本实用新型专利技术涉及硅片刻蚀领域，具体为一种高阻硅片表面刻蚀装置，包括壳体，所述壳体内部底端的前后两端均安装有刻蚀槽，所述壳体内部两端上端的中间位置处安装有固定槽，所述固定槽的内部安装有固定板，所述固定槽的顶端安装有连接轴，所述连接轴的底端穿过固定板并延伸至固定槽的下方，所述壳体一侧的上端安装有驱动电机。该高阻硅片表面刻蚀装置通过螺纹杆转动并将夹持板进行推进，使得夹持板能够推进限位板，通过限位板能够将硅片进行夹持，通过调整夹持板和限位板的位置能够夹持不同大小的硅片，便于装置去处理不同的大小的硅片，增加装置整体使用时的灵活性，便于装置使用时的适用性。适用性。适用性。
【技术实现步骤摘要】
一种高阻硅片表面刻蚀装置
[0001]本技术涉及硅片刻蚀
，具体为一种高阻硅片表面刻蚀装置。
技术介绍
[0002]刻蚀工艺主要是取出硅片下表面及其四个侧面的PN结，从而从而达到上下表面绝缘的目的，同时去除下表面及四个侧面的磷硅玻璃层，目前常用的刻蚀方法时湿法刻蚀，通过化学试剂腐蚀掉硅片下表面及其的PN结和磷硅玻璃层。
[0003]但是传统的刻蚀装置在对硅片进行处理的过程中，无法适应不同大小的硅片，造成使用时灵活性低，无法通过同一组夹持将硅片浸泡在化学试剂中，影响后续刻蚀的质量。
技术实现思路
[0004]针对现有技术的不足，本技术提供了一种高阻硅片表面刻蚀装置，具备夹持不同大小的硅片和过滤杂质等优点，解决了硅片无法完全浸入试剂中和化学试剂容易残留有杂质的问题。
[0005]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种高阻硅片表面刻蚀装置，包括壳体，所述壳体内部底端的前后两端均安装有刻蚀槽，所述壳体内部两端上端的中间位置处安装有固定槽，所述固定槽的内部安装有固定板，所述固定槽的顶端安装有连接轴，所述连接轴的底端穿过固定板并延伸至固定槽的下方，所述壳体一侧的上端安装有驱动电机，所述驱动电机的输出端延伸至壳体的内部并与固定槽相连接，所述固定板一端的两侧均安装有安装板，所述安装板一端的一侧铰接有连接杆，所述连接杆的底端安装有连接块，所述连接块的一侧安装有安装盒，所述安装盒内部的另一端安装有连接板，所述连接板的一端开设有通槽，所述通槽的内部设置有螺纹杆，所述螺纹杆的一端安装有夹持板，所述夹持板的一端安装有限位板，所述壳体一端的下端设置有门体。
[0006]进一步，所述安装盒呈的横截面呈C字形，且安装盒关于刻蚀槽竖直方向的中轴线对称分布。
[0007]进一步，所述刻蚀槽内部的一端均安装有水泵，且水泵的输出端延伸至刻蚀槽的外部并安装有导管，且导管的一侧延伸至壳体的内部并安装有喷头。
[0008]进一步，所述安装盒内部一端的顶端和底端均开设有滑轨，且夹持板的顶端和底端均设置有与滑轨相匹配的滑块，且安装盒和夹持板之间通过滑轨和滑块滑动连接构成滑动结构。
[0009]进一步，所述刻蚀槽内部两侧的下端均安装有限位槽，且限位槽内部的一侧滑动连接有活动块，且活动块之间卡和连接有过滤网，且过滤网设置于限位板的下方。
[0010]进一步，所述活动块的另一侧设置有连接弹簧，且连接弹簧与限位槽之间呈焊接一体化结构。
[0011]进一步，所述过滤网的横截面呈W形，且过滤网关于刻蚀槽竖直方向的中轴线对称分布。
[0012]与现有技术相比，本申请的技术方案具备以下有益效果：
[0013]1、该高阻硅片表面刻蚀装置，通过螺纹杆转动并将夹持板进行推进，使得夹持板能够推进限位板，通过限位板能够将硅片进行夹持，通过调整夹持板和限位板的位置能够夹持不同大小的硅片，便于装置去处理不同的大小的硅片，增加装置整体使用时的灵活性，便于装置使用时的适用性。
[0014]2、该高阻硅片表面刻蚀装置，被溶液去除后的磷硅玻璃层掉落在过滤网的表面，通过过滤网进行过滤，使得喷淋的溶液能够保持洁净，通过快速拆卸过滤网，能够便于对过滤网进行清理，便于溶液反复使用，增加使用的稳定性。
附图说明
[0015]图1为本技术正视剖视结构示意图；
[0016]图2为本技术侧视剖视结构示意图；
[0017]图3为本技术俯视剖视结构示意图；
[0018]图4为本技术正视外观结构示意图；
[0019]图5为本技术图1中A处放大结构示意图。
[0020]图中：1、壳体；2、驱动电机；3、安装板；4、安装盒；5、连接块；6、过滤网；7、夹持板；8、限位板；9、刻蚀槽；10、连接杆；11、连接轴；12、固定板；13、固定槽；14、喷头；15、导管；16、水泵；17、滑块；18、滑轨；19、通槽；20、螺纹杆；21、连接板；22、限位槽；23、门体；24、活动块；25、连接弹簧。
