先进图形薄膜制程工艺中遮挡环安装位置的监测方法技术

本发明专利技术提供一种先进图形薄膜制程工艺中遮挡环安装位置的监测方法，包括：通过量测先进图形薄膜在晶圆的对准标记区域沉积的厚度判断先进图形薄膜制程工艺的遮挡环在圆周方向的安装位置是否准确；通过量测先进图形薄膜在晶圆的对准标记区域之外的边缘区域的厚度是否一致判断遮挡环的在轴向方向的安装位置是否准确。本发明专利技术能够在圆周方向和轴向方向上完整地监测遮挡环的安装位置是否准确，具有监测的实时性、快速性、完整性和准确性。完整性和准确性。完整性和准确性。

【技术实现步骤摘要】
先进图形薄膜制程工艺中遮挡环安装位置的监测方法


[0001]本专利技术涉及半导体制程工艺领域，特别涉及一种先进图形薄膜制程工艺中遮挡环安装位置的监测方法。

技术介绍

[0002]在半导体制程工艺中，进入更小的技术节点(关键尺寸或者线宽)后，当刻蚀面对窄线宽、深沟槽的工艺光刻时，往往光刻胶无法抵挡刻蚀，影响图形的实现。光刻胶的刻蚀选择比一般为1：6，即如果要刻蚀深度的衬底，光刻胶会牺牲实际需要的光刻胶远大于牺牲值，因此光刻胶要涂布的厚度越厚。而实际光刻工艺中，技术节点越小，光刻胶的膜厚要求越薄；从而影响图形了光刻图形的实现。为此，本领域提出在光刻胶涂布之前先沉积先进图形薄膜(APF)，在光刻胶刻蚀时通过先进图形薄膜作为掩模层从而形成图形的光刻，从而使光刻胶具有较高的刻蚀选择比。为了避免晶圆边缘出现弧形堆积及避免在后续光刻制程中产生颗粒缺陷，在先进图形薄膜制程腔体中设置有遮挡环(shadowring)，但是由于遮挡环是有先进图形薄膜制程工艺沉积之前通过肉眼安装，在遮挡环安装合腔之后，无法对遮挡环的位置进行监测，则当遮挡环安装位置出现偏差时，在晶圆的边缘仍然会出现不等距的弧形堆积，从而影响了光刻质量。因此如何在不腔的条件下监测遮挡环的安装位置是否准确成为本领域亟需解决的技术问题。

