【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种具有作为对透光量进行了调整的区域,其目的是通过减少透过该区域的光的透光量而选择性地改变光致抗蚀膜的膜厚的灰色调部的灰色调掩模的灰色调部的缺陷检查(判定)方法和缺陷校正方法等。
技术介绍
近年,在大型LCD用掩模领域中,正尝试使用灰色调掩模来削减掩模片数(非专利文献1)。此处,灰色调掩模,如图5(1)所示,在透明基板上具有遮光部1、透光部2和灰色调部3。灰色调部3例如是形成了在使用灰色调掩模的大型LCD用曝光机的极限分辨率以下的遮光图形3a的区域,且是以减少透过该区域的光的透光量、减少该区域的照射量并选择性改变光致抗蚀膜的膜厚为目的而形成的。3b是灰色调部3的曝光机的极限分辨率以下的细微透光部。遮光部1和遮光图形3a通常全都由采用铬和铬化合物等的相同材料制成的厚度相同的膜形成。透光部2和细微透光部3b全都是在透明基板上未形成遮光膜等的透明基板的部分。使用灰色调掩模的大型LCD用曝光机的极限分辨率,对于步进方式的曝光机为约2.5μm,对于镜面投影方式的曝光机为约3μm。为此,例如,在图3(1)中,把灰色调部3的细微透光部3b的间隔宽度设定为不足2 ...
【技术保护点】
一种灰色调掩模的缺陷检查方法,该灰色调掩模具有:灰色调部,是对透过量进行了调整的区域,其目的是通过减少透过该区域的光的透过量而选择性地改变光致抗蚀膜的膜厚;遮光部;和透光部, 其特征在于,包括: 生成上述灰色调部的图像数据的工序; 根据上述图像数据,实施使得能够识别出灰色调部中的缺陷的图像处理的工序;以及 根据上述图像处理后的数据,进行缺陷检查的工序。
【技术特征摘要】
JP 2003-4-8 103779/20031.一种灰色调掩模的缺陷检查方法,该灰色调掩模具有灰色调部,是对透过量进行了调整的区域,其目的是通过减少透过该区域的光的透过量而选择性地改变光致抗蚀膜的膜厚;遮光部;和透光部,其特征在于,包括生成上述灰色调部的图像数据的工序;根据上述图像数据,实施使得能够识别出灰色调部中的缺陷的图像处理的工序;以及根据上述图像处理后的数据,进行缺陷检查的工序。2.根据权利要求1所述的灰色调掩模的缺陷检查方法,其特征在于,上述图像处理实施工序包括模糊处理。3.根据权利要求1或2所述的灰色调掩模的缺陷检查方法,其特征在于,上述图像处理实施工序包括强调处理。4.根据权利要求1至3中任意一项所述的灰色调掩模的缺陷检查方法,其特征在于,上述灰色调部是形成了在使用灰色调掩模的曝光机的极限分辨率以下的遮光图形的区域。5.根据权利要求1至4中任意一项所述的灰色调掩模的缺陷检查方法,其特征在于,上述缺陷检查是对于上述图像处理后的数据根据预先设定的深浅容许范围(阈值)来进行。6.根据权利要求1至5中任意一项所述的灰色调掩模的缺陷检查方法,其特征在于,上述图像数据是校正后的灰色调部的图像数据。7.根据权利要求6所述的灰色调掩模...
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