本实用新型专利技术公开了一种非晶纳米晶带材生产用抛光装置，包括工作箱体，工作箱体前端面上下侧均安装有门体，所述工作箱体两侧内壁中部固定有隔板，隔板将工作箱体分隔成两个打磨室，打磨室前后侧内壁均转动安装有限位辊，所述限位辊下侧均设置有打磨辊，同一个打磨室内的两个所述打磨辊后侧均穿过工作箱体并通过输送带一传动连接，工作箱体后端面中部转动安装有连动杆，连动杆与下侧打磨室内的其中一个所述打磨辊通过齿轮组转动连接。本实用新型专利技术设计合理，装置运行稳定，打磨效率高，且对非晶纳米晶带材打磨质量好，废墟清除彻底，从而为非晶纳米晶带材的高质量制备提供了一定的保障。晶纳米晶带材的高质量制备提供了一定的保障。晶纳米晶带材的高质量制备提供了一定的保障。
【技术实现步骤摘要】
一种非晶纳米晶带材生产用抛光装置
[0001]本技术涉及非晶纳米晶带材
，尤其涉及一种非晶纳米晶带材生产用抛光装置。
技术介绍
[0002]抛光工艺是使工件表面粗糙度降低，以获得光亮、平整表面的加工方法，是利用抛光工具和磨料颗粒或其他抛光介质对工件表面进行的修饰加工，抛光不能提高工件的尺寸精度或几何形状精度，而是以得到光滑表面或镜面光泽为目的，在非晶纳米晶带材制备后表面常有小颗粒物质，为满足非晶纳米晶带材出厂粗糙度的要求常需要对其进行抛光，这就要用到抛光设备。
[0003]经检索，申请公布号201920834429.的专利，公开一种非晶纳米晶带材生产用抛光装置，包括防护罩、壳体、抛光室、蓄水室和循环水罐，壳体的内部设有抛光室，抛光室位置处的壳体一端设有进料口，进料口同一高度位置处的壳体另一端设有出料口，且出料口与进料口内部的底端皆通过轴承安装有导向辊，抛光室内部靠近进料口一侧的中间位置处设有第一传动辊，第一传动辊靠近出料口一侧的抛光室内部设有第二传动辊，第二传动辊与第一传动辊正上方的抛光室内部设有安装架，安装架呈“U”形，安装架的内侧设有分别与第一传动辊和第二传动辊相配合的挤压辊，安装架顶部的两端皆通过轴承安装有调节螺栓，调节螺栓的顶端皆延伸至壳体上方，且壳体上设有与调节螺栓相配合的内螺纹孔，第一传动辊与第二传动辊之间的抛光室内部设有防护罩，第一传动辊与第二传动辊同一高度位置处的防护罩两端皆设有通孔。
[0004]上述装置在使用时对非晶纳米晶带材打磨效果不好，废屑清楚不彻底，这严重影响了非晶纳米晶带制备的质量，难以满足人们高质量生产的要求，所以研究一种非晶纳米晶带材生产用抛光装置是很有必要的。
技术实现思路
[0005]本技术的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种非晶纳米晶带材生产用抛光装置。
[0006]为了实现上述目的，本技术采用了如下技术方案：
[0007]一种非晶纳米晶带材生产用抛光装置，包括工作箱体，工作箱体前端面上下侧均安装有门体，所述工作箱体两侧内壁中部固定有隔板，隔板将工作箱体分隔成两个打磨室，打磨室前后侧内壁均转动安装有限位辊，所述限位辊下侧均设置有打磨辊，同一个打磨室内的两个所述打磨辊后侧均穿过工作箱体并通过输送带一传动连接，工作箱体后端面中部转动安装有连动杆，连动杆与下侧打磨室内的其中一个所述打磨辊通过齿轮组转动连接，连动杆与上侧打磨室内的其中一个所述打磨辊通过输送带二转动连接，所述工作箱体后端一侧还设置有固定座一，固定座一顶面通过螺钉固接有伺服电机一，伺服电机一输出端与其中一个所述打磨辊固定连接，所述工作箱体外端一侧还设置有支撑座，两个所述支撑座
上下部分别转动连接有放卷辊和收卷辊，支撑座后侧还设置有固定座二，固定座二顶面通过螺钉固接有伺服电机二，伺服电机二输出端与收卷辊固定连接，所述打磨室靠近支撑座一侧均开设有导料孔，导料孔前后侧内壁均转动连接有导向辊，所述打磨辊一侧均设置有吸屑组件，吸屑组件底端均贯通连接有排灰管，所述工作箱体后侧还设置有旋风收集器，旋风收集器前侧设置有安装座，安装座顶面通过螺钉固接有气泵，所述气泵输出端与旋风收集器的输入端贯通连接，气泵输入端还固定有集灰皿，所述排灰管的后侧均穿过工作箱体并与集灰皿贯通连接。
[0008]优选的，所述吸屑组件包括收集皿，收集皿顶面贯通连接有吸尘漏斗，所述收集皿顶面还固定有安装条，安装条顶端均固定有毛刷，所述收集皿底侧还固定有出料皿，出料皿与排灰管贯通连接。
[0009]优选的，所述收集皿下端两侧朝中部倾斜设置，吸尘漏斗设有多个并呈矩阵状分布在收集皿顶面上。
[0010]优选的，所述安装条设有多根并均匀分布在收集皿顶面上，且安装条均设置在吸尘漏斗之间。
[0011]优选的所述打磨辊均设有两个，同一个打磨室内的两个所述打磨辊均位于同一水平面上。
[0012]优选的，所述隔板顶面背离支撑座一侧还贯穿开设有用于导料的矩状槽，支撑座设有两个并对称分布在工作箱体中心的前后侧位置。
