湿法工艺监控装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术的湿法工艺监控装置是利用歧管连接到湿法工艺溶液槽，使得所述湿法工艺的化学溶液流过其中以进行检测。其包含去气泡装置、流体单元、微粒检测器和化学溶液浓度检测器。所述去气泡装置连接到所述歧管，用于将所述化学溶液中的气泡去除，以去除噪声。所述流体单元连接到所述去气泡装置，使得所述化学溶液流通其中。所述微粒检测器用以检测所述流体单元中所述化学溶液的微粒数。所述化学溶液浓度检测器是用以检测流体单元中所述化学溶液的浓度。（*该技术在2017年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种湿法工艺监控装置，尤其涉及一种具实时监控功能的湿法工艺 监控装置。
技术介绍
多年以来半导体湿法工艺(wet process) —直存在一个生产管理上的问题，也就是 当25片晶片或是现在普遍的50片晶片同时放进一个大的化学槽时，到底如何判定这些 晶片在槽中的状况是正常而可进行晶片工艺，实为当前极想要克服的难题。如果化学槽 的状态已不适合工艺进行，那么在未知的状况下继续进行工艺将蒙受成品率和成本的损失。当前温度、浓度和流量可以当作一个基本参数以反映这个化学槽的状况。现有的监 控可以做到而且不影响化学槽工艺进行的是温度监控，而浓度监控必须从循环系统中分 流出来，再利用光学分光原理来判别。因此，虽然浓度可以作为目前的一个监控方式， 但仍然无法有效反应化学槽的状况。另外，这些化学槽在处理这些晶片的时候有一个共同的特点，不管是清洗晶片表面 或是要将晶片表面的某些物质去除掉，可以用微粒或微尘(在液体中的微粒数量，英文 称Particle)来监控。这些被清洗或是被去除掉的物质会存在于液体中，直到被循环系统 过滤器过滤掉，或是在槽体中反应成另一种产物而反应掉。但在被完全反应之前或是被本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种湿法工艺监控装置，其利用歧管连接到湿法工艺溶液槽，使得所述湿法工艺的化学溶液流过其中以进行检测，其特征在于包含：去气泡装置，其连接到所述歧管，用于将所述化学溶液中的气泡去除；流体单元，其连接到所述去气泡装置，使得所述化学 溶液流通其中；微粒检测器，其用以检测所述流体单元中所述化学溶液的微粒数；和化学溶液浓度检测器，其用以检测流体单元中所述化学溶液的浓度。

【技术特征摘要】
1.一种湿法工艺监控装置，其利用歧管连接到湿法工艺溶液槽，使得所述湿法工艺的化学溶液流过其中以进行检测，其特征在于包含去气泡装置，其连接到所述歧管，用于将所述化学溶液中的气泡去除；流体单元，其连接到所述去气泡装置，使得所述化学溶液流通其中；微粒检测器，其用以检测所述流体单元中所述化学溶液的微粒数；和化学溶液浓度检测器，其用以检测流体单元中所述化学溶液的浓度。2. 根据权利要求1所述的湿法工艺监控装置，其特征在于所述微粒检测器和...

【专利技术属性】
技术研发人员：林政铭，
申请(专利权)人：先进能源科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：71[中国|台湾]