波纹缺陷检查方法及装置、以及光掩模的制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术的课题是能够定性且定量地评价在被检查体的重复图样中产生的波纹缺陷，从而高精度地检测该波纹缺陷。作为解决手段，本发明专利技术的波纹缺陷检查装置（１０）检查在具有多个单位图样规则排列而成的重复图样的光掩模（５０）的所述重复图样中产生的波纹缺陷，其具有：受光器（１３）、解析装置（１４）及评价装置（１５），受光器和解析装置检测在光掩模的重复图样中产生的波纹缺陷；评价装置将受光器和解析装置所检测出的光掩模的波纹缺陷的波纹缺陷检测数据以及与多个伪波纹缺陷分别相关的多个伪波纹缺陷检测数据进行比较，从而评价光掩模的波纹缺陷，其中对于所述的多个伪波纹缺陷，针对预定的重复图样中产生的每一种波纹缺陷，阶段地改变而分配了该波纹缺陷的强度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及波纹(Mura)缺陷检查方法、波纹缺陷检查装置、以及光掩模的制造方法。
技术介绍
以往，作为半导体器件、摄像器件以及显示器件等的制造工艺中的图样(pattern)形成中使用的光掩模，公知的是在玻璃等的透明基板上，在预期的图样中部分地除去铬等的遮光膜而构成的光掩模。该光掩模制造方法是在透明基板上形成遮光膜，在该遮光膜上形成抗蚀膜后，利用电子束或激光在抗蚀膜上进行描画而使预定的图样曝光，然后，选择性地除去描画部和非描画部而形成抗蚀图后，将抗蚀图作为掩模来对遮光膜进行刻蚀，进而形成遮光膜图样，最后除去残存抗蚀剂，从而得到光掩模。通过电子束或激光扫描在抗蚀膜上进行直接描画的描画装置的方式大致有光栅扫描方式和矢量扫描方式。光栅扫描方式是射束(电子束或激光)扫描整个描画区域，如果扫描到图样部分则射束变为ON来进行描画的方式。射束的扫描是以一定的扫描宽度在Y方向上进行扫描，当Y方向的扫描结束时，在X方向上进给射束，通过这样的反复操作来扫描整个描画区域。另一方面，矢量扫描方式是针对多个扫描区域(描画单位)中的每一个区域，射束只扫描该扫描区域内的图样形成部分的方式，如果扫描完一个图样则射束变为OFF，把射束移动到同一扫描区域中的下一个图样上，并再次变为ON来扫描该图样。如果一个扫描区域内的图形已全部扫描完，则通过XY工作台的移动使射束移动到下一个扫描区域。无论在使用上述哪一种扫描方式的情况下，都会存在以下问题在射束的扫描宽度和射束直径上存在描画的交接点，在每个描画单位内周期性地发生由这种交接点处产生的错位误差等的描画不良所引起的误差。特别是，像用于制造固态摄像装置(CCD、CMOS等)的摄像器件、和液晶显示面板等显示器件等的影像器件的光掩模那样，在具有对应于像素图样而规则排列的重复图样的情况下，上述的描画不良而导致的周期性误差，即使各个误差为眼睛看不到那样的大小(例如，数十nm的大小)，也会由于在规则的重复图样上产生周期性的误差，而能看到条状的连续误差。该结果会产生以下问题，即在摄像器件和显示器件上产生灵敏度波纹或显示波纹等的波纹缺陷，使设备的性能变得低下。如上述例子那样，将在规则排列的图样上无意地产生的规则性误差称为“波纹(mura)缺陷”。但是，作为用于保证光掩模品质的检查，以往一般都要进行图样的线宽检查、图样缺陷检查以及异物检查。可是，对于上述的检查，由于检查的是光掩模上的局部缺陷，因而像上述的光掩模的波纹缺陷那样，很难在光掩模的广泛区域中对最初识别的缺陷进行检测。为此，波纹缺陷是通过目视的主观检查来进行的。另一方面，例如在专利文献1中公开了在影像器件基板(例如，液晶TFT基板等)中检查波纹缺陷的装置。该波纹缺陷检查装置将光照射到基板表面，通过观察来自于该表面上形成的图样的边缘部的散射光，来检测波纹缺陷。