降低外界光线反射的有机发光二极管及其制程制造技术

一种降低外界光线反射的有机发光二极体及其制程。为提供一种结构简单、成本低、降低外界光线反射干扰、发光效率佳的显示器部件及其制程，提出本发明专利技术，降低外界光线反射的有机发光二极体包括基板、形成于基板上的金属反射层、形成于金属反射层上的透明阳极电极、形成于透明阳极电极上有机层、形成于有机层上的半透明电子注入阴极层、形成于半透明电子注入阴极层的缓冲层及形成于缓冲层上的透明电极；制程包括提供基板、于基板形成金属反射层、于金属反射层上形成透明阳极电极、于透明阳极电极上形成有机层、于有机层上形成半透明电子注入阴极层及形成透明电极。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于显示器部件及其制程，特别是一种降低外界光线反射的有机发光二极体及其制程。
技术介绍
有机电激发光显示器(Organic Electro luminescence Display；OLED；Organic EL Display)又称为有机发光二极体(Organic Light Emitting Diode；OLED)显示器由于拥有高亮度、荧幕反应速度快、轻薄短小、全彩、无视角差、不需液晶显示器式背光板及节省光源及耗电量，因此，可率先取代扭曲向列(Twist Nematic；TN)及超扭曲向列(Super Twist Nematic；STN)液晶显示器的市场，并进一步取代小尺寸薄膜电晶体液晶显示器，而成为新一代携带型资讯产品、移动电话、个人数位助理器及携带型电脑普遍使用的显示装置。如图1所示，有机发光二极体的基本结构是在镀有透明阳极12的透明基板10上，依序镀上有机材料以形成有机层14、镀上金属以形成金属阴极16。有机层14系包括电洞注入层(hole-Injecting layer；HIL)、电洞传输层(hole-transporting layer；HTL)、发光层(emitting layer；EML)及电子传输层(electron-transporting layer；ETL)。通常阴极金属为不透明且具反射性。当外加电压使元件发光，光经由透明阳极12及透明基板10的路径放射出来。此种通过基板方向发光的方式称为底部发光(bottom emission)；反之，将透明导电阳极镀在不透明具反射性的基板上(也可为在透明基板上镀上一层反射金属层)，接着镀上相同的有机层后，再镀上透明阴极，此时，元件发光系经由透明阴极放射，称之为顶部发光(top emission)。上述两种结构皆因具有金属反射层而容易反射外在环境的入射光，使得显示器面板的对比度降低。因此，传统上，在底部发光结构中会利用黑色且具导电性材料，如氧化锌，插入有机层与反射阴极之间，使外在环境的入射光被此材料吸收而避免产生反射。此种结构称之为黑色阴极(black cathode)。如图2所示，另一种称之为干涉层(black layer)结构，其并非将入射光吸收，而是藉由于有机层22与金属阴板(即反射阴极)28之间镀上多层不同折射率的薄膜构成的干涉层26，并藉由调整干涉层26的厚度使半透明电子注入阴极层24与反射阴极28的反射光产生180°的相位差，造成破坏性干涉而达到降低反射光的效果，进而提升对比。不管是黑色阴极(black cathode)或是干涉层(black layer)的制作，材料的导电性都是考虑的因素。若是选择的材料导电性不佳，可能导致元件的驱动电压增加，与现今要求的低功率消耗不相符合。而干涉层更有各层薄膜折射率的考虑。如此，材料的选择上有一定的难度。此外，制程上只要多一层结构，将会增加不为人们所乐见的成本及时间的增加。在讲究time to market的时程考虑下，制程上只要能减少一层结构，不仅可降低成本，而且缩短制程时间，也毋须为因结构增加而调整相关的制程参数，这将使得产品更具竞争力。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种结构简单、成本低、降低外界光线反射干扰、发光效率佳的降低外界光线反射的有机发光二极体及其制程。本专利技术降低外界光线反射的有机发光二极体包括基板、形成于基板上的金属反射层、形成于金属反射层上的透明阳极电极、形成于透明阳极电极上有机层、形成于有机层上的半透明电子注入阴极层、形成于半透明电子注入阴极层的缓冲层及形成于缓冲层上的透明电极；制程包括提供基板、于基板形成金属反射层、于金属反射层上形成透明阳极电极、于透明阳极电极上形成有机层、于有机层上形成半透明电子注入阴极层及形成透明电极。其中一种降低外界光线反射的有机发光二极体制程，它包括提供基板、于基板形成金属阳极电极、于金属阳极电极上形成有机层、于有机层上形成半透明电子注入阴极层及形成透明电极。