一种防止基板表面存在摩擦灰尘的装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种防止基板表面存在摩擦灰尘的装置，包括：台板，台板上设置有凸起的放置平台，放置平台的顶端面用于放置基板，并且放置平台的顶端面的面积大于基板的面积，台板可沿竖直方向往复移动；支撑块，支撑块设置在台板上并且围绕放置平台分布，支撑块上设置有夹持空间，支撑块的高度低于放置平台的高度；掩膜框架，掩膜框架靠近台板的端面为槽体结构，掩膜框架的槽体的槽底面在台板上的投影覆盖放置平台，掩膜框架的槽体的侧壁固定于夹持空间内。间内。间内。

【技术实现步骤摘要】
一种防止基板表面存在摩擦灰尘的装置


[0001]本专利技术涉及显示
，特别是涉及一种防止基板表面存在摩擦灰尘的装置。

技术介绍

[0002]OLED(Organic Light
‑
Emitting Diode，有机发光二极管)显示面板或者TFT
‑
LCD(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display，薄膜晶体管液晶显示器)显示面板，在制备的过程中均需要采用CVD(Chemical Vapor Deposition，化学气相沉积)工艺在基板上沉积膜层。基板在进行CVD前需要将基板放置在可升降的台板上，基板放置在台板上后，台板上升一段距离直至台板与掩膜框架(shadow frame)接触，台板和掩膜框架配合夹持基板避免台板移动时基板偏位。然后台板与掩膜框架一起移动至进行CVD的工位使得基板进行沉积膜层。
[0003]但现有技术中存在的技术问题为：现有的台板与掩膜框架均采用铝或铝合金材质制备，因此基板在移动至进行CVD的工位的过程中，台板与掩膜框架由于撞击、摩擦等因素会产生摩擦灰尘，因此存在摩擦灰尘落到基板的边缘处的情况，若带有摩擦灰尘的基板进行CVD，则完成沉积膜层的基板上便会产生膜内灰，膜内灰会导致产品出现漏笔，亮点等不良，一旦出现就要报废。

