本发明专利技术的目的是提供一种基板保持用具、基板处理装置、基板检查装置以及它们的使用方法，能够在维持基板自身具有的平坦度的状态下保持所述基板，可以精密地进行测定、处理、检查等。本发明专利技术是一种将基板稳定地保持在平板面上的基板保持用具，具有：流体层形成单元（１１ｂ、１１ｄ），其形成位于基板（Ｓ）的下面和所述平板面（１１ａ）之间的用于使基板（Ｓ）浮起的流体层；定位单元（１３），其通过所述流体层稳定地保持基板（Ｓ），并且抵接通过所述流体层而浮起的所述基板（Ｓ）的至少下面或侧面，将所述基板定位在所述平板面（１１ａ）上的规定位置。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及将基板稳定地保持在平板面上的基板保持用具、基板处理装置、基板检查装置以及它们的使用方法。
技术介绍
专利文献1 特开平9-61111号公报专利文献2 特开平6-20904号公报例如在半导体制造领域中，一般在将基板保持在基板保持用具上的状态下，对基板进行测定、处理、检查等。并且，在该半导体制造领域中，对例如光掩模、分划板(レチクル)等的基板的表面上形成的图形进行精密地测定、处理、检查等时，要求被所述基板保持用具所保持的基板是平坦而没有弯曲的。但是，在利用支撑基板的边缘部分或侧面部分的方法、或用三点支撑基板的表面、背面的方法实现的以往的基板保持用具中，存在基板因自重等产生弯曲，而难以进行精密测定的问题。因此，以往提出各种可以通过抑制基板的这种弯曲或对弯曲进行校正来尽可能高精度地进行测定等的技术方案(例如，参照专利文献1、2)。在专利文献1所记载的技术方案中，具有用于放置基板的框状XY载物台，对放置在该XY载物台上的基板，利用由光学检测系统构成的检测系统来检测基板表面上形成的图形。在该情况下，由于将基板放置在框状XY载物台上时，基板的中央部分陷入XY载物台的中央部分而形成弯曲状，所以将所述检测系统配置在XY载物台的下方，使分划板的图形面朝向下方，分划板在与放置在曝光装置上的状态相同时，测定分划板的图形坐标，消除弯曲的影响。在专利文献2所记载的技术方案中，为了消除特别是因基板内的温度分布不均造成的基板弯曲对测定结果的影响，对基板的温度进行测定，根据该测定结果和基板的热膨胀系数进行校正，消除因所述温度不均所造成的影响。但是，这些专利文献所记载的技术方案均以基板弯曲为前提条件，所以具有限制测定等的精度提高的问题。因此，为了使基板不弯曲，也考虑了在具有高刚性和高精度的平坦面的平板上放置基板，并且利用真空吸盘等把基板按压在该平板的所述平坦面上进行测定等的方法。但是，根据该方法，由于基板的平坦度与放置基板的所述平板的平坦面的平坦度密切相关，所以在平板弯曲或平板的平坦面有微小弯曲时，这些都反映在基板的平坦度中，具有难以进行精密测定等的问题。另外，在利用真空吸盘将基板吸附在平板上时，如果平板的平坦面和基板之间产生微粒或空气积存，则在该部分，基板上产生弯曲，存在难以进行精密测定等的问题。如果产生这种问题，也产生不能获得测定的再现性的问题。即，放置在平板上的基板由于不是基板自身原来具有的形状而是产生了变形，所以会产生以下问题。例如，对同一基板多次进行基板的平坦度等的形状测定时，由于每次放置在平板上时基板的变形程度不同，所以不能实现测定再现性，并且还导致测定精度降低。另外，象光掩模等那样，在基板上具有图形等时，如果放置在平板上的基板发生变形，则图形尺寸和图形形状也相应地出现变形。结果，降低了图形等的长度测量精度和坐标测定精度。并且，除了上述的基板变形外，基板的检查/测定中的再现性和精度也由于基板的移动而降低。并且，近年来，以液晶玻璃基板和液晶装置制造用的光掩模等的基板为代表，出现基板尺寸大型化(例如，一边大于等于300mm的方形基板)的趋势，相应地因基板自身的自重造成的变形程度(弯曲量等)变大，而且由于基板的表面积变大，致使上述问题更加显著。
技术实现思路
本专利技术就是为了解决上述问题而提出的，其目的是提供一种基板保持用具、基板处理装置、基板检查装置以及它们的使用方法，可以保持基板(特别是大型基板)，使其不会从基板自身原有的形状产生变形(弯曲)、并且在定位状态下不会移动，可提高再现性和精度，能够高精度地进行测定、处理、检查等。为了达到上述目的，本专利技术的基板保持用具将基板稳定地保持在平板面上的规定位置，其结构为，具有流体层形成单元，其形成位于所述基板和所述平板面之间的用于使所述基板从一面侧浮起的流体层；和定位单元，其通过所述流体层稳定地保持所述基板，并且抵接(当接する)通过所述流体层而浮起的所述基板的至少下面或侧面，将所述基板定位在所述平板面上的规定位置。根据该结构，流体层利用相同的力使基板浮起而成为与平板面不接触的状态，所以能够消除因自重造成的基板弯曲。另外，由于具有定位单元，可以限制基板的移动。