一种具有双面压印功能的纳米压印设备制造技术

本发明专利技术公开了一种具有双面压印功能的纳米压印设备，包括：压印板、对位单元和曝光单元，所述压印板包括第一压印板，第二压印板和第三压印板，所述对位单元位于所述设备腔体内部，并固定在设备上方；所述第一压印板位于所述设备腔体内部上方、对位单元下方；所述第三压印板位于设备腔体内下方、对位单元下方；所述第二压印板位于设备腔体内下方、所述第三压印板的一侧，所述曝光单元位于所述第三压印板的下方；还包括基片、工作模具。本发明专利技术的有益效果是：第一压印板，第二压印板和第三压印板，结合对位单元，实现基片自动动对位和旋转，既可以完成单面压印动作，也可完成双面压印动作；曝光单元发出紫外光将纳米压印胶固化。曝光单元发出紫外光将纳米压印胶固化。曝光单元发出紫外光将纳米压印胶固化。

【技术实现步骤摘要】
一种具有双面压印功能的纳米压印设备


[0001]本专利技术涉及纳米压印
，特别涉及一种具有双面压印功能的纳米压印设备。

技术介绍

[0002]纳米压印技术是通过光刻胶辅助，将模板上的微纳结构转移到待加工材料上的技术，纳米压印根据固化方式、压印面积、模板等，可分成热压印、紫外压印、微接触压印、步进压印等。为降低生产成本，提升压印准确性，需要基板尽可能多的压印微纳结构，且不出现结构缺失现象。因此，需要改进压印设备，以实现基片双面压印。

