防反射膜制造技术

本发明专利技术提供一种具有高红外线透过率、而且具有优异弯曲性的防反射膜。其依次具有基材(10)、硬涂层(20)、密合层(30)和防反射层(40)，防反射层从密合层(30)侧起包含光学厚度为41nm～52nm的第一高折射率层(411)、光学厚度为41nm～53nm的第一低折射率层(412)、光学厚度为302nm～313nm的第二高折射率层(413)、和光学厚度为135nm～196nm的第二低折射率层(414)。(414)。(414)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】防反射膜


[0001]本技术涉及例如设置于显示装置前面的防反射膜。本申请基于在日本于2020年5月21日申请的日本专利申请号特愿2020
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089189要求优先权，该申请通过参照而被引用于本申请中。

技术介绍

[0002]有时在显示装置的前面设置响应红外线的红外传感器(IR)传感器。因此，期望设置于显示装置前面的防反射膜为红外线的透过率高的防反射膜(例如，参照专利文献1。)。另外，近年来，期望具有适应可折叠有机EL显示器、所谓的可折叠显示器的优异弯曲性的防反射膜。
[0003]然而，难以兼顾提高防反射膜的红外线透过率、和尽可能将防反射膜的厚度抑制为薄水平。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1：日本特开2019
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53115号公报

技术实现思路

[0007]专利技术要解决的课题
[0008]本技术是鉴于这种以往的实际情况而提出的技术，提供具有高红外线透过率、而且具有优异弯曲性的防反射膜。
[0009]用于解决课题本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种防反射膜，在基材上依次具有硬涂层、密合层和防反射层的防反射膜中，所述防反射层从所述密合层侧起包含光学厚度为41nm～52nm的第一高折射率层、光学厚度为41nm～53nm的第一低折射率层、光学厚度为302nm～313nm的第二高折射率层、和光学厚度为135nm～196nm的第二低折射率层。2.一种防反射膜，在基材上依次具有硬涂层、密合层和防反射层的防反射膜中，所述防反射层从所述密合层侧起包含光学厚度为23nm～35nm的第一高折射率层、光学厚度为66nm～81nm的第一低折射率层、光学厚度为93nm～117nm的第二高折射率层、光学厚度为37nm～52nm的第二低折射率层、光学厚度为79nm～84nm的第三高折射率层、和光学厚度为146nm～155nm的第三低折射率层。3.根据权利要求1或2所述的防反射膜，在所述防反射层上层叠有防污层。4.根据权利要求1至3中任一项所述的防反射膜，所述高折射率层的折射率为2.00～2.60，所述低折射率层的折射率为1.20～1.60。5.根据权利要求1所述的防反射膜，所述第一高折射率层包含Nb2O5作为主成分，且物理厚度为18nm～22nm，所述第一低折射率层包含SiO2作为主成分，且物理厚度为28nm～36nm，所述第二高折射率层包含Nb2O5作为主成分，且物理厚度为130nm～134nm，所述第二低折射率层包含SiO2作为主成分，且物理厚度为92nm～95nm。6.根据权利要求2所述的防反射膜，所述第一高折射率层包含Nb2O5作为主成分，且物理厚度为10nm～15nm，所述第一低折射率层包含SiO2作为主成分，且物理厚度为45nm～55nm，所述第二高折射率层包含Nb2O5作为主成分，且物理厚度为40nm～50nm，所述第二低折射率层包含SiO2作...

【专利技术属性】
技术研发人员：小林智明，
申请(专利权)人：迪睿合株式会社，
类型：发明
国别省市：