一字排列式显影处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种不增加运送线的长度、不产生显影不均匀的一字排列式显影处理装置。对于在表面上形成了曝光过的抗蚀剂膜的基板（Ｗ），在显影液供给部（２）中向表面供给显影液，在运送的同时进行显影反应，然后在显影液回收部（４）中回收显影液，之后在漂洗液供给.回收部（６）中进行清洗和清洗液回收，最后送至干燥部（８）。在这一系列显影处理的过程中，在基板进入下游侧的处理部的情况下，于该处理部之前的待机部、例如该处理部是显影液回收部（４）的情况下，在其之前的待机部（３）中，使滚轮（１０ａ）重复进行正反旋转，基板（Ｗ）往返移动。结果是，在基板（Ｗ）的背面，与滚轮（１０ａ）接触的部分始终移动而不停止在一个部位上，基板的温度分布是均匀的。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种对玻璃基板等基板连续进行显影液的供给、显影液的回收和漂洗等工序的一字排列式显影处理装置及其方法。
技术介绍
在用作液晶基板等的玻璃基板上形成预定图形的抗蚀剂膜时，对在玻璃基板表面上形成的抗蚀剂膜进行预定图形的曝光，通过显影只留下(或除去)预定图形的抗蚀剂膜。在进行上述显影处理时，首先在曝光后的抗蚀剂膜表面上供给施加显影液，在预定时间内进行显影反应，反应结束之后，回收或废弃显影液，然后经漂洗工序后进行干燥。而且，通过滚轮在运送基板的同时进行所述显影工序的一字排列式显影方法是公知的(专利文献1)。此外，还提出在玻璃基板的表面和背面的前后左右隔开间隔来配置喷出调温空气的喷嘴(专利文献2)。专利文献1特开平11-204411号公报段落 专利文献2特开2002-72492号公报段落 ～
技术实现思路
在上述显影处理中，显影液的供给需要的时间、显影反应需要的时间、显影液的回收需要的时间以及漂洗需要的时间彼此不同，因此在采用一字排列式显影处理装置进行显影的情况下，需要将时间最长的工序与其它工序调配。为此，一旦基板在运送线的预定位置停止，则要调整生产节拍时间。基板停止期间滚本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种一字排列式显影处理装置，在该一字排列式显影处理装置中，在由多个滚轮构成的运送线的途中设置将显影液施加于基板表面的显影液供给部，与该显影液供给部相比沿着运送线在下游侧设置次工序处理部，其特征在于，在所述显影液供给部和次工序处理部之间设置待机部，可以正反旋转构成该待机部的滚轮。

【技术特征摘要】
JP 2003-6-26 183014/031.一种一字排列式显影处理装置，在该一字排列式显影处理装置中，在由多个滚轮构成的运送线的途中设置将显影液施加于基板表面的显影液供给部，与该显影液供给部相比沿着运送线在下游测设置次工序处理部，其特征在于，在所述显影液供给部和次工序处理部之间设置待机部，可以正反旋转构成该待机部的滚轮。2.一种一字排列式显影处理装置，在该一字排列式显影处理装置中，在由多个滚轮构成的运送线的途中设置将显影液施加于基板表面的显影液供给...

【专利技术属性】
技术研发人员：岛井太，河田茂，
申请(专利权)人：东京応化工业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]