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本发明提供一种不增加运送线的长度、不产生显影不均匀的一字排列式显影处理装置。对于在表面上形成了曝光过的抗蚀剂膜的基板（Ｗ），在显影液供给部（２）中向表面供给显影液，在运送的同时进行显影反应，然后在显影液回收部（４）中回收显影液，之后在漂洗液...
该专利属于东京応化工业株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京応化工业株式会社授权不得商用。

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