一种降低外界光线反射的有机发光二极体，它包括基板、形成于基板上的金属阳极电极、形成于透明阳极电极上有机层、形成于有机层上的半透明电子注入阴极层、形成于半透明电子注入阴极层上的缓冲层及形成于缓冲层上的透明电极。半透明电子注入阴极层上以有机材料形成以便在溅镀透明电极时产生保护效果的缓冲层；透明电极系形成于缓冲层上。半透明电子注入阴极层的厚度约为0.5～5nm。由于本专利技术降低外界光线反射的有机发光二极体包括基板、形成于基板上的金属反射层、形成于金属反射层上的透明阳极电极、形成于透明阳极电极上有机层、形成于有机层上的半透明电子注入阴极层、形成于半透明电子注入阴极层的缓冲层及形成于缓冲层上的透明电极；制程包括提供基板、于基板形成金属反射层、于金属反射层上形成透明阳极电极、于透明阳极电极上形成有机层、于有机层上形成半透明电子注入阴极层及形成透明电极。当外界光线经过半透明电子注入阴极层时，入射的光一部分经由半透明电子注入阴极层反射而产生第一反射光；至于入射的光的另一部分则会穿半透明电子注入阴极层直到金属反射层才产生反射并形成第二反射光；使用时，藉由调整有机层的厚度及透明阳极电极的厚度，使得由半透明电子注入阴极层反射的第一反射光与由金属反射层反射的第二反射光产生180°的相位差，从而造成破坏性干涉，进而降低外界光的反射，减少外部入射光的干扰，并提升元件的对比；即本专利技术藉由调整有机层与透明阳极电极的厚度，即可达到降低外界入射光线干扰，提升显示器的对比，发光效率佳。不仅结构简单、成本低，而且降低外界光线反射干扰、发光效率佳，从而达到本专利技术的目的。附图说明图1、为习知的底部发光方式发光二极体结构示意图。图2、为习知的底部发光方式发光二极体结构示意图(干涉层结构)。图3、为本专利技术降低外界光线反射的有机发光二极体制程实施例一步骤二示意图。图4、为本专利技术降低外界光线反射的有机发光二极体实施例一结构示意图。图5、为本专利技术降低外界光线反射的有机发光二极体制程实施例二步骤二示意图。图6、为本专利技术降低外界光线反射的有机发光二极体实施例二结构示意图。具体实施例方式实施例一如图4所示，本专利技术降低外界光线反射的有机发光二极体包括基板30、形成于基板30上的金属反射层32、形成于金属反射层32上的透明阳极电极34、形成于透明阳极电极34上的有机层36、形成于有机层36上的半透明注入阴极层38、形成于半透明注入阴极层38上的缓冲层40及形成于缓冲层40上的透明电极42。半透明注入阴极层38的厚度约为0.5～5nm。本专利技术降低外界光线反射的有机发光二极体(OLED)制程包括如下步骤步骤一如图3所示，提供基板30基板30材质可选自透光或不透光的适当材质，以利承载有机发光二极体元件；步骤二如图3所示，形成金属反射层32以蒸镀(Evaporation)或溅镀(Sputtering)成膜的方式将金属材料，如铝、铬形成于基板30上，形成金属反射层32，藉以反射有机发光二极体本身发出的光线；步骤三如图4所示，形成透明阳极电极34选自为铟锡氧化物(Indium Tin Oxide；ITO)、铟锌氧化物(Indium ZincOxide；IZO)等透明导电电极材料，并以溅镀法、电子束蒸法(Electron BeamEvaporat本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种降低外界光线反射的有机发光二极体制程，它包括提供基板；其特征在于它还包括于基板形成金属反射层、于金属反射层上形成透明阳极电极、于透明阳极电极上形成有机层、于有机层上形成半透明电子注入阴极层及形成透明电极。

【技术特征摘要】
1.一种降低外界光线反射的有机发光二极体制程，它包括提供基板；其特征在于它还包括于基板形成金属反射层、于金属反射层上形成透明阳极电极、于透明阳极电极上形成有机层、于有机层上形成半透明电子注入阴极层及形成透明电极。2.根据权利要求1所述的降低外界光线反射的有机发光二极体制程，其特征在于所述的半透明电子注入阴极层上以有机材料形成以便在溅镀透明电极时产生保护效果的缓冲层；透明电极系形成于缓冲层上。3.根据权利要求1所述的降低外界光线反射的有机发光二极体制程，其特征在于所述的半透明电子注入阴极层的厚度约为0.5～5nm。4.一种降低外界光线反射的有机发光二极体制程，它包括提供基板；其特征在于它还包括于基板形成金属阳极电极、于金属阳极电极上形成有机层、于有机层上形成半透明电子注入阴极层及形成透明电极。5.根据权利要求4所述的降低外界光线反射的有机发光二极体制程，其特征在于所述的半透明电子注入阴极层上以有机材料形成以便在溅镀透明电极时产生保护效果的缓冲层；透明电极系形成...

【专利技术属性】
技术研发人员：柯崇文，
申请(专利权)人：友达光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]