一种薄膜及其制备方法技术

本发明专利技术涉及薄膜制备技术领域，尤其是一种薄膜及其制备方法，其特征在于：薄膜包括由不同折射率的材料层依次堆叠在所述基板上构成的多层膜，在所述多层膜远离基板一侧设置的渐变结构层；所述渐变结构层中的折射率在沿朝向多层膜表面的方向上是增加的，所述渐变结构层包含铝元素和氧元素。本发明专利技术的优点是：薄膜的增透或者减反射的光谱范围大，大角度入射时光谱变形小，光谱角度效应佳；薄膜制备快速，薄膜结构均匀，薄膜品质劣化风险小，制备工艺对基板的损害小，特别适合工业化量产应用等。特别适合工业化量产应用等。特别适合工业化量产应用等。

【技术实现步骤摘要】
一种薄膜及其制备方法


[0001]本专利技术涉及薄膜制备
，尤其是一种薄膜及其制备方法。

技术介绍

[0002]目前，基于光学干涉效应制备的层状多层光学薄膜，比如增透膜或者减反射膜，在玻璃或树脂类材质的光学镜头等元件中应用广泛。其中，增透膜或者减反射膜被用来抑制光线反射，提高成像效果；也可用于增加透过光，提高光的利用率。对于前述层状多层光学薄膜，其可以利用多种方法制备；比如，蒸发镀膜、溅射镀膜和原子层沉积方法镀膜等。随着光学薄膜市场不断扩大，光学元件的形状日益多样化，比如形状为3D曲面的镜头等。同时，应用市场对于光学薄膜的膜厚均匀性等薄膜品质的要求也越来越高。一般来说，与原子层沉积方法镀膜相比，蒸发镀膜和溅射镀膜方法在实现异形工件镀膜均匀性方面效果欠佳。同时，对于上述基于光学干涉效应制备的光学薄膜，在薄膜特性方面存在如下问题：一、随着入射光入射角度的不同，其光谱会发生较大的偏移，不利于大角度范围内的光学应用；二、在上述光学薄膜与空气的界面上，折射率为突变，导致光学薄膜的反射率较高。

技术实现思路

[0003]本专利技术的目本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种薄膜，设置在基板上，其特征在于：包括由不同折射率的材料层依次堆叠在所述基板上构成的多层膜，在所述多层膜远离基板一侧设置的渐变结构层；所述渐变结构层中的折射率在沿朝向多层膜表面的方向上是增加的，所述渐变结构层包含铝元素和氧元素。2.根据权利要求1所述的一种薄膜，其特征在于：所述多层膜由交替堆叠在所述基板上的低折射率层和高折射率层构成。3.根据权利要求1所述的一种薄膜，其特征在于：所述多层膜包含氧元素，以及钛元素、铝元素、硅元素中的至少任意两种。4.一种涉及权利要求1-3所述的薄膜的制备方法，其特征在于：所述制备方法包括以下步骤：1）使基板的待镀膜面与包含自由基的物质接触，从而对所述基板的待镀膜面进行预处理；2）在经过预处理的基板上镀覆多层膜，所述多层膜由不同折射率的材料层依次堆叠而成；3）在所述多层膜的远离基板一侧镀覆包含铝元素和氧元素的薄膜层，所述包含铝元素和氧元素的薄膜层经过后续处理将形成所述渐变结构层；4）使所述包含铝元素和氧元素的薄膜层与H2O分子接触；5）对经与H2O分子接触后的所述包含铝元素和氧元素...

【专利技术属性】
技术研发人员：庄明宇，鲍亚盟，蓝芝江，魏子乔，雅乐摩，
申请(专利权)人：光驰科技上海有限公司，
类型：发明
国别省市：