技术实现思路

[0004]针对现有技术中存在的技术问题，本专利技术提供一种防止基板表面存在摩擦灰尘的装置，该装置包括：
[0005]台板，台板上设置有凸起的放置平台，放置平台的顶端面用于放置基板，并且放置平台的顶端面的面积大于基板的面积，台板可沿竖直方向往复移动；
[0006]支撑块，支撑块设置在台板上并且围绕放置平台分布，支撑块上设置有夹持空间，支撑块的高度低于放置平台的高度；
[0007]掩膜框架(shadow frame)，掩膜框架靠近台板的端面为槽体结构，掩膜框架的槽体的槽底面在台板上的投影覆盖放置平台，掩膜框架的槽体的侧壁固定于夹持空间内。
[0008]夹持空间包括：第一侧壁和第二侧壁。
[0009]掩膜框架的槽体的侧壁位于第一侧壁与第二侧壁之间，并且掩膜框架的槽体的侧壁分别和第一侧壁、第二侧壁贴合。
[0010]在本专利技术的一个实施例中，夹持空间为容纳槽，容纳槽的槽底位于支撑块。并且容纳槽沿平行于其最靠近的基板的侧边的方向延伸。
[0011]在本专利技术的一个实施例中，支撑块为一体式结构。
[0012]在本专利技术的一个实施例中，多个支撑块互相独立。
[0013]本专利技术的装置通过将掩膜框架的槽体的侧壁固定于夹持空间内，从而可以增加支撑块对掩膜框架的固定效果，并且防止保护台板与掩膜框架直接接触产生摩擦灰尘。
[0014]支撑块需要起到上述技术效果，则支撑块需要满足：1.制备支撑块的材料需要具
有优异的耐摩擦性能和低的磨损率；2.支撑块的动静摩擦系数比需要尽可能的高；3.支撑块需要有较高的硬度和尽可能的高的刚度。支撑块满足上述要求时，支撑块在与掩膜框架的接触过程中不会出现打滑情况，同时能避免因撞击、摩擦等因素产生摩擦灰尘。
[0015]因此制备支撑块的材料包括以下重量份计的组分：丙烯酸脂20
‑
30份；二硫化钼3
‑
9份；氧化镁0.5
‑
1.3份；氧化硅1
‑
3份；碳酸钙2
‑
7份；氧化锆3
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5份；石墨3
‑
7份；丙烯酸羧乙醇脂5
‑
9份；高岭土1
‑
3份；羟基丁腈橡胶0.3
‑
0.7份。
[0016]相比于现有技术，本专利技术的有益效果为：本专利技术提供的一种防止基板表面存在摩擦灰尘的装置，台板上的放置平台移动进入掩膜框架的槽体的内部，放置平台的外侧壁不与掩膜框架的槽体的内侧壁接触，放置平台移动直至掩膜框架的槽体的槽底面和基板接触，此时基板被夹持于放置平台和掩膜框架的槽体的槽底面之间，同时掩膜框架的槽体的侧壁固定于夹持空间内，掩膜框架和台板上的支撑块接触，因此即使掩膜框架与支撑块在台板移动过程中有轻微的摩擦或撞击也不容易产生灰尘，进而防止产生摩擦灰尘落在基板上。
附图说明
[0017]附图对本专利技术作进一步说明，但附图中的实施例不构成对本专利技术的任何限制。
[0018]图1为本专利技术对比实施例提供的现有的台板的俯视图；
[0019]图2为本专利技术对比实施例提供的现有的台板的正视图；
[0020]图3为本专利技术对比实施例提供的现有的掩膜框架的仰视图；
[0021]图4为本专利技术对比实施例提供的现有的掩膜框架的正视图；
[0022]图5为本专利技术实施例1提供的台板的俯视图；
[0023]图6为本专利技术实施例2提供的台板的俯视图；
[0024]图7为本专利技术实施例2提供的一种防止基板表面存在摩擦灰尘的装置的结构示意图。
[0025]其中，附图标记为：10、台板；20、放置平台；30、支撑块；31、夹持空间；311、第一侧壁；312、第二侧壁；40、掩膜框架；50、槽体。
具体实施方式
[0026]体现本专利技术特征与优点的典型实施例将在以下的说明中详细叙述。应理解的是本专利技术能够在不同的实施例上具有各种的变化，其皆不脱离本专利技术的范围，且其中的说明及附图在本质上是作说明之用，而非用以限制本专利技术。
[0027]在对本专利技术的不同示例性实施方式的下面描述中，参照附图进行，附图形成本专利技术的一部分，并且其中以示例方式显示了可实现本专利技术的多个方面的不同示例性结构，系统和步骤。应理解的是，可以使用部件，结构，示例性装置，系统和步骤的其他特定方案，并且可在不偏离本专利技术范围的情况下进行结构和功能性修改。而且，虽然本说明书中可使用术语“之上”，“之间”，“之内”等来描述本专利技术的不同示例性特征和元件，但是这些术语用于本文中仅出于方便，例如根据附图中的示例的方向。本说明书中的任何内容都不应理解为需要结构的特定三维方向才落入本专利技术的范围内。
[0028]本专利技术中，对于TFT
‑
LCD显示面板，所述基材的材料为玻璃，制备TFT
‑
LCD显示面板
的过程中，在基材的表面通过CVD(chemical vapor deposition，化学气相沉积)工艺形成薄膜沉积层，后续对沉积的薄膜进行图案化的微影制程和蚀刻制程。对于OLED显示面板，基材包括载体和设置于载体上的基层，载板的材料可以是玻璃、不锈钢、或是其它可适用的材料，基层的材料可以是聚酰亚胺，制备OLED显示面板的过程中，在基材的表面通过CVD工艺形成封装层。
[0029]本专利技术中，支撑块可以采用如下步骤进行制备：
[0030]步骤一，将二硫化钼、氧化镁、氧化硅、碳酸钙、氧化锆、石墨、高岭土按照配比混合后，再将其置于温度为500
‑
800℃的环境中进行预处理1...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种防止基板表面存在摩擦灰尘的装置，其特征在于，包括：台板，所述台板上设置有凸起的放置平台，所述放置平台的顶端面用于放置所述基板，并且所述放置平台的顶端面的面积大于所述基板的面积，所述台板可沿竖直方向往复移动；支撑块，所述支撑块设置在所述台板上并且围绕所述放置平台分布，所述支撑块上设置有夹持空间，所述支撑块的高度低于所述放置平台的高度；掩膜框架，所述掩膜框架靠近所述台板的端面为槽体结构，所述掩膜框架的槽体的槽底面在所述台板上的投影覆盖所述放置平台，所述掩膜框架的槽体的侧壁固定于所述夹持空间内。2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述夹持空间包括第一侧壁和第二侧壁，所述掩膜框架的槽体的侧壁位于所述第一侧壁与所述第二侧壁之间，并且所述掩膜框架的槽体的侧壁分别和所述第一侧壁、所述第二侧壁贴合。3.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述夹持空间为容纳槽，所述容纳槽的槽底位于所述支撑块。4.根据权利要求3所述的装置，其特征在于，...

【专利技术属性】
技术研发人员：张正洋，符伟杰，何海山，
申请(专利权)人：信利惠州智能显示有限公司，
类型：发明
国别省市：