天津西美半导体材料有限公司专利技术

天津西美半导体材料有限公司共有27项专利

  • 本技术属于氧化铝抛光液生产技术领域,具体的说是一种氧化铝抛光液生产用高效混合搅拌结构,包括机体,所述机体的底部开设有卡槽,所述机体的内侧壁开设有滑动槽,所述机体的顶部固定连接有搅拌组件,所述搅拌组件包括电机、转轴、转盘、滑动块、转杆、搅...
  • 本技术涉及抛光液生产领域,具体为一种生产抛光液用搅拌反应釜,包括反应釜壳体,所述反应釜壳体的顶部固定连接有进液管,所述反应釜壳体的顶部固定连接有支撑杆,所述支撑杆的一端固定连接有电机,所述电机的输出轴通过联轴器固定连接有转轴,所述转轴的...
  • 本技术属于粘结蜡生产技术领域,具体的说是一种粘结蜡生产用搅拌结构,包括机体,所述机体的顶部固定连接有清理组件,所述清理组件包括电机、转杆、连接杆、刮板、搅拌叶、安装框、电动推杆和清理板,所述电机的输出端通过联轴器固定连接有转杆,所述转杆...
  • 本技术属于氧化铝悬浮液生产技术领域,具体的说是一种氧化铝悬浮液生产用原料研磨机构,包括支撑座和清理组件,所述清理组件包括支撑架、驱动电机、转轴、转盘、安装架、清理刷、研磨块和安装螺丝,所述支撑架的顶部固定连接有驱动电机,所述驱动电机的输...
  • 本实用新型涉及化工领域,具体为一种氧化铝抛光液的配置装置,包括壳体,所述壳体顶端的一侧开设有进料口,所述壳体内部两侧之间的上端安装有研磨槽,所述壳体的顶端安装有第二驱动电机,所述第二驱动电机的输出端穿过壳体延伸至研磨槽内部,所述第二驱动...
  • 本实用新型涉及硅片刻蚀领域,具体为一种高阻硅片表面刻蚀装置,包括壳体,所述壳体内部底端的前后两端均安装有刻蚀槽,所述壳体内部两端上端的中间位置处安装有固定槽,所述固定槽的内部安装有固定板,所述固定槽的顶端安装有连接轴,所述连接轴的底端穿...
  • 本实用新型涉及硅石原料的相关技术领域,且公开了一种硅片生产用硅石原料研磨装置,包括机体、控制台、电动升降套杆和第二旋转螺栓,所述机体表面均设置有通风网,且通风网表面均设置有固定螺栓,所述固定螺栓一侧设置有滑轨,且滑轨内部均设置有滑轮,所...
  • 本实用新型涉及硅片生产相关技术领域,且公开了一种硅片生产用硅石清理机构,包括外壳、岩棉板、进料口、卡槽和固定板,所述外壳的一侧设置有环氧树脂,且环氧树脂的一侧设置有第一魔术贴,所述岩棉板设置在外壳的一侧,且岩棉板的一侧设置有第二魔术贴,...
  • 本实用新型涉及金属抛光液相关技术领域,且公开了一种金属抛光液配比用定量投料装置,包括外壳、密封圈、出料口和驱动电机,所述外壳的下方设置有储物槽,且储物槽的两侧均设置有滑轨,同时滑轨内部均设置有滑轮,所述密封圈设置在外壳内侧,且密封圈的两...
  • 本实用新型涉及悬浮液技术领域,且公开了一种结构稳定的悬浮液储液罐,包括底座,所述底座的顶部固定连接有套筒,所述套筒的内壁活动连接有支撑腿,所述支撑腿的顶部固定连接有储液罐主体,所述底座的顶部活动连接有第二限位块,所述第二限位块的顶部开设...
  • 本实用新型涉及硅片清洗技术领域,且公开了一种硅片用冲洗设备,包括底板,所述底板的顶部固定连接有清洗室,所述清洗室的顶部固定连接有清洗装置本体,所述清洗装置本体的底部固定连接有喷头,所述底板的顶部固定连接有第一支架,所述第一支架的一侧固定...
  • 本实用新型涉及硅片生产技术领域,且公开了一种硅片生产用废砂浆回收装置,包括壳体,所述壳体的顶部活动连接有支架,所述支架的外壁活动连接有第一气压缸,所述第一气压缸的输出端活动连接有第一气压杆,所述支架的外壁活动连接有活动柱,所述支架的外壁...
  • 本实用新型涉及金属抛光液技术领域,且公开了一种金属抛光液定点高压喷射装置,包括工作仓,所述工作仓的外壁固定连接有储液仓,所述储液仓的顶部固定连接有电机箱,所述电机箱的内壁固定连接有定位块,所述定位块的内壁活动连接有伺服电机。该金属抛光液...
  • 本实用新型涉及游星轮加工技术领域,且公开了一种具有固定结构游星轮加工清洗设备,包括清洗设备本体,所述清洗设备本体的底部固定连接有集液箱,所述集液箱的底部固定连接有支杆,所述支杆的外壁活动连接有滑轮,所述清洗设备本体的顶部固定连接有蓄液箱...
  • 本实用新型涉及切割硅片用砂浆制备技术领域,且公开了一种切割硅片用砂浆制备装置,包括搅拌室,所述搅拌室的一端固定连接有固定杆,所述固定杆的一端固定连接有电机,所述电机的输出轴通过联轴器固定连接有第一旋转轴,所述第一旋转轴的外壁固定连接有第...
  • 本实用新型涉及金属抛光液加工技术领域,且公开了一种金属抛光液用配置装置,包括壳体,所述壳体的外壁固定连接有支撑架,所述支撑架的外壁固定连接有支撑柱,所述壳体的顶部固定连接有支架,所述支架的外壁活动连接有电机,所述电机的输出端通过联轴器活...
  • 本实用新型涉及化工技术领域,且公开了一种悬浮液加料反应装置,包括底板,所述底板的顶部固定连接有支杆,所述支杆的顶端固定连接有反应装置本体,所述反应装置本体的顶部固定连接有顶盖,所述顶盖的顶部活动连接有端盖,所述端盖的顶部固定连接有支座,...
  • 本实用新型涉及硅片制备技术领域,且公开了一种硅片制备用载体装置,包括载体箱,所述载体箱的底部固定连接有固定座,所述载体箱的内底壁开设有硅片放置槽,所述载体箱的内壁固定连接有第一防护层,所述载体箱的内底壁固定连接有分隔竖板,所述分隔竖板的...
  • 本实用新型涉及硅片加工清洗技术领域,且公开了一种硅片加工用脱胶花篮,包括清洗盒,所述清洗盒的外壁开设有进水孔,所述清洗盒的内壁固定连接有支撑板,所述支撑板的底部固定连接有限位块,所述限位块的内壁活动连接有收集网,所述支撑板的顶部固定连接...
  • 溶剂型表面改性氧化铝抛光液的制备方法,其特征在于:该制备方法首先对氧化铝颗粒进行粒径分级,再加入分散剂对氧化铝表面进行包覆改性,接着加入有机溶剂和氧化剂搅拌均匀,再经超声振动使其充分分散,后用pH调节剂将抛光液的pH调到2.5-12.5...