干燥装置及基板表面处理方法制造方法及图纸

将氮气供给喷嘴３４，产生通过喷气孔３５喷出的氮气的喷射气流３６。喷射气流３６呈膜状，沿处理槽１１的侧壁的内侧表面上升，然后通过在处理槽１１的上部形成的吸气口３３，到达外部被收回。由于处理槽１１的侧壁的内侧表面被喷射气流３６覆盖，所以能抑制ＩＰＡ蒸汽在该内侧表面上的无用的冷凝。其结果，ＩＰＡ蒸汽能被有效地用于放置在托盘６上的处理对象表面上的冷凝，所以能抑制处理对象的干燥不良。（*该技术在2018年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及适用于半导体晶片干燥的技术，特别是涉及抑制干燥不良的技术改进。图22是表示本专利技术的背景的现有的干燥装置的结构的正视剖面图。该干燥装置151是以半导体晶片的干燥为目的而构成的装置。在装置151中备有上方开口的处理槽171。在处理槽171的侧壁上方部分的内侧沿着处理槽171的侧壁安装着冷凝盘管162。冷凝盘管162是用石英管构成的，冷却水在其内部流动。加热器170设置在处理槽171的底部正下方。另外，托盘166固定在处理槽171内部且位于底部和上方的开口端之间的位置。排水管道180连接在该托盘166的底部上。使用装置151时，首先，将IPA(异丙醇)液167注入处理槽171内部。调整处理槽171的深度，使液面达不到托盘166的底部。而且，使冷却水在冷凝盘管162内部流动。另外，通过接通加热器170，加热IPA液167。其结果，IPA液167气化，产生IPA蒸汽165。该IPA蒸汽165充满处理槽171内部。IPA蒸汽165在冷凝盘管162附近因冷却而冷凝。即，冷凝盘管162起防止IPA蒸汽165漏到处理槽171的外部的作用。因此，在处理槽171中IPA液体167储存在底部附近的液体储存部169处，IPA蒸汽165充满从液体储存部169的上方至设置冷凝盘管162附近的蒸汽填充部168。在蒸汽填充部168中充满IPA蒸汽165后，便开始对作为处理对象的半导体晶片163进行处理。即，许多半导体晶片163和装载它们的盒164在水洗处理结束后，由保持臂161放下来，从处理槽171的上方插入蒸汽填充部168中。如图22所示，装载半导体晶片163的盒164由保持臂161保持在托盘166的正上方。于是，充满蒸汽填充部168的IPA蒸汽165一旦进入附着在半导体晶片163及盒164的表面上的水滴中便被冷凝溶入。其结果，实际上是水滴被换成IPA液滴，从半导体晶片163及盒164的表面上滑落。这样，就能实现被水滴弄湿了的半导体晶片163及盒164的干燥。滑落的IPA液滴由托盘166收回，通过管道180排出到外部。干燥处理结束后，用保持臂161将盒164拉上去，取出到处理槽171外部。此后将所取出的盒164送到下一个处理工序中。然后，将新的半导体晶片163及盒164投入处理槽171中。这样反复进行半导体晶片163及盒164的干燥处理。可是，在现有的装置151中，IPA蒸汽165不仅在被投入的对作为处理对象的半导体晶片163上，而且还在处理槽171的内壁表面等不必要的部分上冷凝。此外，托盘166有碍于IPA蒸汽165的流动。因此，IPA蒸汽165不能在半导体晶片163上进行充分地冷凝，其结果是干燥得不够充分，存在产生干燥不良的问题。而且，这种情况已成为在半导体晶片163上制作的半导体器件的合格率下降的重要原因之一。本专利技术就是为了解决现有技术中的上述问题而完成的，其目的在于提供一种能抑制干燥不良的干燥技术。专利技术的第一方面的装置是一种储存并加热水溶性的溶剂溶液，通过使从上述溶剂溶液产生的蒸汽在处理对象的表面上冷凝，使该处理对象的表面干燥用的干燥装置，它备有处理槽，在该处理槽的上部有能使上述处理对象出入的朝上开口的开口部，在底部可以储存上述溶剂溶液，同时在所储存的该溶剂溶液的上方可收容上述处理对象。而且，上述装置还备有可以加热储存在上述处理槽的上述底部的上述溶剂溶液的加热器；防止上述蒸汽通过上述开口部而从上述处理槽内部放散到外部的放散防止装置；以及通过接收气体的供给，产生可以沿着上述处理槽的侧壁的内侧表面且覆盖着该内侧表面流动的上述气流的喷嘴；在上述处理槽的上述侧壁上还设有可以收回沿上述内侧表面流动后的上述气体的吸气口。