专利文献1特开平10-300447号公报。可是，在如上所述的通过目视进行的波纹缺陷检查中存在以下的问题，即由于进行检查的检查人员各自零散地生成检查结果，因而不能高精度地检测光掩模的波纹缺陷。结果使设备成品率低下。另外，在使用光掩模制造的设备中，对于设备的波纹缺陷，不但要考虑到光掩模是其形成的主要原因，也要考虑到例如光掩模的交接曝光等的其它原因。在专利文献1中记载的设备的波纹缺陷检查装置的情况下，很难确定所检测出的波纹缺陷的原因。并且，专利文献1中记载的波纹缺陷检查装置是能够检测波纹缺陷的装置，其定性地评价波纹缺陷，例如对有必要检查的波纹缺陷、没有必要检查的波纹缺陷进行识别等，而不是根据其强度来定量地评价波纹缺陷的装置。
技术实现思路
本专利技术就是考虑上述情况而提出的，其目的在于提供一种定性且定量地评价在被检查体的重复图样上产生的波纹缺陷，能够高精度地检测该波纹缺陷的波纹缺陷检查方法。本专利技术的其它目的在于提供一种定性且定量地评价在被检查体的重复图样上产生的波纹缺陷，能够高精度地检测该波纹缺陷的波纹缺陷检查装置。本专利技术的其它目的还在于提供一种定性且定量地评价在光掩模的重复图样上产生的波纹缺陷，能够高精度地检测该波纹缺陷的光掩模制造方法。根据本专利技术第1方面的波纹缺陷检查方法，其检查在具有多个单位图样规则排列而成的重复图样的被检查体的上述重复图样中产生的波纹缺陷，其特征在于，具有检测步骤，检测在上述被检查体的上述重复图样中产生的波纹缺陷；以及，评价步骤，将该检测步骤所检测出的上述被检查体的波纹缺陷的波纹缺陷检测数据以及与多个伪波纹缺陷分别具有相关关系的多个伪波纹缺陷检测数据进行比较，从而评价上述被检查体的波纹缺陷，其中对于上述的多个伪波纹缺陷，针对预定的重复图样中产生的每一种波纹缺陷，阶段地改变而分配了该波纹缺陷的强度。根据本专利技术第2方面的波纹缺陷检查方法，其特征在于，在本专利技术的第1方面中，在上述评价步骤中，使用在基板上形成有分别具有多个伪波纹缺陷的多个重复图样的波纹缺陷检查掩模，将检测出该波纹缺陷检查掩模的各伪波纹缺陷时的、与该伪波纹缺陷相关的伪波纹缺陷检测数据，和在检测步骤中所检测出的被检查体的波纹缺陷的波纹缺陷检测数据进行比较，其中，对于上述多个伪波纹缺陷，针对预定的重复图样中产生的每一种波纹缺陷，阶段地改变而分配了相关波纹缺陷的强度。根据本专利技术第3方面的波纹缺陷检查方法，其特征在于，在本专利技术的第1或第2方面中，在上述评价步骤中，在器件上形成转印了具有伪波纹缺陷的重复图样的被转印图样时，将针对该器件确定的波纹缺陷的分级强度作为基准而设定的检测水准作为指标，来评价被检查体的波纹缺陷的强度。根据本专利技术第4方面的波纹缺陷检查方法，其特征在于，在本专利技术的第1或第2方面中，在上述评价步骤中，在器件上形成转印了具有伪波纹缺陷的重复图样的被转印图样时，将针对该器件确定的波纹缺陷的容许强度作为基准而设定的检测阈值作为指标，来评价被检查体的波纹缺陷的强度。根据本专利技术第5方面的波纹缺陷检查方法，其特征在于，在本专利技术的第1至第3方面的任意一项中，上述波纹缺陷的类型是以下波纹缺陷中的至少一种基于重复图样中的单位图样的线宽异常的CD(criticaldimension)波纹缺陷；基于重复图样中的单位图样的间隔异常的间隔波纹缺陷；基于重复图样中的单位图样的位置偏移的错位波纹缺陷；基于重复图样中的单位图样的形状缺陷的变形波纹缺陷。根据本专利技术第6方面的波纹缺陷检查方法，其特征在于，在本专利技术第1至第5方面的任意一项中，上述被检查体是影像器件或用于制造该影像器件的光掩模。