调节器的激光，得到采样激光，依据所述采样激光计算其能量值，若所述能量值大于阈值，则停止所述激光器工作。2.根据权利要求1所述的激光能量调节装置，其特征在于：所述偏振方向至少包括平行方向和垂直方向。3.根据权利要求1所述的激光能量调节装置，其特征在于：所述折射膜的折射率在所述折射镜上呈梯度分布。4.根据权利要求1所述的激光能量调节装置，其特征在于：所述折射镜由所述移动装置移动或转动。5.一种依据权利要求1至4任意一项所述激光能量调节装置的检测方法，其特征在于，至少包括：步骤一、获取检测产品的缺陷类型；步骤二、提供所述激光能量调...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈珊珊，陈宏璘，龙吟，
申请(专利权)人：上海华力集成电路制造有限公司，
类型：发明
国别省市：