专利技术的第二方面的装置是在第一方面的干燥装置中，将上述喷嘴设置在上述侧壁的下部，而将上述吸气口设在上述侧壁的上部，以便上述气体沿上述内侧表面从下部向上部覆盖着该内侧表面流动后，到达上述吸气口后能被收回。专利技术的第三方面的装置是在第一方面的干燥装置中，将上述喷嘴设置在上述侧壁的上部，而将上述吸气口设在上述侧壁的下部，以便上述气体沿上述内侧表面从上部向下部覆盖着该内侧表面流动后，通过收容上述处理对象的部位而到达上述吸气口后能被收回。专利技术的第四方面的装置是在第一至第三方面中任意一方面的干燥装置中，还备有吸引装置和混合气体生成装置，上述吸引装置介于上述吸气口和上述混合气体生成装置之间，通过上述吸气口对上述处理槽的内部进行吸引，上述混合气体生成装置介于上述吸引装置和上述喷嘴之间，作为上述气体，是将非反应性气体和上述蒸汽的混合气体供给上述喷嘴，而且提高由上述吸引装置吸引的上述混合气体中的上述蒸汽的浓度后供给上述喷嘴。专利技术的第五方面的装置是在第四方面的干燥装置中，还备有介于上述混合气体生成装置和上述喷嘴之间、输送上述混合气体用的混合气体管道；将上述加热器作为第一加热器，还有安装在上述混合气体管道上、用来加热该在混合气体管道中输送的上述混合气体的第二加热器。专利技术的第六方面的装置是在第五方面的干燥装置中，上述混合气体生成装置备有可储存上述溶剂溶液的混合槽；以及通过加热该混合槽中储存的上述溶剂溶液，生成该溶剂溶液的蒸汽用的第三加热器。而且，上述混合槽通过将由储存在该混合槽中的上述溶剂溶液生成的蒸汽混入由上述吸引装置吸引的上述混合气体中，来提高该混合气体中的上述蒸汽的浓度，上述干燥装置还备有检测通过上述吸气口的上述混合气体中的上述蒸汽的浓度用的浓度传感器；以及控制上述第一至第三加热器的加热功率，以便消除由上述浓度传感器检测的上述浓度与目标值之间的偏差的控制装置。专利技术的第七方面的装置是在第六方面的干燥装置中，上述控制装置除了控制上述第一至第三加热器的加热功率以外，还控制上述吸引装置的吸引功率，以便消除由上述浓度传感器检测的上述浓度与上述目标值之间的偏差。专利技术的第八方面的装置是在第二方面的干燥装置中，还备有安装在上述侧壁上的转换流动方向的整流构件，用来当上述气体沿上述内侧表面、从下部至上部覆盖该内侧表面流动后，就向收容上述处理对象的部位流动。专利技术的第九方面的装置是在第一至第八方面中任意一方面的干燥装置中，上述喷嘴备有从内侧到外侧多层组合的多个管道，上述各个管道配置了沿中心轴排列的多个喷出孔，其结果是在上述多个管道中，供给最内侧管道的上述气体通过上述多个喷出孔，依次供给外侧的管道，同时通过位于最外侧的管道上设的上述多个喷出孔，沿上述侧壁的上述内侧表面喷出，而且在上述多个管道中的任意一个及其外侧的一个之间，分别设置的上述喷出孔互相朝向相反侧。专利技术的第十方面的装置是一种储存并加热水溶性的溶剂溶液，通过使从上述溶剂溶液产生的蒸汽在处理对象的表面上冷凝，以使该处理对象的表面干燥用的干燥装置，它备有处理槽，在该处理槽的上部有能使上述处理对象出入的朝上开口的开口部，在底部可以储存上述溶剂溶液，同时在所储存的该溶剂溶液的上方可收容上述处理对象。而且，上述装置还备有可以加热储存在上述处理槽的上述底部的上述溶剂溶液的加热器；防止上述蒸汽通过上述开口部而从上述处理槽内部放散到外部的放散防止装置；以及通过接收气体的供给，将上述气体喷出到上述处理槽中储存的上述溶剂溶液中，从而能使上述溶剂溶液起泡的喷嘴，上述处理槽还在上述侧壁上设有可以收回发泡本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种储存并加热水溶性的溶剂溶液《７》，通过使从上述溶剂溶液产生的蒸汽《５》在处理对象《３、４》的表面上冷凝，使该处理对象的表面干燥用的干燥装置，其特征在于备有下述部分： 在上部有能使上述处理对象出入的朝上开口的开口部《２２》，在底部可以储存上述溶剂溶液，同时在所储存的该溶剂溶液的上方可收容上述处理对象的处理槽《１１》； 可以加热储存在上述处理槽的上述底部的上述溶剂溶液的加热器《１０》； 防止上述蒸汽通过上述开口部而从上述处理槽内部放散到外部的放散防止装置《１３、１４、１５》； 以及通过接收气体的供给，产生可以沿着上述处理槽的侧壁的内侧表面且覆盖着该内侧表面流动的上述气流的喷嘴《３４、４１》， 在上述处理槽的上述侧壁上还设有可以收回沿上述内侧表面流动后的上述气体的吸气口《３３》。