根据本专利技术第7方面的波纹缺陷检查装置，其检查在具有多个单位图样规则排列而成的重复图样的被检查体的上述重复图样中产生的波纹缺陷，其特征在于，具有检测单元，其检测在上述被检查体的上述重复图样中产生的波纹缺陷；以及，评价单元，其将该检测单元所检测出的上述被检查体的波纹缺陷的波纹缺陷检测数据、以及与多个伪波纹缺陷分别具有相关关系的多个伪波纹缺陷检测数据进行比较，从而评价上述被检查体的波纹缺陷，其中，对于上述的多个伪波纹缺陷，针对预定的重复图样中产生的每一种波纹缺陷，阶段地改变而分配了相关波纹缺陷的强度。根据本专利技术第8方面的波纹缺陷检查装置，其特征在于，在本专利技术的第7方面中，在上述评价单元中，使用在基板上形成有分别具有多个伪波纹缺陷的多个重复图样的波纹缺陷检查掩模，对检测本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种检查在被检查体上的重复图样中产生的波纹缺陷的方法，所述重复图样具有规则排列的多个单位图样，该方法包括以下步骤：检测在所述被检查体的所述重复图样中产生的波纹缺陷；以及，将该检测步骤中检测出的波纹缺陷检测数据与多个伪波纹缺陷检测数据进行比较，从而评价所述被检查体的波纹缺陷，其中，所述伪波纹缺陷检测数据分别与多个伪波纹缺陷相关，对于所述多个伪波纹缺陷，针对每一种波纹缺陷，阶段地改变而分配了预定的重复图样中产生的波纹缺陷的强度。

【技术特征摘要】
JP 2004-5-28 2004-1597921.一种检查在被检查体上的重复图样中产生的波纹缺陷的方法，所述重复图样具有规则排列的多个单位图样，该方法包括以下步骤检测在所述被检查体的所述重复图样中产生的波纹缺陷；以及，将该检测步骤中检测出的波纹缺陷检测数据与多个伪波纹缺陷检测数据进行比较，从而评价所述被检查体的波纹缺陷，其中，所述伪波纹缺陷检测数据分别与多个伪波纹缺陷相关，对于所述多个伪波纹缺陷，针对每一种波纹缺陷，阶段地改变而分配了预定的重复图样中产生的波纹缺陷的强度。2.根据权利要求1所述的波纹缺陷检查方法，其中，通过检测波纹缺陷检查掩模上形成的多个伪波纹缺陷而获得所述伪波纹缺陷检测数据，所述波纹缺陷检测掩模具有由基板上的不透明膜形成的预定的重复图样，并且具有所述的针对每一种波纹缺陷、阶段地改变而分配了预定的重复图样中产生的波纹缺陷的强度的多个伪波纹缺陷。3.根据权利要求1所述的波纹缺陷检查方法，其中，在所述评价步骤中使用一个指标作为检测水准而评价所述被检查体的波纹缺陷的强度，并且所述检测水准是根据波纹缺陷的分级强度来设定的，所述分级强度是针对在器件上转印具有伪波纹缺陷的重复图样而形成的器件上的波纹缺陷而设定的。4.根据权利要求1所述的波纹缺陷检查方法，其中，在所述评价步骤中使用一个指标作为检测阈值而评价所述被检查体的波纹缺陷的强度，并且所述检测阈值是根据波纹缺陷的容许强度而设定的，所述容许强度是针对在器件上转印具有伪波纹缺陷的重复图样而形成的器件上的波纹缺陷而设定的。5.根据权利要求1所述的波纹缺陷检查方法，其中，所述波纹缺陷的类型是以下的至少一种CD波纹；基于重复图样中的单位图样的线宽异常的波纹缺陷；间隔波纹；基于重复图样中的单位图样的间隔异常的波纹缺陷；错位波纹；基于重复图样中的单位图样的位置偏移的波纹缺陷；以及变形波纹；基于重复图样中的单位图样的图样缺陷的波纹缺陷。6.根据权利要求1所述的波纹缺陷检查方法，其中，所述被检查体是影像器件或用于制造该影像器件的光掩模。7.一种检查在被检查体上的重复图样中产生的波纹缺陷的装置，所述重复图样具有规则排列的多个单位图样，该装置包括检测...

【专利技术属性】
技术研发人员：吉田辉昭，
申请(专利权)人：HOYA株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]