半导体清洗设备制造技术

本申请提供了一种半导体清洗设备，包括：机架；多个处理槽，多个处理槽位于机架内；门组件，设于机架上，与机架活动连接；连接机构，包括电磁铁组件和吸附组件，电磁铁组件和吸附组件分别设于机架和门组件上，连接机构用于使门组件相对于机架处于开启或闭合状态；提示装置，设于门组件上，用于提示门组件的实时状态。通过本申请的技术方案，门组件能够在机架上实现自锁和解锁，可以防止人为疏漏，并且方便维护工作。护工作。护工作。

【技术实现步骤摘要】
半导体清洗设备


[0001]本申请属于清洗设备
，具体而言，涉及一种半导体清洗设备。

技术介绍

[0002]在现有半导体晶圆槽式湿洗清洗设备中，门板的锁紧结构包括在门板上下加装手动锁紧扣，以及在门板中部加装连接机架的锁紧扣两种普遍类型。前者需要使用专用的工具(电柜钥匙)频繁手动开关，开关门板十分不便。后者不仅需要手动开关且维护不方便。湿洗清洗设备中的溶液存在一定毒性，有时因个人疏忽未紧缩门扣还会导致损害工作人员的生命健康。湿洗清洗设备对于环境洁净度要求很高，所以工作过程必须与外界隔离，如果在门未关闭的状态下启动设备会导致有害气体逸出，门板未锁紧也可能对工艺效果产生较大的影响。

技术实现思路

[0003]本申请旨在解决上述技术问题的至少之一。
[0004]有鉴于此，本申请的一个目的在于提供一种半导体清洗设备。
[0005]为了实现上述目的，本申请的技术方案提供了一种半导体清洗设备，包括：机架；多个处理槽，多个处理槽位于机架内；门组件，设于机架上，与机架活动连接；连接机构，包括电磁铁组件和吸附组件，电磁铁组件和吸附本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种半导体清洗设备，其特征在于，包括：机架(110)；多个处理槽(100)，多个所述处理槽(100)位于所述机架(110)内；门组件(220)，设于所述机架(110)上，与所述机架活动连接；连接机构，包括电磁铁组件(210)和吸附组件，所述电磁铁组件(210)和所述吸附组件分别设于所述机架(110)和所述门组件(220)上，所述连接机构用于使所述门组件(220)相对于所述机架(110)处于开启或闭合状态；提示装置，设于所述门组件(220)上，用于提示所述门组件(220)的实时状态。2.根据权利要求1所述的半导体清洗设备，其特征在于，所述半导体清洗设备还包括：工控机，与所述电磁铁组件(210)相连，所述工控机用于调节所述电磁铁组件(210)的通电电流。3.根据权利要求2所述的半导体清洗设备，其特征在于，所述电磁铁组件(210)通电并与所述吸附组件接触时，所述门组件(220)相对于所述机架处于关闭状态；所述电磁铁组件(210)与所述吸附组件无接触时，所述门组件(220)相对于所述机架处于开启状态。4.根据权利要求3所述的半导体清洗设备，其特征在于，所述提示装置与所述工控机电连接，所述工控机还用于控制所述提示装置的启闭；所述提示装置包括：第一传感器和第二传感器，所述第一传感器用于发出信号，所述第二传感器用于接收所述第一传感器发出的所述信号，所述第一传感器和...

【专利技术属性】
技术研发人员：左国军，龚泽熙，庄海云，李雄朋，
申请(专利权)人：创微微电子常州有限公司，
类型：新型
国别省市：