一种等离子刻蚀机的介质窗匀温装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术属于刻蚀工艺技术领域，具体涉及一种等离子刻蚀机的介质窗匀温装置，本装置包括散热风扇和散热风扇屏蔽罩，散热风扇安装在散热风扇屏蔽罩内，每个散热风扇的出风面均朝向加热器中心区域；每个散热风扇屏蔽罩的朝向屏蔽罩顶面中心点的一端与屏蔽罩铰接；散热风扇屏蔽罩底面所在平面与介质窗所在平面相交；散热风扇屏蔽罩底面与介质窗中垂线之间夹角为A，A＜90

【技术实现步骤摘要】
一种等离子刻蚀机的介质窗匀温装置


[0001]本技术属于刻蚀工艺
，具体涉及一种等离子刻蚀机的介质窗匀温装置。

技术介绍

[0002]目前，随着近年来第三代存储器——磁存储器（MRAM）的不断发展和集成度的不断提高，对金属栅极材料（如Model、Ta等）和高k栅介电材料（如Al2O3、HfO2和ZrO2等）等新型非挥发性材料的干法刻蚀需求不断增加，解决非挥发性材料在干法刻蚀过程中产生的侧壁沉积和颗粒沾污，同时提高等离子体处理腔室的清洗工艺效率是十分必要的。
[0003]陶瓷介质窗加热是减少沉积的重要手段，通常采用Kapton加热器进行陶瓷介质窗加热，但是随之而来的匀温问题又成为需要解决的难点，尤其是中心和边缘区域温度的控制。
[0004]现有技术中，采用Kapton加热器对陶瓷介质窗进行加热，陶瓷介质窗的上表面绑定这Kapton 加热器，在Kapton加热器上方为激励射频线圈，激励射频线圈位于屏蔽罩内部，为了在Kapton加热器对陶瓷介质窗进行加热过程中实现控温及匀温，通常采用的结构设计时在Kapton加热器正上方且固定于本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种等离子刻蚀机的介质窗匀温装置，所述介质窗（002）上方设置有加热器（009），且所述介质窗（002）顶部罩设有屏蔽罩（008），其特征在于：所述匀温装置包括至少两个散热风扇（011）和至少两个散热风扇屏蔽罩（010），其中：所述散热风扇（011）安装在所述散热风扇屏蔽罩（010）内部，每个所述散热风扇（011）的出风面均朝向所述加热器（009）中心区域；每个所述散热风扇屏蔽罩（010）的朝向所述屏蔽罩（008）顶面中心点的一端与所述屏蔽罩（008）铰接；所述散热风扇屏蔽罩（010）底面所在平面始终与所述介质窗（002）所在平面相交；所述散热风扇屏蔽罩（010）底面与所述介质窗（002）中垂线之间夹角为A，A＜90
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。2.根据权利要求1所述的一种等离子刻蚀机的介质窗匀温装置，其特征在于：还包括连接部（005），所述连接部（005）一端与所述屏蔽罩（008）固接，另一端与所述散热风扇屏蔽罩（010）的远离所述屏蔽罩（008）顶面中心点的另一端固接。3.根据权利要求1所述的一种等离子刻蚀机的介质窗匀温装置，其特征在于：在所述屏蔽罩（008）的顶壁上设有安装孔，所述安装孔和所述散热风扇屏蔽罩（010）的远离所述屏蔽罩（008）顶面中心点的另一端对应设置。4.根据权利要求3所述的一种等离子刻蚀机的介质窗匀温装置，其特征在于：还包括至少两个安装板（003）、至少两个调节螺钉（020）以及至少两个调节螺母（004），其中：所述安装板（003）设置于所述散热风扇屏蔽罩（010）的远离所述屏蔽罩（008）顶面中心...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘海洋，郭颂，刘小波，张瑶瑶，王铖熠，张霄，胡冬冬，许开东，
申请(专利权)人：北京鲁汶半导体科技有限公司，
类型：新型
国别省市：