基板处理装置以及基板处理方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种对基板进行处理的基板处理装置以及基板处理方法。在将由曝光装置进行曝光处理前的基板从基板载置部向曝光装置搬送时，使用接口用搬送机构上侧的手部。另外，在将由曝光装置进行曝光处理后的基板从曝光装置向基板载置部搬送时，使用接口用搬送机构下侧的手部。即，在附着了曝光处理后的液体的基板的搬送中，使用下侧的手部；在曝光处理前的没有附着液体的基板的搬送中，使用上侧的手部。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种对基板进行处理的。
技术介绍
为了对半导体基板、液晶显示装置用基板、等离子显示器用基板、光盘用基板、磁盘用基板、光磁盘用基板、光掩膜用基板等的各种基板进行各种处理，使用基板处理装置。在这样的基板处理装置中，一般连续的对一张基板进行多个不同的处理(例如参照JP特开2003-324139号公报)。JP特开2003-324139号公报所记载的基板处理装置由分度器模块、反射防止膜用处理模块、抗蚀膜用处理模块、显影处理模块以及接口模块构成。以相邻于接口模块的方式配置有与基板处理装置另设的作为外部装置的曝光装置。在上述基板处理装置中，从分度器模块搬入的基板通过反射防止膜用处理模块以及抗蚀膜用处理模块进行反射防止膜的形成以及抗蚀膜的涂布处理后，经由接口模块搬送到曝光装置中。在曝光装置中，对基板上的抗蚀膜进行曝光处理后，基板经由接口模块被搬送到显影处理模块中。通过在显影处理模块中对基板上的抗蚀膜进行显影处理来形成抗蚀图案后，基板被搬送到分度器模块。这里，从接口模块向曝光装置搬送基板以及从曝光装置向接口模块搬送基板是由设在接口模块上的接口用搬送机构的一个保持臂来进行的。近年来，伴本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板处理装置，以相邻于曝光装置的方式配置，其特征在于，具有：处理部：用于对基板进行处理；交接部：用于在上述处理部和上述曝光装置之间进行基板的交接；上述交接部具有在上述处理部和上述曝光装置之间搬送基板的搬送装置；　 　上述搬送装置具有第一保持部和第二保持部，上述第一保持部保持由上述曝光装置进行曝光处理前的基板；上述第二保持部保持由上述曝光装置进行曝光处理后的基板。

【技术特征摘要】
JP 2004-11-10 2004-3263101.一种基板处理装置，以相邻于曝光装置的方式配置，其特征在于，具有处理部用于对基板进行处理；交接部用于在上述处理部和上述曝光装置之间进行基板的交接；上述交接部具有在上述处理部和上述曝光装置之间搬送基板的搬送装置；上述搬送装置具有第一保持部和第二保持部，上述第一保持部保持由上述曝光装置进行曝光处理前的基板；上述第二保持部保持由上述曝光装置进行曝光处理后的基板。2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，上述交接部还包含处理单元和载置部，上述处理单元对基板进行规定的处理；上述载置部暂时载置基板，上述搬送装置包含第一搬送单元和第二搬送单元，上述第一搬送单元在上述处理部、上述处理单元以及上述载置部之间搬送基板；上述第二搬送单元在上述曝光装置和上述载置部之间搬送基板，上述第二搬送单元具有上述第一保持部及第二保持部。3.如权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，上述第一搬送单元具有第三保持部和第四保持部，上述第三保持部保持由上述曝光装置进行曝光处理前的基板；上述第四保持部保持由上述曝光装置进行曝光处理后的基板。4.如权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，上述载置部包含第一载置单元和第二载置单元，上述第一载置单元载置由上述曝光装置进行曝光处理前的基板；上述第二载置单元载置由上述曝...

【专利技术属性】
技术研发人员：金山幸司，
申请(专利权)人：大日本网目版制造株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]