一种光刻胶去除机台的晶圆传送手臂的清洁及干燥机构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种光刻胶去除机台的晶圆传送手臂的清洁及干燥机构，包括清洁腔室和吹扫结构，其中，吹扫结构包括依次连通的吹扫气体管路、吹扫气体容置腔、吹扫气体喷嘴。本实用新型专利技术通过对晶圆传送手臂的后端增加吹扫结构，在对晶圆传送手臂的前端进行清洁和干燥过程中，吹扫结构的气体通过气体喷嘴喷出形成“气帘”，一方面可以有效防止清洗液飞溅至后端，另一方面，还可以将已飞溅至后端的清洗液及时吹干，避免了吸附酸气后长期积累对机台氛围产生的影响，进而避免了对产品良率的影响。本实用新型专利技术结构简单，可操作性强，可以广泛应用于相关设备。用于相关设备。用于相关设备。

【技术实现步骤摘要】
一种光刻胶去除机台的晶圆传送手臂的清洁及干燥机构


[0001]本技术涉及半导体制造领域，特别涉及一种光刻胶去除机台的晶圆传送手臂的清洁及干燥机构。

技术介绍

[0002]光刻胶去除机台的晶圆传送手臂用于不同药液槽之间的晶圆的传送，传送过程中，晶圆传送手臂都会或多或少存在药液残留，因此，需要对晶圆传送手臂执行清洗和干燥的步骤，一般会先用去离子水对晶圆传送手臂进行冲洗，冲洗完成后，再用氮气将残留的去离子水吹干。
[0003]现有技术中，晶圆传送手臂分为前端和后端两部分，待去除光刻胶的晶圆一般放置在前端，因此，仅需对前端执行清洗和干燥步骤。但在清洗和干燥过程中，去离子水的水滴会飞溅到后端，尤其是在干燥步骤中，氮气吹干去离子水时，被吹起的水滴飞溅至后端；虽然飞溅至后端的去离子水滴暂时不会对晶圆产生污染，但水滴会吸附从药液槽内挥发出的酸气，长期积累形成大水滴，当晶圆传送手臂移动时，吸附有酸气的水滴滴落在机台内侧，长时间的滴落会对机台内部的氛围产生影响，进而影响到产品的良率，因此，在对晶圆传送手臂的前端进行清洗和干燥时，如何防止水滴飞溅至后端，成为本领域内需要解决的技术问题。

