真空化学反应设备制造技术

在一种真空化学反应设备中，许多挂片座是从一挂片架径向地伸展出来的．大量的基片安置在各个挂片座的几乎整个表面上．每一个挂片座的形状，从正视图上看是一多边形．（*该技术在2006年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
概括地讲，本专利技术涉及可引入反应性气体从而引起化学反应的真空化学反应设备。更具体地说，本专利技术是同一种能同时处理许多物件，如半导体基片，电子元件和光学元件的真空化学反应设备有关。这种真空化学反应设备可用作反应性离子刻蚀装置。化学气相淀积装置和表面处理装置等等。在真空状态下进行化学反应的各种不同的反应设备早已经有人提出过，在这类真空反应设备中，对于如何把待处理的物件(称为“基片”)送入反应器中以提高生产率的问题已做过许多努力。现在先概述一下先有技术中的这类真空反应设备。按照一种常用的方法，许多基片是安排在一个单一的平面上或者是一个三维支架的整个表面上。例如本专利技术的申请人Tatsuo ASAMAK I在题为“形成薄膜的基本概念”的书中就描述过这种方法(Nikkan，Kogyo Shinbun出版社，1984年7月30日出版，第1201页，图5.24(a)。在这一图上，许多基片是放在一块薄的圆形平板的上表面上，类似地，如表9.4C(第194页)所示，许多基片是放在一圆柱形或正方形立柱的侧表面上(内表面或外表面)。不过，按照这些先有技术方法，能安置在基片支架表面上的基本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种真空化学反应设备，包括：在真空条件下可存放许多待处理物件的真空室；把真空室内部的压力抽空到一预定的低压力值的抽气装置；抽气装置完成抽空操作后，把一种反应性的气体导入真空室内，以便各个物件的表面能进行化学反应的导气装置；将 许多物件保持在真空室内的物件保持装置；将在真空室外的许多物件运送到位于真空室内的物件保持装置的传输装置，其特征是：该物件保持装置包括挂片架和从挂片架上伸展开来的许多挂片座，挂片座上有许多保持物件的支承构件，以让大量物件基本上挂满 挂片座的几乎整个表面；该挂片架可在真空室内移动，利用这一移动，至少有两个被该物件支持构件所支...

【技术特征摘要】
JP 1985-7-25 164670/851.一种真空化学反应设备，包括在真空条件下可存放许多待处理物件的真空室；把真空室内部的压力抽空到一预定的低压力值的抽气装置；抽气装置完成抽空操作后，把一种反应性的气体导入真空室内，以便各个物件的表面能进行化学反应的导气装置；将许多物件保持在真空室内的物件保持装置；将在真空室外的许多物件运送到位于真空室内的物件保持装置的传输装置，其特征是该物件保持装置包括挂片架和从挂片架上伸展开来的许多挂片座，挂片座上有许多保持物件的支承构件，以让大量物件基本上挂满挂片座的几乎整个表面；该挂片架可在真空室内移动，利用这一移动，至少有两个被该物件支持构件所支承的物件，可被输送过既定的基本上是相同的平面；接受来自该物件支承构件上至少两个基本上是位于相同平面上的物件，并将其送到输送装置去的装置。2.根据权利要求1的真空化学反应设备，其中该待处理的物件是一种基片，该挂片座具有做为电极的另一功能，并在真空化学反应设备内利用放电反应。3.根据权利要求1的真空化学反应设备，其中该待处理的物件是一种基片，该挂片座具有作为加热器的另一功能，而真空化学反应设备是用作化学汽相沉积设备。4.根据权利要求1的真空化学反应设备，其中该待处理的物件是一种基片...

【专利技术属性】
技术研发人员：麻时立男，
申请(专利权)人：日电阿尼尔瓦株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]