技术实现思路

[0003]本专利技术的目的在于，提供一种先进图形薄膜制程工艺中遮挡环安装位置的监测方法，以解决如何在不腔的条件下监测遮挡环的安装位置是否准确的问题。
[0004]为达到上述目的，本专利技术提供一种先进图形薄膜制程工艺中遮挡环安装位置的监测方法，包括：
[0005]通过量测先进图形薄膜在晶圆的对准标记区域沉积的厚度判断先进图形薄膜制程工艺的遮挡环在圆周方向的安装位置是否准确；
[0006]通过量测先进图形薄膜在晶圆的对准标记区域之外的边缘区域的厚度是否一致判断遮挡环的在轴向方向的安装位置是否准确。
[0007]进一步的，本专利技术提供的先进图形薄膜制程工艺中遮挡环安装位置的监测方法，所述通过量测先进图形薄膜在晶圆的对准标记区域沉积的厚度判断先进图形薄膜制程工艺的遮挡环在圆周方向的安装位置是否准确的方法包括：
[0008]当晶圆的对准标记区域的沉积的先进图形薄膜的厚度大于非对准标记区域沉积的先进图形薄膜的厚度时，判定遮挡环的外延片覆盖在晶圆的对准标记区域，以确定遮挡环在圆周方向的安装位置准确；
[0009]当晶圆的对准标记区域的沉积的先进图形薄膜的厚度不大于非对准标记区域沉积的先进图形薄膜的厚度时，判定遮挡环的外延片未覆盖在晶圆的对准标记区域，以确定遮挡环在圆周方向的安装位置不准确。
[0010]进一步的，本专利技术提供的先进图形薄膜制程工艺中遮挡环安装位置的监测方法，所述通过量测先进图形薄膜在晶圆的对准标记区域之外的边缘区域的厚度是否一致判断遮挡环的在轴向方向的安装位置是否准确的方法包括；
[0011]当先进图形薄膜在晶圆的对准标记区域之外的边缘区域的厚度相一致时，判定遮挡环的轴向中心与晶圆的轴向中心重合，以确定遮挡环在轴向方向的安装位置准确；
[0012]当先进图形薄膜在晶圆的对准标记区域之外的边缘区域的厚度不一致时，判定遮挡环的轴向中心与晶圆的轴向中心偏离，以确定遮挡环在轴向方向的安装位置不准确。
[0013]进一步的，本专利技术提供的先进图形薄膜制程工艺中遮挡环安装位置的监测方法，通过错开晶圆的对准标记区域在先进图形薄膜边缘的八等分点量测先进图形薄膜的厚度是否一致判断遮挡环的在轴向方向的安装位置是否准确。
[0014]进一步的，本专利技术提供的先进图形薄膜制程工艺中遮挡环安装位置的监测方法，通过错开晶圆的对准标记区域在先进图形薄膜边缘的四等分点量测先进图形薄膜的厚度是否一致判断遮挡环的在轴向方向的安装位置是否准确。
[0015]进一步的，本专利技术提供的先进图形薄膜制程工艺中遮挡环安装位置的监测方法，通过错开晶圆的对准标记区域在先进图形薄膜边缘的六等分点量测先进图形薄膜的厚度是否一致判断遮挡环的在轴向方向的安装位置是否准确。
[0016]进一步的，本专利技术提供的先进图形薄膜制程工艺中遮挡环安装位置的监测方法，通过错开晶圆的对准标记区域在先进图形薄膜边缘的十等分点量测先进图形薄膜的厚度是否一致判断遮挡环的在轴向方向的安装位置是否准确。
[0017]进一步的，本专利技术提供的先进图形薄膜制程工艺中遮挡环安装位置的监测方法，通过错开晶圆的对准标记区域在先进图形薄膜边缘的十二以上等分点量测先进图形薄膜的厚度是否一致判断遮挡环的在轴向方向的安装位置是否准确。
[0018]进一步的，本专利技术提供的先进图形薄膜制程工艺中遮挡环安装位置的监测方法，在先进图形薄膜边缘的斜侧面量测厚度。
[0019]进一步的，本专利技术提供的先进图形薄膜制程工艺中遮挡环安装位置的监测方法，当监测到遮挡环的安装位置准确时，可以继续执行先进图形薄膜制程工艺；当监测到遮挡环的安装位置不准确时，停止执行或者调整后再执行先进图形薄膜制程工艺。
[0020]与现有技术相比，本专利技术提供的先进图形薄膜制程工艺中遮挡环安装位置的监测方法，在安装完成先进图形薄膜制程工艺的遮挡环之后，通过量测晶圆的对准标记区域沉积的先进图形薄膜的厚度判断先进图形薄膜制程工艺的遮挡环在圆周方向的安装位置是否准确，当沉积在对准标记区域的先进图形薄膜的厚度大于非对准标记区域沉积的先进图形薄膜的厚度时，确定遮挡环在圆周方向的安装位置准确，否则确定遮挡环在圆周方向的安装位置不准确，从而在不腔的条件下监测遮挡环的安装位置是否准确；通过量测先进图形薄膜在晶圆的对准标记区域之外的边缘区域的厚度是否一致判断遮挡环的在轴向方向的安装位置是否准确，当先进图形薄膜在晶圆的对准标记区域之外的边缘区域的厚度相一致时，确定遮挡环在轴向方向的安装位置准确，否则确定遮挡环在轴向方向的安装位置不准确，从而实现在圆周方向和轴向方向上完整地监测遮挡环的安装位置是否准确，具有监测的实时性、快速性、完整性和准确性。
附图说明
[0021]图1是晶圆的结构示意图；
[0022]图2是遮挡环的结构示意图；
[0023]图3是遮挡环在晶圆上安装位置准确的结构示意图；
[0024]图4是遮挡环在晶圆的圆周方向上安装位置不准确的结构示意图；
[0025]图5是遮挡环在晶圆的圆周方向上安装位置准确时量测的先进图形薄膜厚度曲线图；
[0026]图6是遮挡环在晶圆的圆周方向上安装位置不准确时量测的先进图形薄膜厚度曲线图；
[0027]图7是遮挡环在晶圆的轴向方向上安装位置不准确的结构示意图；
[0028]图8是在先进图形薄膜边缘四等分点量测先进图形薄膜的厚度的结构示意图；
[0029]图9是在先进图形薄膜边缘八等分点量测先进图形薄膜的厚度的结构示意图；
[0030]图10是遮挡环在轴向方向上安装位置准确时量测四等分点先进图形薄膜的厚度的曲线图；
[0031]图11是遮挡环在轴向方向上安装位本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种先进图形薄膜制程工艺中遮挡环安装位置的监测方法，其特征在于，包括：通过量测先进图形薄膜在晶圆的对准标记区域沉积的厚度判断先进图形薄膜制程工艺的遮挡环在圆周方向的安装位置是否准确；通过量测先进图形薄膜在晶圆的对准标记区域之外的边缘区域的厚度是否一致判断遮挡环的在轴向方向的安装位置是否准确。2.如权利要求1所述的先进图形薄膜制程工艺中遮挡环安装位置的监测方法，其特征在于，所述通过量测先进图形薄膜在晶圆的对准标记区域沉积的厚度判断先进图形薄膜制程工艺的遮挡环在圆周方向的安装位置是否准确的方法包括：当晶圆的对准标记区域的沉积的先进图形薄膜的厚度大于非对准标记区域沉积的先进图形薄膜的厚度时，判定遮挡环的外延片覆盖在晶圆的对准标记区域，以确定遮挡环在圆周方向的安装位置准确；当晶圆的对准标记区域的沉积的先进图形薄膜的厚度不大于非对准标记区域沉积的先进图形薄膜的厚度时，判定遮挡环的外延片未覆盖在晶圆的对准标记区域，以确定遮挡环在圆周方向的安装位置不准确。3.如权利要求1所述的先进图形薄膜制程工艺中遮挡环安装位置的监测方法，其特征在于，所述通过量测先进图形薄膜在晶圆的对准标记区域之外的边缘区域的厚度是否一致判断遮挡环的在轴向方向的安装位置是否准确的方法包括；当先进图形薄膜在晶圆的对准标记区域之外的边缘区域的厚度相一致时，判定遮挡环的轴向中心与晶圆的轴向中心重合，以确定遮挡环在轴向方向的安装位置准确；当先进图形薄膜在晶圆的对准标记区域之外的边缘区域的厚度不一致时，判定遮挡环的轴向中心与晶圆的轴向中心偏离，以确定遮挡环在轴向方向的安装位置不准确。4.如权利要求1所述的先进图形薄膜...

【专利技术属性】
技术研发人员：王雪新，韩晓刚，杨奕，
申请(专利权)人：上海华力微电子有限公司，
类型：发明
国别省市：