基板处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种在将含有冰的微粒的处理液向基板的表面供给而进行基板的处理时、能够以不会产生处理不均匀的方式进行均匀处理、也不会损伤形成在基板上的膜层的装置。该装置具有：进行基板处理的基板处理部（１０）；使纯水中含有冰的微粒的冰浆制造装置（１２）；使气体溶解于冰浆中的装置；对冰浆进行加压的加压泵（５２）以及加压槽（１４）；将溶解气体且被加压的冰浆向基板处理部（１０）供给的冰浆供给配管（５６）。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种向半导体晶片、液晶显示装置(LCD)用玻璃基板、等离子显示器(PDP)用玻璃基板、印刷基板、陶瓷基板、电子器件基板等基板的主面供给含有冰的微粒的处理液来进行基板的清洗等处理的基板处理装置。
技术介绍
例如，LCD、PDP等平板显示器(FPD)的制造装置中的基板的清洗通过如下这样一系列的工序来进行通过由准分子激光器的UV照射来进行的有机物污染的除去→通过使用了辊式刷的擦洗清洗来进行的1μm以上污染物质的除去→通过置换清洗来进行的药液清洗后的药液的除去→通过2流体清洗来进行的精密清洗→通过最终水洗来进行的最终清洗。另外，近年来，取代辊式刷清洗，也提出了这样一种清洗方法而被实施，即，调制成冰的微粒分散在液体中而变为水果冰沙状的悬浊液状态的冰浆，并从喷嘴将冰浆喷射到基板的表面，从而使冰的微粒撞击到基板上而清洗基板(例如，参照日本特许第3380021号公报)。使用了冰浆的清洗方法是从喷嘴将冰浆喷射到基板的表面，而使冰的微粒撞击到基板上，从而用冰的微粒擦洗基板的表面的方法，为了提高清洗效果，需要对冰浆进行加压并从喷嘴以一定压力将冰浆喷出。但是，使含有虽说是微小的冰粒但也是固体的冰粒的液体，均匀分散到基板表面的广泛范围是极其困难的，因此，对冰浆进行加压并从喷嘴喷出时，根据基板表面上的位置，冰浆撞击到基板的表面时的能量产生不均匀。特别是近年来基板实现了大型化，因此为了使冰浆扩散到基板表面更宽的范围，而需要提高冰浆从喷嘴喷出的压力，所以，从喷嘴喷出冰浆并向基板表面均匀地分散的操作变得更加困难，从而冰浆撞击到基板表面时的能量不均匀程度变大。其结果，存在发生清洗不均匀等的处理不均匀的问题。另外，在例如LCD的制造过程中，液晶图案用的金属膜采用像铝(Al)+钼(Mo)等那样物理性能上柔软的金属材料而形成，另一方面，冰浆中所含有的冰粒具有一定程度的硬度。因此，存在这样的问题，即，由于冰的微粒和基板表面的撞击能量的不均匀，金属膜局部地受到损伤。
技术实现思路
本专利技术是鉴于上述问题而提出的，其目的在于提供一种基板处理装置，在将含有冰的微粒的处理液向基板的表面供给来进行基板的清洗等的处理时，能够以不产生处理不匀的方式而进行均匀的基板处理，也不会损伤形成在基板上的金属膜等的膜层。(1).本专利技术是一种基板处理装置，向基板的主面供给处理液而处理基板，其特征在于，具有使处理液中含有冰的微粒的冰浆调制装置；使气体溶解于处理液中的气体溶解装置；对处理液进行加压的处理液加压装置；将溶解了气体且含有冰的微粒的被加压了的处理液向基板的主面供给的冰浆供给装置。(2).如上述(1)所述的基板处理装置，其特征在于，上述冰浆调制装置是向过冷却状态的处理液中喷出过冷却解除用气体而解除处理液的过冷却状态的装置；上述气体溶解装置是向过冷却状态的处理液中喷出过冷却解除用气体而使其溶解的装置；上述处理液加压装置是对溶解了过冷却解除用气体且含有冰的微粒的处理液进行加压的装置。(3).如上述(1)所述的基板处理装置，其特征在于，上述冰浆调制装置是将处理液冷却到其凝固点以下的温度而使处理液的一部分结冰的装置；上述处理液加压装置是对含有冰的微粒的处理液进行加压的装置；上述气体溶解装置是将气体加压并输送到含有冰的微粒且被加压了的处理液中而使其溶解的装置。(4).如上述(1)所述的基板处理装置，其特征在于，上述气体溶解装置是将气体加压并输送到通过上述加压装置而被加压了的处理液中来使其溶解的装置；上述冰浆调制装置是将冰的微粒或含有冰的微粒的处理液加压并输送到通过上述加压装置而被加压了的处理液中来使其混合的装置。(5).如上述(1)所述的基板处理装置，其特征在于，上述气体溶解装置是将气体加压并输送到通过上述加压装置而被加压了的处理液中来使其溶解的装置；上述冰浆调制装置是将冰的微粒或含有冰的微粒的处理液加压并输送到溶解了气体且被加压了的处理液中来使其混合的装置。(6).如上述(1)所述的基板处理装置，其特征在于，上述气体溶解装置是将气体加压并输送到通过上述加压装置而被加压了的处理液中来使其溶解的装置；上述冰浆调制装置是将溶解了气体且被加压了的处理液冷却到其凝固点以下的温度而使处理液的一部分结冰的装置。(7).