平板保持体制造技术

提供一种保持体，可对用于曝光装置等的大型掩模或平面镜等平板进行防止自重变形的保持。该保持体由保持平板（６）的多个棒状保持部件构成，其特征为，上述保持部件构成为与平板（６）相接的部分为平面，并且上述保持部件包括：第一保持部件（２），在偏转、转动及起伏移动被允许的状态下，相对于保持体的基座（４）在１处被支持；第二保持部件（３），在可进行转动与在第二保持部件延伸方向膨胀的状态下，起伏及偏转被限制，并相对于保持体的基座（４）在２处被支持。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种平板保持体，例如，关于一种对使用于曝光装置等的掩模或平面镜进行保持的保持体。
技术介绍
图5是表示现有技术的曝光装置的概略构成的图。如该图所示，该曝光装置大致包括射出曝光光的光照射部110；对形成图形的掩模进行保持的掩模载台部120；对被曝光的工件进行载放保持的工件载台部130。光照射部110设有放射曝光光的灯111；反射来自灯111的光并进行聚光的聚光镜112；使被照射面的曝光光的照度分布均匀的积分仪(integrator)113(也称为复眼微透镜)；将曝光光的光路折返的平面镜114(此处使用3枚)；支持平面镜114的载台基座115及支持体116；使曝光光成为平行光的准直仪(collimator)117等，并且从光射出口118射出曝光光。在掩模载台部120中，在光射出口118的光出口侧，形成了电路等图形的掩模121(也称为光栅)，被保持固定在掩模载台122上。另外，在该图中，掩模121被安装在掩模载台122的上面侧，但是也存在被安装在下面侧的情况。在工件载台部130中，涂布或粘贴有感光剂的印刷电路基板或晶片等工件131，被保持在工件载台132上。在掩模载台部1本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种保持体，由保持平板的多个棒状保持部件构成，其特征为：上述保持部件构成为与上述平板相接的部分为平面，并且上述保持部件包括：第一保持部件，在偏转、转动及起伏移动被允许的状态下，在保持体的基座的１处被支持；第二保持部件，在可进行转动与在第二保持部件延伸方向膨胀的状态下，起伏及偏转被限制地在保持体的基座的２处被支持。

【技术特征摘要】
JP 2006-2-17 041237/20061.一种保持体，由保持平板的多个棒状保持部件构成，其特征为上述保持部件构成为与上述平板相接的部分为平面，并且上述保持部件包括第一保持部件，在偏转、转动及起伏移动被允许的状态下，在保持体的基座的1处被支持；第二保持部件，在可进行转动与在第二保持部件延伸方向膨胀的状态下，起伏及偏转被限制地在保持体的基座的2处被支持。2.一种保持体，由保持平板的多个棒状保持部件构成，其特征为上述保...

【专利技术属性】
技术研发人员：田中米太，
申请(专利权)人：优志旺电机株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]