基板处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种在将含有冰的微粒的处理液向基板的表面供给而进行基板的处理时、能够以不会产生处理不均匀的方式进行均匀处理、也不会损伤形成在基板上的膜层的装置。该装置具有：进行基板处理的基板处理部（１０）；使纯水中含有冰的微粒的冰浆制造装置（１２）；使气体溶解于冰浆中的装置；对冰浆进行加压的加压泵（５２）以及加压槽（１４）；将溶解气体且被加压的冰浆向基板处理部（１０）供给的冰浆供给配管（５６）。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种向半导体晶片、液晶显示装置(LCD)用玻璃基板、等离子显示器(PDP)用玻璃基板、印刷基板、陶瓷基板、电子器件基板等基板的主面供给含有冰的微粒的处理液来进行基板的清洗等处理的基板处理装置。
技术介绍
例如，LCD、PDP等平板显示器(FPD)的制造装置中的基板的清洗通过如下这样一系列的工序来进行通过由准分子激光器的UV照射来进行的有机物污染的除去→通过使用了辊式刷的擦洗清洗来进行的1μm以上污染物质的除去→通过置换清洗来进行的药液清洗后的药液的除去→通过2流体清洗来进行的精密清洗→通过最终水洗来进行的最终清洗。另外，近年来，取代辊式刷清洗，也提出了这样一种清洗方法而被实施，即，调制成冰的微粒分散在液体中而变为水果冰沙状的悬浊液状态的冰浆，并从喷嘴将冰浆喷射到基板的表面，从而使冰的微粒撞击到基板上而清洗基板(例如，参照日本特许第3380021号公报)。使用了冰浆的清洗方法是从喷嘴将冰浆喷射到基板的表面，而使冰的微粒撞击到基板上，从而用冰的微粒擦洗基板的表面的方法，为了提高清洗效果，需要对冰浆进行加压并从喷嘴以一定压力将冰浆喷出。但是，使含有虽说是微小的冰粒但也是固本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板处理装置，向基板的主面供给处理液而处理基板，其特征在于，具有：使处理液中含有冰的微粒的冰浆调制装置；使气体溶解于处理液中的气体溶解装置；对处理液进行加压的处理液加压装置；将溶解了气体且含有冰的微粒的被 加压了的处理液向基板的主面供给的冰浆供给装置。

【技术特征摘要】
JP 2005-3-24 2005-0853511.一种基板处理装置，向基板的主面供给处理液而处理基板，其特征在于，具有使处理液中含有冰的微粒的冰浆调制装置；使气体溶解于处理液中的气体溶解装置；对处理液进行加压的处理液加压装置；将溶解了气体且含有冰的微粒的被加压了的处理液向基板的主面供给的冰浆供给装置。2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，上述冰浆调制装置是向过冷却状态的处理液中喷出过冷却解除用气体而解除处理液的过冷却状态的装置；上述气体溶解装置是向过冷却状态的处理液中喷出过冷却解除用气体而使其溶解的装置；上述处理液加压装置是对溶解了过冷却解除用气体且含有冰的微粒的处理液进行加压的装置。3.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，上述冰浆调制装置是将处理液冷却到其凝固点以下的温度而使处理液的一部分结冰的装置；上述处理液加压装置是对含有冰的微粒的处理液进行加压的装置；上述气体溶解装置是将气体加压并输送到含有冰的微粒且被加压了的处理液中而使其溶解的装置。4.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，上述气体溶解装置是将气体加压并输送到通过上述加压装置而被加压了的处理液中来使其溶解的装置；上述...

【专利技术属性】
技术研发人员：山本悟史，
申请(专利权)人：大日本网目版制造株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]