光刻工艺中的光学临近效应补偿方法技术

本发明专利技术公开了一种光刻工艺中的光学临近效应补偿方法，包括以下步骤：第一步，将透明度可编程薄滤光片固定在掩膜板上；第二步，对固定在掩膜板上的透明度可编程薄滤光片进行曝光；第三步，将曝光过的透明度可编程薄滤光片在暗室进行显影，得到透明度可编程薄滤光片的透明度分布。本发明专利技术通过在掩膜板上方固定透明度可编程薄滤光片，不仅能够对光学临近效应发生形状变化的图形进行补偿，并且降低补偿所用的物质和人工成本，提高生产效率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体工艺领域中的光刻工艺，尤其是一种光刻工艺中的 光学临近效应补偿方法。技术背景光学临近效应是由光学系统的有限分辨率造成的。如图1所示， 一个 直边的成像位置会因透光部分的光强增强而向不透明方向移动，即直边的 成像位置会从光强强的地方向光强弱的地方移动。现有的光学系统分辨率 大多为有限的，光学临近效应难以避免。在半导体工艺领域中的光刻工艺 中，掩膜板上各个区域透明度不同，有些区域透明度较高，而另一些区域 的透明度相对较低。光学临近效应会使得成像的位置向透明度较低的方向 移动。掩膜板上孤立的图形周围的光强比在密集图形之间的光强大，因而 成像位置会向光强弱的地方移动。由于掩膜板上各个区域的图形或集中或 鼓励，因而造成掩膜板各个区域的透明度不同，光学临近效应会使图形发 生形状变化。现有技术通过在掩膜板上对在曝光过程中由于光学临近效应发生形状 变化的图形进行补偿，通常需要制作一块测试掩膜板，并且通过实验确定 形状变化的实际大小来决定修正值。这种做法不仅需要花费较大人力物力 成本和时间，而且还会在光学临近效应较大时变得不精确。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是提供一种光刻工艺中的光学临近效应补 偿方法，能够对光学临近效应发生形状变化的图形进行补偿，并且降低补 偿所用的物质和人工成本，提高生产效率。为解决上述技术问题，本专利技术所 采用的技术方案是，包括以下步骤第一步，将透明度可编程薄滤光片固 定在掩膜板上；第二步，对固定在掩膜板上的透明度可编程薄滤光片进行 曝光；第三步，将曝光过的透明度可编程薄滤光片在暗室进行显影，得到 透明度可编程薄滤光片的透明度分布。本专利技术的通过对固定在掩膜板上 的透明度可编程薄滤光片进行曝光，并且对曝光过的透明度可编程薄滤光 片，得到滤光片的透明度分布，对掩膜板由于光学临近效应产生的图形形 状变化进行补偿，不仅能使补偿图形变化，而且大大简化补偿的步骤，降 低补偿的成本，还提高补偿的精度。附图说明下面结合附图和具体实施方式对本专利技术作进一步详细的说明图l是光学临近效应的示意图；图2是本专利技术方法光学临近效应补偿示意图；图3是本专利技术方法流程示意图。具体实施方式如图3所示，本专利技术的，包括以 下步骤第一步，通过掩膜板四周的支架将一次性透明度可编程薄滤光片固定在掩膜板上；第二步，采用光刻机光源对固定在掩膜板上的一次性透 明度可编程薄滤光片进行曝光；第三步，将曝光过的一次性透明度可编程 薄滤光片在暗室进行显影，得到一次性透明度可编程薄滤光片的透明度分 布。所述的一次性透明度可编程薄滤光片根据所需要补偿的工艺选择合适 感光度的感光物质作为滤光片。本专利技术的光刻工艺中的光学临近效应补偿 方法可应用于各种尺寸硅片光刻设备。本专利技术通过使用放在靠近掩膜板的一次性透明度可编程薄滤光片来实 现对光学临近效应的部分补偿。由于滤光片含有带光吸收的材料，可以在 曝光过程中吸收光并且利用一定的显定影方法使这种透明程度分布固定下 来，与掩膜板上透明度较高的区域所对应的滤光片上的区域的透明度会相 应地降低。如图2所示，由于滤光片的感光随光强递增而增加，而且由于 孤立的图形周围的光强比在密集图形之间的光强大，滤光片在孤立的图形 周围的感光比在密集图形之间的感光大。因而滤光片在孤立的图形周围的 变得不透明程度也比在密集图形之间的要大。光学临近效应所造成的线宽 疏密差可以得到补偿。本专利技术通过在掩膜板上方增加一次性透明度可编程薄滤光片、对该滤 光片进行曝光以及显影定影的方法，实现了对光学临近效应的补偿。本发 明不仅可以实现光学临近效应的补偿，而且可以减少进行光学临近补偿的 物质和人工成本，提高生产效率，同时还提高光学临近补偿的精度。权利要求1、一种，其特征在于，包括以下步骤第一步，将透明度可编程薄滤光片固定在掩膜板上；第二步，对固定在掩膜板上的透明度可编程薄滤光片进行曝光；第三步，将曝光过的透明度可编程薄滤光片在暗室进行显影，得到透明度可编程薄滤光片的透明度分布。2、 如权利要求l所述的，其特征 在于，所述的透明度可编程薄滤光片为一次性透明度可编程薄滤光片。3、 如权利要求l所述的，其特征 在于，第二步中采用光刻机光源对固定在掩膜板上的透明度可编程薄滤光 片进行曝光。4、 如权利要求1所述的，其特征 在于，第一步中，通过掩膜板四周的支架将透明度可编程薄滤光片固定在 掩膜板上方。全文摘要本专利技术公开了一种，包括以下步骤第一步，将透明度可编程薄滤光片固定在掩膜板上；第二步，对固定在掩膜板上的透明度可编程薄滤光片进行曝光；第三步，将曝光过的透明度可编程薄滤光片在暗室进行显影，得到透明度可编程薄滤光片的透明度分布。本专利技术通过在掩膜板上方固定透明度可编程薄滤光片，不仅能够对光学临近效应发生形状变化的图形进行补偿，并且降低补偿所用的物质和人工成本，提高生产效率。文档编号H01L21/027GK101118386SQ20061002961公开日2008年2月6日 申请日期2006年8月1日 优先权日2006年8月1日专利技术者蒋运涛 申请人:上海华虹Nec电子有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光刻工艺中的光学临近效应补偿方法，其特征在于，包括以下步骤：第一步，将透明度可编程薄滤光片固定在掩膜板上；第二步，对固定在掩膜板上的透明度可编程薄滤光片进行曝光；第三步，将曝光过的透明度可编程薄滤光片在暗室进行显影，得到透明度可编程薄滤光片的透明度分布。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：蒋运涛，
申请(专利权)人：上海华虹NEC电子有限公司，
类型：发明
国别省市：31[中国|上海]