如上述(1)所述的基板处理装置，其特征在于，上述气体溶解装置是将气体加压并输送到通过上述加压装置而被加压了的处理液中而使其溶解的装置；上述冰浆调制装置是对溶解了气体且被加压了的处理液进行冷却而使其处于过冷却状态，并通过向该过冷却状态的处理液中喷出过冷却解除用气体而解除处理液的过冷却状态的装置。(8).如上述(1)、(3)～(7)中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，上述气体是二氧化碳。(9).如上述(2)或(7)所述的基板处理装置，其特征在于，上述过冷却解除用气体是二氧化碳。在上述(1)所述的本专利技术的基板处理装置中，由冰浆供给装置将含有冰的微粒的处理液向基板的主面进行供给，从而，例如在清洗处理中，存在于基板表面的凹部等中的异物微粒等的污染物质被冰的微粒清除，而污染物质和处理液一起从基板的主面上流出而被除去。此时，由于向基板主面供给的含有冰的微粒的处理液中溶解有气体，所以与只冷却纯水来制造的冰的微粒相比更加柔软。因此，含有冰的微粒的处理液以被加压的状态向基板喷出时，即使根据基板的表面上的位置，冰的微粒撞击到基板的表面时的能量有一些不均匀，也可防止例如液晶图案用的金属膜受到局部损伤这样的情况。另外，由于向基板的主面供给的处理液是被加压的，所以溶解了气体的处理液向基板以高压喷出，从而因气穴现象而在处理液中大量产生微小的气泡。从而利用在处理液中产生的大量的微小气泡在基板的表面破裂时产生的冲击力，可更高效地除去附着在基板表面的微粒等的异物。因此，使用上述(1)所述的本专利技术的基板处理装置，则能够以不产生处理不均匀的方式均匀且高效地进行基板的清洗等处理，并且也不会损伤形成在基板上的金属膜等的膜层。在上述(2)至上述(7)所述的各个本专利技术的基板处理装置中，分别制造溶解了气体且含有冰的微粒且被加压了的处理液，通过冰浆供给装置供给到基板的主面上。在上述(8)所述的本专利技术的基板处理装置中，由于含有冰的微粒的处理液中溶解有二氧化碳，所以与纯水相比处理液的电阻率值比较小。因此，向基板的主面供给的含有冰的微粒的处理液，流过配管内部而被输送到喷嘴时不易产生静电，从而不必担心向基板主面供给时基板上的微细的图案或器件因静电而被破坏。在上述(9)所述的本专利技术的基板处理装置中，由于含有冰的微粒的处理液中溶解有二氧化碳，所以与纯水相比处理液的电阻率值比较小。因此，向基板的主面供给的含有冰的微粒的处理液，流过配管内部而被输送到喷嘴时不易产生静电，从而不必担心向基板主面供给时基板上的微细的图案或器件因静电而被破坏。附图说明图1是表示本专利技术实施方式的一例的基板清洗装置的整体结构的概略图。图2是作为图1所示的基板清洗装置的结构要素之一的冰浆制造装置的主体部的外观立体图。图3是对沿纵向切断图2所示的冰浆制造装置的主体部的状态的一部分进行放大的立体图。图4是图2所示的冰浆制造装置的方框结构图。图5是表示图1所示的基板清洗装置的基板处理部的结构的一例的概略主视图。图6是表示本专利技术另一个实施方式的基板清洗装本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板处理装置，向基板的主面供给处理液而处理基板，其特征在于，具有：使处理液中含有冰的微粒的冰浆调制装置；使气体溶解于处理液中的气体溶解装置；对处理液进行加压的处理液加压装置；将溶解了气体且含有冰的微粒的被 加压了的处理液向基板的主面供给的冰浆供给装置。

【技术特征摘要】
JP 2005-3-24 2005-0853511.一种基板处理装置，向基板的主面供给处理液而处理基板，其特征在于，具有使处理液中含有冰的微粒的冰浆调制装置；使气体溶解于处理液中的气体溶解装置；对处理液进行加压的处理液加压装置；将溶解了气体且含有冰的微粒的被加压了的处理液向基板的主面供给的冰浆供给装置。2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，上述冰浆调制装置是向过冷却状态的处理液中喷出过冷却解除用气体而解除处理液的过冷却状态的装置；上述气体溶解装置是向过冷却状态的处理液中喷出过冷却解除用气体而使其溶解的装置；上述处理液加压装置是对溶解了过冷却解除用气体且含有冰的微粒的处理液进行加压的装置。3.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，上述冰浆调制装置是将处理液冷却到其凝固点以下的温度而使处理液的一部分结冰的装置；上述处理液加压装置是对含有冰的微粒的处理液进行加压的装置；上述气体溶解装置是将气体加压并输送到含有冰的微粒且被加压了的处理液中而使其溶解的装置。4.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，上述气体溶解装置是将气体加压并输送到通过上述加压装置而被加压了的处理液中来使其溶解的装置；上述...

【专利技术属性】
技术研发人员：山本悟史，
申请(专利权)人：大日本网目版制造株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]