[0013]与现有技术相比，本技术的有益效果是：
[0014]1、本技术设计合理，装置运行稳定，打磨效率高，且对非晶纳米晶带材打磨质量好，废墟清除彻底，从而为非晶纳米晶带材的高质量制备提供了一定的保障；
[0015]2、本技术在使用时通过在两个打磨室内实现非晶纳米晶带材的双面打磨作业，在非晶纳米晶带材单面打磨时通过打磨辊打磨和吸屑组件交替作业，从而实现非晶纳米晶带材单面的两次打磨和废削吸附，进而很好的保证了非晶纳米晶带材打磨和废削处理的质量，为非晶纳米晶带材的高质出厂提供了一定的保障；
[0016]3、本技术在打磨后在气泵作用下使收集皿内形成负压，在负压力作用下打磨的废屑从吸尘漏斗导入，此时毛刷还能对非晶纳米晶带材滞留废削刷落，从而为非晶纳米晶带材表面废削的完全去除提供了一定的保障。
附图说明
[0017]图1为本技术提出的一种非晶纳米晶带材生产用抛光装置的正视图；
[0018]图2为本技术提出的一种非晶纳米晶带材生产用抛光装置的正面剖视图；
[0019]图3为本技术提出的一种非晶纳米晶带材生产用抛光装置的俯视图；
[0020]图4为本技术提出的一种非晶纳米晶带材生产用抛光装置中吸屑组件的平面图。
[0021]图中：工作箱体1、门体2、隔板3、限位辊4、打磨辊5、连动杆6、伺服电机一7、支撑座8、放卷辊9、收卷辊10、伺服电机二11、导向辊12、吸屑组件13、排灰管14、旋风收集器15、安装座16、气泵17、集灰皿18、收集皿131、吸尘漏斗132、安装条133、毛刷134、出料皿135。
具体实施方式
[0022]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。
[0023]实施例一
[0024]参照图1
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3，一种非晶纳米晶带材生产用抛光装置，包括工作箱体1，工作箱体1前端面上下侧均安装有门体2，工作箱体1两侧内壁中部固定有隔板3，隔板3将工作箱体1分隔成两个打磨室，打磨室前后侧内壁均转动安装有限位辊4，限位辊4下侧均设置有打磨辊5，打磨辊5与限位辊4之间的距离与非晶纳米晶带材的厚度相吻合，同一个打磨室内的两个打磨辊5后侧均穿过工作箱体1并通过输送带一传动连接，工作箱体1后端面中部转动安装有连动杆6，连动杆6与下侧打磨室内的其中一个打磨辊5通过齿轮组转动连接，连动杆6与上侧打磨室内的其中一个打磨辊5通过输送带二转动连接，工作箱体1后端一侧还设置有固定座一，固定座一顶面通过螺钉固接有伺服电机一7，伺服电机一7输出端与其中一个打磨辊5固定连接，工作箱体1外端一侧还设置有支撑座8，两个支撑座8上下部分别转动连接有放卷辊9和收卷辊10，支撑座8后侧还设置有固定座二，固定座二顶面通过螺钉固接有伺服电机二11，伺服电机二本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种非晶纳米晶带材生产用抛光装置，包括工作箱体(1)，工作箱体(1)前端面上下侧均安装有门体(2)，其特征在于，所述工作箱体(1)两侧内壁中部固定有隔板(3)，隔板(3)将工作箱体(1)分隔成两个打磨室，打磨室前后侧内壁均转动安装有限位辊(4)，所述限位辊(4)下侧均设置有打磨辊(5)，同一个打磨室内的两个所述打磨辊(5)后侧均穿过工作箱体(1)并通过输送带一传动连接，工作箱体(1)后端面中部转动安装有连动杆(6)，连动杆(6)与下侧打磨室内的其中一个所述打磨辊(5)通过齿轮组转动连接，连动杆(6)与上侧打磨室内的其中一个所述打磨辊(5)通过输送带二转动连接，所述工作箱体(1)后端一侧还设置有固定座一，固定座一顶面通过螺钉固接有伺服电机一(7)，伺服电机一(7)输出端与其中一个所述打磨辊(5)固定连接；所述工作箱体(1)外端一侧还设置有支撑座(8)，两个所述支撑座(8)上下部分别转动连接有放卷辊(9)和收卷辊(10)，支撑座(8)后侧还设置有固定座二，固定座二顶面通过螺钉固接有伺服电机二(11)，伺服电机二(11)输出端与收卷辊(10)固定连接，所述打磨室靠近支撑座(8)一侧均开设有导料孔，导料孔前后侧内壁均转动连接有导向辊(12)，所述打磨辊(5)一侧均设置有吸屑组件(13)，吸屑组件(13)底端均贯通连接有排灰管(14)，所述工作箱体(1)后侧还设置有旋风收集器(15)，旋风收集器(15)前侧设置有安装座(16)，安装座(16)顶面通过螺钉固接有...
【专利技术属性】
技术研发人员：郑晓沛，陈永丽，朱小琴，
申请(专利权)人：安徽中环晶研新材料有限公司，
类型：新型
国别省市：
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