技术实现思路

[0003]本专利技术的目的在于克服以上技术缺陷，提出一种具有双面压印功能的纳米压印设备。
[0004]本专利技术为实现其技术目的所采取的技术方案是：一种具有双面压印功能的纳米压印设备，包括：压印板、对位单元和曝光单元，所述压印板包括第一压印板，第二压印板和第三压印板，
[0005]所述对位单元位于所述设备腔体内部，并固定在设备上方；所述第一压印板位于所述设备腔体内部上方、所述对位单元下方；所述第三压印板位于设备腔体内下方、所述对位单元下方；所述第二压印板位于设备腔体内下方、所述所述第三压印板的一侧，所述曝光单元位于所述第三压印板的下方；
[0006]还包括基片、工作模具，所述基片固定在第一压印板的下表面，基片上设有对位标记；所述工作模具包括第一工作模具和第二工作模具，所述工作模具上设有与对位标记相对应的对位标记。
[0007]优选的，所述第一压印板包括移动块，限位块和导轨，带动吸附固定板左右移动；
[0008]所述第一压印板还包括电机，伸缩杆，连接块，固定块，带动吸附固定板上下移动完成第一次压印动作；
[0009]所述吸附固定板的中间区域设有透明区，所述吸附固定版的下表面设有真空槽，所述真空槽内设有与真空泵连接的真空孔；
[0010]所述第一压印板用于固定基片，并带动基片上下移动，完成压印动作。
[0011]优选的，所述第二压印板包括用于吸附固定第二工作模具的翻转固定板，所述翻转固定板的上表面设有真空槽，所述真空槽槽内设有真空孔，所述真空槽外侧设有工作模具定位槽，在所述工作模具定位槽外侧，远离旋转轴一侧设有缓冲固定块，所述翻转固定板中心区域设有透明区；
[0012]所述第二压印板还包括旋转轴、支撑柱、旋转轴支撑柱、支撑柱、支撑柱升降电机，所述第二压印板卡接在旋转轴上，能够绕旋转轴旋转，所述第二压印板用于吸附固定第二工作模具。
[0013]优选的，所述第三压印板包括上表面设置的真空槽，所述真空槽槽内设有真空孔，所述真空槽外侧设有工作模具定位槽；
[0014]所述第三压印板还包括用于移动第一工作模具的前后移动块、左右移动块、升降杆、电机、旋转块、旋转电机，所述前后移动块用于带动第一工作模具前后移动，所述左右移动块用于带动第一工作模具左右移动，所述升降杆和电机用于带动第一工作模具上下移动，所述旋转块，旋转电机用于带动第一工作模具旋转。
[0015]优选的，对位单元位于两个导轨之间，对位单元包括电机、伸缩杆、固定块、对位组件，电机带动伸缩杆伸长或缩短，从而带动对位组件上下移动，所述固定块连接伸缩杆和对位组件。
[0016]优选的，所述曝光单元包括紫外灯、固定块、升降杆、电机，所述紫外灯位于第三压印板的透明区正下方，所述紫外灯发出的紫外光能够透过所述第三压印板中间的透明区域，以及基片和工作模具；所述固定块连接紫外灯和升降杆，所述电机推动升降杆伸缩从而带动所述紫外灯上下移动。
[0017]本专利技术的有益效果是：所述压印板包括第一压印板，第二压印板和第三压印板，结合对位单元，实现基片自动动对位和旋转，既可以完成单面压印动作，也可完成双面压印动作；曝光单元发出紫外光将纳米压印胶固化。
附图说明
[0018]图1本专利技术设备的结构示意图；
[0019]图2本专利技术设备的俯视图；
[0020]图3本专利技术设备第一压印板1的下表面的结构示意图；
[0021]图4本专利技术设备第一压印板1的正视图；
[0022]图5本专利技术设备第二压印板2的上表面的结构示意图；
[0023]图6本专利技术设备第二压印板2的正视图；
[0024]图7本专利技术设备第三压印板3的上表面的结构示意图；
[0025]图8本专利技术设备第三压印板3的正视图；
[0026]图9本专利技术设备压印过程示意图；
[0027]图10
‑
图16双面压印过程中本专利技术设备工位示意图。
[0028]图中标记为：1、第一压印板；11、移动块；111、限位块；112、导轨；12、电机；13、伸缩杆；14、连接块；15、固定块；16、吸附固定板；17、透明区；171、真空孔；172、真空槽；
[0029]2、第二压印板；21、翻转固定板；211、真空槽；212、真空孔；
[0030]22、缓冲固定块；23、旋转轴；24、工作模具定位槽；25、透明区；
[0031]26、支撑柱；27、旋转轴支撑柱；28、支撑柱；29、支撑柱升降电机；
[0032]3、第三压印板；31、真空槽；32、真空孔；33、工作模具定位槽；34、前后移动块；35、左右移动块；36、升降杆；37、电机；38、旋转块；39、旋转电机；
[0033]4、对位单元；41、电机；42、伸缩杆；43、固定块；44、对位组件；
[0034]5、曝光单元；51、紫外灯；52、固定块；53、升降杆；54、电机；
[0035]6、基片；61、对位标记；
[0036]7、工作模具；71、第一工作模具；72、第二工作模具；73、对位标记；
具体实施方式
[0037]下面结合附图实施例对本专利技术做进一步说明：
[0038]实施例一
[0039]如图1
‑
16所示：
[0040]一种具有双面压印功能的纳米压印设备，包括：压印板，对位单元4，曝光单元5。压印板包括第一压印板1，第二压印板2，第三压印板3。
[0041]第一压印板1位于所述设备腔体内部上方，对位单元4下方。第一压印板1用于固定基片6，并带动基片6上下移动，完成压印动作。
[0042]第一压印板1包括移动块11，限位块111和导轨112，带动吸附固定板16左右移动。
[0043]第一压印板1还包括电机12，伸缩杆13，连接块14，固定块15，带动吸附固定板16上下移动完成第一次压印动作。
[0044]吸附固定板16的中间区域设有透明区17，吸附固定版16的下表面设有真空槽172，真空槽172内设有与真空泵连接的真空孔171。
[0045]第二压印板2卡接在旋转轴23上，可绕旋转轴23旋转。第二压印板2用于吸附固定第二工作模具72。
[0046]第二压印板包括用于吸附固定第二工作模具72的翻转固定板21，翻转固定板21的上表面设有真空槽211，真空槽211槽内设有真空孔212。真空槽211外侧设有工作模具定本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种具有双面压印功能的纳米压印设备，包括：压印板、对位单元和曝光单元，其特征在于：所述压印板包括第一压印板，第二压印板和第三压印板，所述对位单元位于所述设备腔体内部，并固定在设备上方；所述第一压印板位于所述设备腔体内部上方、所述对位单元下方；所述第三压印板位于设备腔体内下方、所述对位单元下方；所述第二压印板位于设备腔体内下方、所述第三压印板的一侧，所述曝光单元位于所述第三压印板的下方；还包括基片、工作模具，所述基片固定在第一压印板的下表面，基片上设有对位标记；所述工作模具包括第一工作模具和第二工作模具，所述工作模具上设有与对位标记相对应的对位标记。2.根据权利要求1所述的具有双面压印功能的纳米压印设备，其特征在于：所述第一压印板包括移动块，限位块和导轨，带动吸附固定板左右移动；所述第一压印板还包括电机，伸缩杆，连接块，固定块，带动吸附固定板上下移动完成第一次压印动作；所述吸附固定板的中间区域设有透明区，所述吸附固定版的下表面设有真空槽，所述真空槽内设有与真空泵连接的真空孔；所述第一压印板用于固定基片，并带动基片上下移动，完成压印动作。3.根据权利要求1所述的具有双面压印功能的纳米压印设备，其特征在于：所述第二压印板包括用于吸附固定第二工作模具的翻转固定板，所述翻转固定板的上表面设有真空槽，所述真空槽槽内设有真空孔，所述真空槽外侧设有工作模具定位槽，在所述工作模具定位槽外侧，远离旋转轴一...

【专利技术属性】
技术研发人员：冀然，
申请(专利权)人：青岛天仁微纳科技有限责任公司，
类型：发明
国别省市：