具体实施方式
[0021]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0022]请参阅图1
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5，本实施例中的一种高阻硅片表面刻蚀装置，包括壳体1，壳体1内部底端的前后两端均安装有刻蚀槽9，壳体1内部两端上端的中间位置处安装有固定槽13，固定槽13的内部安装有固定板12，固定槽13的顶端安装有连接轴11，连接轴11的底端穿过固定板12并延伸至固定槽13的下方，壳体1一侧的上端安装有驱动电机2，驱动电机2的输出端延伸至壳体1的内部并与固定槽13相连接，固定板12一端的两侧均安装有安装板3，安装板3一端的一侧铰接有连接杆10，连接杆10的底端安装有连接块5，连接块5的一侧安装有安装盒4，安装盒4内部的另一端安装有连接板21，连接板21的一端开设有通槽19，通槽19的内部设置有螺纹杆20，螺纹杆20的一端安装有夹持板7，夹持板7的一端安装有限位板8，壳体1一端的下端设置有门体23。
[0023]请参阅图1、图2和图4，本实施例中的，安装盒4呈的横截面呈C字形，且安装盒4关于刻蚀槽9竖直方向的中轴线对称分布。
[0024]需要说明的是，通过驱动电机2带动固定槽13和固定板12转动，使得固定板12一端的安装板3能够带动和安装盒4进行位置的改变，使得安装盒4和夹持板7能够浸泡里在不同刻蚀槽9的内部，当需要夹持不同大小的硅片时，通过螺纹杆20转动并将夹持板7进行推进，
使得夹持板7能够推进限位板8，通过限位板8能够将硅片进行夹持，通过限位板8将硅片夹持后再通过连接杆10将硅片浸泡在刻蚀槽9的内部进行刻蚀处理。
[0025]请参阅图1、图2和图4，本实施例中的，刻蚀槽9内部的一端均安装有水泵16，且水泵16的输出端延伸至刻蚀槽9的外部并安装有导管15，且导管15的一侧延伸至壳体1的内部并安装有喷头14。
[0026]需要说明的是，水泵16能够将溶液通过导管15和喷头14将溶液进行喷淋，使得溶液能够均匀喷洒在硅片上，将硅片表面的磷硅玻璃层进行去除，使得硅片刻蚀处理的更加万婵。
[0027]请参阅图1、图2和图4，本实施例中的，安装盒4内部一端的顶端和底端均开设有滑轨18，且夹持板7的顶端和底端均设置有与滑轨18相匹配的滑块17，且安装盒4和夹持板7之间通过滑轨18和滑块17滑动连接构成滑动结构。
[0028]需要说明的是，在夹持板7推进的过程中，通过设置有滑块17和滑轨18能够使得夹持板7滑动的更加顺畅，避免出现卡顿的情况。
[0029]请参阅图1、图2、图3和图5，本实施例中的，刻蚀槽9内部两侧的下端均安装有限位槽22，且限位槽22内部的一侧滑本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种高阻硅片表面刻蚀装置，包括壳体(1)，其特征在于：所述壳体(1)内部底端的前后两端均安装有刻蚀槽(9)，所述壳体(1)内部两端上端的中间位置处安装有固定槽(13)，所述固定槽(13)的内部安装有固定板(12)，所述固定槽(13)的顶端安装有连接轴(11)，所述连接轴(11)的底端穿过固定板(12)并延伸至固定槽(13)的下方，所述壳体(1)一侧的上端安装有驱动电机(2)，所述驱动电机(2)的输出端延伸至壳体(1)的内部并与固定槽(13)相连接，所述固定板(12)一端的两侧均安装有安装板(3)，所述安装板(3)一端的一侧铰接有连接杆(10)，所述连接杆(10)的底端安装有连接块(5)，所述连接块(5)的一侧安装有安装盒(4)，所述安装盒(4)内部的另一端安装有连接板(21)，所述连接板(21)的一端开设有通槽(19)，所述通槽(19)的内部设置有螺纹杆(20)，所述螺纹杆(20)的一端安装有夹持板(7)，所述夹持板(7)的一端安装有限位板(8)，所述壳体(1)一端的下端设置有门体(23)。2.根据权利要求1所述的一种高阻硅片表面刻蚀装置，其特征在于：所述安装盒(4)呈的横截面呈C字形，且安装盒(4)关于刻蚀槽(9)竖直方向的中轴线对称分布。3.根据权利要求1...
【专利技术属性】
技术研发人员：伊观兰，
申请(专利权)人：天津西美半导体材料有限公司，
类型：新型
国别省市：
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