并且，通过从平板面侧抵接基板，将定位单元定位于通过流体层而浮起的基板上的规定位置，所以能够使定位单元抵接基板而造成的影响为最小。另外，作为形成所述流体层的流体虽然也可以是液体，但通过利用空气或氮气等气体，具有在后面工序不需要清除流体的作业的优点。另外，作为基板例如也可以是光掩模坯料或光掩模或者它们使用的玻璃基板。作为玻璃基板的材料，例如可以列举出合成石英或掺杂氟的石英等。上述的定位单元可以采用如下单元由设在所述平板面上的弹性体和安装在该弹性体上的抵接所述基板的抵接部件构成，通过由所述抵接部件抵接浮起状态的所述基板的下面来限制所述基板的移动。根据该结构，可以始终保持基板和定位单元的抵接状态。即，基板通过流体层而浮起时，相应地通过弹性体的反弹力(弹発力)，抵接部件以抵接基板的状态上升。通过适当调整基板通过流体层而浮起的高度位置和弹性体的反弹力，可以在不对测定等产生影响的最小的范围内，进行基板的定位和固定。作为所述定位单元，也可以采用如下单元由从浮起状态的所述基板的周围方向抵接所述基板侧面的进退移动自如的抵接部件构成，通过使所述抵接部件抵接浮起状态的所述基板周围的多个部位来限制所述基板的移动。根据该结构，可以由定位单元的抵接部件抵接浮起状态的基板侧面来限制基板的移动，进行定位和固定。抵接部件只要以可以限制基板移动的程度来轻轻抵接基板即可，所以能够在实质上消除由定位单元造成的基板的弯曲。另外，抵接部件的进退移动既可以通过电机和致动器等驱动体来进行，也可以通过手动来实现。上述结构的基板保持用具可以应用于所有必须在高精度地维持平坦度的状态下保持基板的装置。例如，可以把上述结构的基板保持用具应用于具有照射单元的基板处理装置，该照射单元向由基板保持用具所定位并保持的所述基板的表面照射电子束或激光束等处理光。作为这种基板处理装置，例如，可以列举出使用被涂覆了例如光致抗蚀剂的光掩模坯料等的基板并向其照射激光束来形成图形的描画装置或曝光装置。在形成图形的工序中，形成的图形的精度大大地依赖于用于形成图形的基板的保持状态。例如，在形成图形的工序中，如果用于形成图形的基板(例如光掩模坯料、半导体基板)发生变形，则形成的图形也按照基板的变形程度而形成。并且，用于形成图形的基板如果在形成图形的工序中发生移动，则形成图形的位置精度降低。特别是在制造光掩模时，使用描画装置或曝光装置形成图形的工序是最重要的工序，可以说光掩模的质量基本上由该工序决定。同样，将光掩模的图形转印在半导体基板上的工序在半导体制造中是非常重要的工序。因此，把可以保持基板并使其不弯曲(不变形)且不移动(定位)的本专利技术的基板保持用具，应用于照射激光束来形成图形的描画装置或曝光装置等特别有效。作为其他的基板处理装置，可以列举出退火处理装置、在半导体基板上进行选择性成膜的CVD处理装置，其中退火处理装置使用激光束，利用注入离子的照射损伤、注入杂质的活性化、以及通过使多晶硅再结晶来制作单结晶硅的SOI(Silicon on Insulator)技术等。另外，上述结构的基板保持用具也可本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种基板保持用具，将基板稳定地保持在平板面上的规定位置，其特征在于，具有：流体层形成单元，其形成位于所述基板的下面和所述平板面之间的用于使所述基板浮起的流体层；定位单元，其通过所述流体层稳定地保持所述基板，并且抵接通过所述流 体层而浮起的所述基板的至少下面或侧面，将所述基板定位在所述平板面上的规定位置。
【技术特征摘要】
JP 2003-5-14 136427/20031.一种基板保持用具，将基板稳定地保持在平板面上的规定位置，其特征在于，具有流体层形成单元，其形成位于所述基板的下面和所述平板面之间的用于使所述基板浮起的流体层；定位单元，其通过所述流体层稳定地保持所述基板，并且抵接通过所述流体层而浮起的所述基板的至少下面或侧面，将所述基板定位在所述平板面上的规定位置。2.权利要求1所述的基板保持用具，其特征在于，使用气体作为形成所述流体层的流体。3.权利要求1或2所述的基板保持用具，其特征在于，所述定位单元由设在所述平板面上的弹性体和安装在该弹性体上的抵接所述基板的抵接部件构成，通过使所述抵接部件抵接浮起状态的所述基板的下面来限制所述基板的移动。4.权利要求1或2所述的基板保持用具，其特征在于，所述定位单元具有从浮起状态的所述基板的周围方向抵接所述基板侧面的进退移动自如的抵接部件，通过使所述抵接部件抵接浮起状态的所述基板周围的多个部位来限制所述基板的移动。5.一种基板处理装置，具有权利要求1所述的基板保持用具，其...
【专利技术属性】
技术研发人员：大田黑竜，
申请(专利权)人：HOYA株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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