技术实现思路

[0004]本技术要解决的技术问题是提供一种光刻胶去除机台的晶圆传送手臂的清洁及干燥机构，可以有效去除晶圆传送手臂的后端的去离子水残留，保持后端干燥。
[0005]为解决上述技术问题，本技术提供的光刻胶去除机台的晶圆传送手臂的清洁及干燥机构，包括：
[0006]清洁腔室，设置于所述光刻胶去除机台内部，用于对所述晶圆传送手臂的前端承载晶圆的部位进行清洗和干燥；
[0007]吹扫结构，设置于所述光刻胶去除机台内部，用于对所述晶圆传送手臂的后端进行吹扫；
[0008]所述吹扫结构包括依次连通的吹扫气体管路、气体吹扫部件；
[0009]所述气体吹扫部件朝向所述晶圆传输手臂一侧设置有吹扫气体喷嘴，所述吹扫气体喷嘴用于将所述吹扫气体管路输送的吹扫气体喷出以对所述晶圆传送手臂的后端进行吹扫。
[0010]较佳地，所述吹扫气体管路与所述光刻胶去除机台的氮气气路连通。
[0011]较佳地，所述清洁腔室包括清洗结构和干燥结构；
[0012]所述清洗结构包括依次联通的清洗液容置腔、清洗液管路、清洗液喷嘴；
[0013]所述干燥结构包括依次联通的干燥气体管路、干燥气体喷嘴。
[0014]较佳地，所述干燥气体管路与所述光刻胶去除机台的氮气气路连通。
[0015]较佳地，所述光刻胶去除机台的氮气气路与厂务端氮气提供系统连通。
[0016]较佳地，所述厂务端氮气提供系统提供的氮气的压力大于标准大气压。
[0017]较佳地，所述清洗液容置腔与厂务端清洗液系统连通。
[0018]较佳地，所述清洗液为去离子水。
[0019]较佳地，所述晶圆传送手臂的材质为防腐蚀材质。
[0020]本技术通过对晶圆传送手臂的后端增加吹扫结构，在对晶圆传送手臂的前端进行清洁和干燥过程中，吹扫结构的气体通过气体喷嘴喷出形成“气帘”，一方面可以有效防止清洗液飞溅至后端，另一方面，还可以将已飞溅至后端的清洗液及时吹干，避免了吸附酸气后长期积累对机台氛围产生的影响，进而避免了对产品良率的影响。本技术结构简单，可操作性强，可以广泛应用于相关设备。
附图说明
[0021]为了更清楚地说明本技术的技术方案，下面对本技术所需要使用的附图作简单的介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0022]图1是本技术的清洁及干燥机构一实施例的结构示意图；
[0023]图2是本技术的清洁及干燥机构一实施例的吹扫结构的正面视图；
[0024]图3是本技术的清洁及干燥机构以实施例的气体吹扫部件的仰视图；
[0025]图4是本技术的清洁及干燥机构一实施例的对晶圆传送手臂清洁及干燥过程中的结构示意图。
[0026]图中，1
‑
清洁腔室；2
‑
吹扫结构；3
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氮气气路；4
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晶圆传送手臂；11
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清洗结构；12
‑
干燥结构；21
‑
吹扫气体管路；22
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气体吹扫部件；23
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吹扫气体喷嘴；41
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前端；42
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后端；111
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清洗液容置腔；112
‑
清洗液管路；113
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清洗液喷嘴；121
‑
干燥气体管路；122
‑
干燥气体喷嘴。
具体实施方式
[0027]下面将结合附图，对本技术中的技术方案进行清楚、完整的描述，显然，所描述的实施例是本技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其它实施例，都属于本技术保护的范围。
[0028]参考图1、图2、图3及图4，示出了本技术实施例的一种光刻胶去除机台的晶圆传送手臂4的清洁及干燥机构，包括：
[0029]清洁腔室1，设置于所述光刻胶去除机台内部，用于对所述晶圆传送手臂4的前端41承载晶圆部位进行清洗和干燥；
[0030]吹扫结构2，设置于所述光刻胶去除机台内部，用于对所述晶圆传送手臂4的后端42进行吹扫；
[0031]所述吹扫结构2包括依次连通的吹扫气体管路21、气体吹扫部件22；
[0032]所述气体吹扫部件22朝向所述晶圆传输手臂4的一侧设置有吹扫气体喷嘴23，所述吹扫气体喷嘴23用于将所述吹扫气体管路21输送的吹扫气体喷出以对所述晶圆传送手
臂4的后端42进行吹扫。
[0033]本技术实施例中，对晶圆传送手臂4的后端42增加了吹扫结构2，在对晶圆传送手臂4的前端41进行清洁和干燥过程中，吹扫结构2通过气体喷嘴喷出气体形成“气帘”，一方面可以有效防止清洗液飞溅至后端42，另一方面，还可以将已飞溅至后端42的清洗液及时吹干，避免了吸附酸气后长期积累对机台氛围产生的影响。本技术实施例中，在对晶圆传送手臂4的前端41执行清洁和干燥的过程中开启吹扫结构2，清洁和干燥结束时，关闭吹扫结构2。可理解地，吹扫结构2的打开或关闭，可以由控制开关执行，控制开关设置于吹扫气体管路21；当需要对晶圆传送手臂4的前端41进行清洁和干燥时，光刻胶去除机台同时发送指令至清洁腔室1与吹扫结构2的控制开关，清洁腔室1开始对前端41执行清洗及干燥，吹扫结构2开始对后端42执行吹扫；当前端41清洗及干燥完毕，光刻胶去除机台同时发送指令至清洁腔室1与吹扫结构2的控制开关，清洁腔室1结束对前端41的清洁及干燥，吹扫结构2结束对后端42的吹本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光刻胶去除机台的晶圆传送手臂的清洁及干燥机构，其特征在于，包括：清洁腔室，设置于所述光刻胶去除机台内部，用于对所述晶圆传送手臂的前端承载晶圆的部位进行清洗和干燥；吹扫结构，设置于所述光刻胶去除机台内部，用于对所述晶圆传送手臂的后端进行吹扫；所述吹扫结构包括依次连通的吹扫气体管路、气体吹扫部件；所述气体吹扫部件朝向所述晶圆传输手臂一侧设置有吹扫气体喷嘴，所述吹扫气体喷嘴用于将所述吹扫气体管路输送的吹扫气体喷出以对所述晶圆传送手臂的后端进行吹扫。2.如权利要求1所述的清洁及干燥机构，其特征在于，所述吹扫气体管路与所述光刻胶去除机台的氮气气路连通。3.如权利要求2所述的清洁及干燥机构，其特征在于，所述清洁腔室包括清洗结构和干燥结构；所述清洗结构包括依次联通的清...

【专利技术属性】
技术研发人员：汤永桃，
申请(专利权)人：上海华力微电子有限公司，
类型：新型
国别省市：