【技术实现步骤摘要】
本公开一般涉及微光刻成像。更具体地，其涉及通过分析层上设计的间距频率(pitch frequency)、然后利用该间距频率优化照明，来优化全芯片成像的照明。
技术介绍
例如，在集成电路(IC)的制造中可以使用光刻设备。在这种情况下，掩模包含对应于IC单独层的电路图案，且可以将该图案成像到基板(硅晶片)上的目标部分上(例如包括一个或多个管芯)，该基板已涂布有一层辐射敏感材料(光致抗蚀剂)。通常，单个晶片包含经由投影系统连续照射的整个网络的相邻目标部分，每次一个。在一种类型的光刻投影设备中，通过一下将整个掩模图案暴露到目标部分上来照射各个目标部分；这样的设备一般称为晶片步进机。在可选的设备中，一般称为步进-扫描设备，通过在给定的基准方向(“扫描”方向)上在投影束下渐进地扫描掩模图案，同时与该方向平行或反平行地同步扫描基板台，来照射各个目标部分。通常，由于投影系统具有放大系数M(一般＞1)，所以扫描基板台的速度V是扫描掩模台的速度的M倍的系数。例如，可以从US 6,046,792搜集关于如在此所描述的光刻装置的更多信息，通过参考结合到这里。在使用光刻投影设备的制造工...
【技术保护点】
一种优化全芯片层的照明的方法，包括步骤：确定全芯片层的间距频率，该间距频率表示间距出现在全芯片层中的频繁程度，以生成全芯片层的间距频率直方图；使间距频率直方图等于代表变换交叉系数的相干系统之和的第一本征函数；和求解变 换交叉系数的第一本征函数的积分方程，以限定全芯片层的优化照明。
【技术特征摘要】
US 2005-2-23 60/6549621.一种优化全芯片层的照明的方法，包括步骤确定全芯片层的间距频率，该间距频率表示间距出现在全芯片层中的频繁程度，以生成全芯片层的间距频率直方图；使间距频率直方图等于代表变换交叉系数的相干系统之和的第一本征函数；和求解变换交叉系数的第一本征函数的积分方程，以限定全芯片层的优化照明。2.根据权利要求1的方法，其中在间距频率直方图中相等地加权所有的间距。3.根据权利要求1的方法，其中求解变换交叉系数的第一本征函数的积分方程，以使第一本征函数与间距频率基本相同。4.根据权利要求3的方法，其中通过使用优质函数来最小化间距频率和第一本征函数之间的差，以求解变换交叉系数的第一本征函数的积分方程。5.根据权利要求1的方法，其中优质函数基本上是第一本征函数和间距频率的卷积。6.根据权利要求1的方法，其中求解变换交叉系数的第一本征函数的积分方程，以使第一本征函数在间距频率中对于每一个非零值有为1的值。7.根据权利要求1的方法，其中通过确定在相干半径内的全芯片层上的相邻特征之间的间隔来获得间距频率。8.根据权利要求1的方法，其中通过用Diracδ函数表示全芯片层上的相邻特征、并测量Diracδ函数之间的间隔来获得间距频率。9.根据权利要求1的方法，其中获得作为孔距的函数和作为角距的函数的随机孔图案或周期性孔图案的间距频率。10.根据权利要求1的方法，还包括通过利用优化的照明来确定间距频率是否落入第一本征函数的负区中；将落入负区中的间距频率分离到用第二曝光成像的另一层中；和优化所述另一层的照明。11.一种计算机程序产品，具有载有用于优化全芯片层照明的计算机程序的计算机可读媒介，其执行的该计算机程序致使计算机执行如下步骤确定全芯片层的间距频率，该间距频率表示间距出现在全芯片层中的频繁程度，以便生成全芯片层的间距频率直方图；使间距频率直方图等于代表变换交叉系数的相干系统之和的第一本征函数；和求解变换交叉系数的第一本征函数的积分方程，以限定全芯片层的优化照明。12.根据权利要求11的计算机程序产品，其中在间距频率直方图中相等地加权所有的间距。13.根据权利要求11的计算机程序产品，其中求解变换交叉系数的第一本征函数的积分方程，以使第一本征函数变为与间距频率基本相同。14.根据权利要求13的计算机程序产品，其中通过使用优质函数来最小化间距频率和第一本征函数之间的差，以求解变换交叉系数的第一本征函数的积分方程。15.根据权利要求11的计算机程序产品，其中优质函数基本上是第一本征函数和间距频率的卷积。16.根据权利要求11的计算机程序产品，其中求解变换交叉系数的第一本征函数的积分方程，以使第一本征函数在间距频率中对于每一个非零值有为1的值。17.根据权利要求11的计算机程序产品，其中通过确定在相干半径内的全芯片层上的相邻特征之间的间隔来获得间距频率。18...
【专利技术属性】
技术研发人员：RJ索查，JF陈，
申请(专利权)人：ASML蒙片工具有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]
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