【技术特征摘要】
JP 1997-5-22 132045/971.一种储存并加热水溶性的溶剂溶液《7》，通过使从上述溶剂溶液产生的蒸汽《5》在处理对象《3、4》的表面上冷凝，使该处理对象的表面干燥用的干燥装置，其特征在于备有下述部分在上部有能使上述处理对象出入的朝上开口的开口部《22》，在底部可以储存上述溶剂溶液，同时在所储存的该溶剂溶液的上方可收容上述处理对象的处理槽《11》；可以加热储存在上述处理槽的上述底部的上述溶剂溶液的加热器《10》；防止上述蒸汽通过上述开口部而从上述处理槽内部放散到外部的放散防止装置《13、14、15》；以及通过接收气体的供给，产生可以沿着上述处理槽的侧壁的内侧表面且覆盖着该内侧表面流动的上述气流的喷嘴《34、41》，在上述处理槽的上述侧壁上还设有可以收回沿上述内侧表面流动后的上述气体的吸气口《33》。2.根据权利要求1所述的干燥装置，其特征在于将上述喷嘴《34》设置在上述侧壁的下部，而将上述吸气口设在上述侧壁的上部，以便上述气体沿上述内侧表面从下部向上部覆盖着该内侧表面流动后，到达上述吸气口后能被收回。3.根据权利要求1所述的干燥装置，其特征在于将上述喷嘴《41》设置在上述侧壁的上部，而将上述吸气口设在上述侧壁的下部，以便上述气体沿上述内侧表面从上部向下部覆盖着该内侧表面流动后，通过收容上述处理对象的部位而到达上述吸气口后能被收回。4.根据权利要求1至权利要求3中的任意一项所述的干燥装置，其特征在于还备有吸引装置《50》和混合气体生成装置《51》，上述吸引装置介于上述吸气口和上述混合气体生成装置之间，通过上述吸气口对上述处理槽的内部进行吸引，上述混合气体生成装置介于上述吸引装置和上述喷嘴之间，作为上述气体，是将非反应性气体和上述蒸汽的混合气体供给上述喷嘴，而且提高由上述吸引装置吸引的上述混合气体中的上述蒸汽的浓度后供给上述喷嘴。5.根据权利要求4所述的干燥装置，其特征在于还备有介于上述混合气体生成装置和上述喷嘴之间、输送上述混合气体用的混合气体管道《52》；将上述加热器作为第一加热器，安装在上述混合气体管道上、用来加热该混合气体管道中输送的上述混合气体的第二加热器《53》。6.根据权利要求5所述的干燥装置，其特征在于上述混合气体生成装置备有可储存上述溶剂溶液的混合槽《54》；以及通过加热该混合槽中储存的上述溶剂溶液，生成该溶剂溶液的蒸汽用的第三加热器《60》，上述混合槽通过将由储存在该混合槽中的上述溶剂溶液生成的蒸汽混入由上述吸引装置吸引的上述混合气体中，来提高该混合气体中的上述蒸汽的浓度，上述干燥装置还备有检测通过上述吸气口的上述混合气体中的上述蒸汽的浓度用的浓度传感器《71》；以及控制上述第一至第三加热器的加热功率的控制装置《70、75》，以便消除由上述浓度传感器检测的上述浓度与目标值之间的偏差。7.根据权利要求6所述的干燥装置，其特征在于上述控制装置《75》除了控制上述第一至第三加热器的加热功率以外，还控制上述吸引装置的吸引功率，以便消除由上述浓度传感器检测的上述浓度与上述目标值之间的偏差。8.根据权利要求2所述的干燥装置，其特征在于还备有安装在上述侧壁上的转换流动方向的整流构件《95》，用来当上述气体沿上述内侧表面、从下部至上部覆盖该内侧表面流动后，就向收容上述处理对象的部位流动。9.一种储存并加热水溶性的溶剂溶液《7》，通过使从上述溶剂溶液产生的蒸汽《5》在处理对象《3、4》的表面上冷凝，使该处理对象的表面干燥用的干燥装置，其特征在于备有下述部分在上部有能使上述处理对象出入的朝上开口的开口部《22》，在底部可以储存上述溶剂溶液，同时在所储存的该溶剂溶液的上方可收容上述处理对象的处理槽《11》；可以加热储存在上述处理槽的上述底部的上述溶剂溶液的加热器《10》；防止上述蒸汽通过上述开口部而从上述处理槽内部放散到外部的放散防止装置《13、14、15》；以及通过接收气体的...

【专利技术属性】
技术研发人员：松本晓典，黑田健，伴功二，小西瞳子，横井直树，
申请(专利权)人：菱电半导体系统工程株式会社，三菱电机株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]