镀膜玻璃及制备方法技术

技术编号:31832799 阅读:18 留言:0更新日期:2022-01-12 13:10
本申请适用于玻璃技术领域,具体提供了一种镀膜玻璃及制备方法,镀膜玻璃包括玻璃基板以及呈叠层形式依次设于玻璃基板同侧的基层电介质层、基层第二电介质层、功能ITO层、上层电介质层和上层第二电介质层。旨在解决现有技术中的采用银层玻璃由于银层易氧化所造成的室内隔热保温功能降低的技术问题。室内隔热保温功能降低的技术问题。室内隔热保温功能降低的技术问题。

【技术实现步骤摘要】
镀膜玻璃及制备方法


[0001]本专利技术涉及玻璃
,更具体地说,是涉及一种镀膜玻璃及制备方法。

技术介绍

[0002]低辐射镀膜玻璃,又称Low

E玻璃,是在玻璃表面镀制包括银层在内的多层金属或其它化合物组成的膜系产品。由于银层具有低辐射的特性,低辐射玻璃对可见光有较高的透射率,对红外线有很高的反射率,具有良好的隔热性能。
[0003]采用真空磁控溅射法生产的Low

E玻璃的膜层结构通常为:玻璃基片/基层电介质层/基层阻挡层/功能银层/上层阻挡层/上层电介质层。
[0004]电介质层一般为金属的氧化物或氮化物、非金属的氧化物或氮化物,如TiO2、ZnSnO
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、SnO2、ZnO、SiO2、Si3N4等。
[0005]但是在传统的低辐射膜的开发及生产中,银层的使用存在氧化现象,不能长时间的裸露在空气中,即使加干燥剂密封保存,也有时效性。一般的低辐射镀膜玻璃都是用作中空玻璃的室外面,且膜面合在中空腔内,这就造成室内保温效果大打折扣。
[0006]因此需要一款可代替室内白玻或超白玻,兼具提高室内隔热保温功能的低辐射镀膜玻璃。

技术实现思路

[0007]第一方面,本专利技术的一个目的在于提供一种镀膜玻璃,旨在解决现有技术中的采用银层玻璃由于银层易氧化所造成的室内隔热保温功能降低的技术问题。
[0008]为实现上述目的,本专利技术采用的技术方案是:提供一种镀膜玻璃,所述镀膜玻璃包括玻璃基板以及呈叠层形式依次设于玻璃基板同侧的基层电介质层、基层第二电介质层、功能ITO层、上层电介质层和上层第二电介质层。
[0009]在本专利技术的一个实施例中,所述基层电介质层与所述玻璃基板的表面粘接,所述基层电介质层为Si3N4层,所述基层电介质层的厚度为15nm~20nm。
[0010]在本专利技术的一个实施例中,所述基层第二电介质层为SiO2层,所述基层第二电介质层的厚度为20nm~30nm。
[0011]在本专利技术的一个实施例中,所述功能ITO层为氧化铟锡层,所述功能ITO层的厚度为120nm~130nm。
[0012]在本专利技术的一个实施例中,所述上层电介质层为SiO2层,所述上层电介质层的厚度为30nm~35nm。
[0013]在本专利技术的一个实施例中,所述上层第二电介质层为Si3N4层,所述上层第二电介质层的厚度为25nm~30nm。
[0014]在本专利技术的一个实施例中,所述玻璃基板为浮法白玻基板或超白玻原片基板。
[0015]本专利技术提供的镀膜玻璃的有益效果在于,本镀膜玻璃不采用银层设计,避免了银层易发生氧化的现象,从而不会影响玻璃的整体保温效果,并且也具有低辐射的效果,基层
电介质层、基层第二电介质层、功能ITO层、上层电介质层和上层第二电介质层共同组成灰色无银低辐射膜,基层电介质层起着连接玻璃基板和基层第二层电介质层的作用,从而可以确保灰色无银低辐射膜与玻璃基板之间的粘结性能好,并缓解整个灰色无银低辐射膜的内部应力。基层第二电介质层使得玻璃呈现无色透明和降低反射效果,并增强与基层电介质层的有效连接。功能ITO层可以代替银层,降低辐射率,提高保温效果。上层电介质层起到对功能ITO层的保护作用同时使得玻璃呈现无色透明和降低反射效果,并增强与上层第二电介质层的有效连接。上层第二电介质层用于提高玻璃的抗划伤,耐磨和抗腐蚀性能,实现可钢化和异地加工功能。
[0016]另一方面,本专利技术还提供了一种镀膜玻璃的制备方法,所述基层电介质层、基层第二电介质、功能ITO层、上层电介质层、上层第二电介质层均通过磁控溅射沉积的方式制备。
[0017]在本专利技术的一个实施例中,所述基层电介质层采用中频电源加旋转阴极在氩氮氛围中溅射沉积,功率为30kw~40kw,中频电源频率为30kHz~40kHz;所述基层第二电介质层采用中频电源加旋转阴极在氩氧氛围中溅射沉积,功率为70kw~80kw,中频电源频率为30kHz~40kHz;所述上层电介质层采用中频电源加旋转阴极在氩氧氛围中溅射沉积,功率为45kw~55kw,中频电源频率为30kHz~40kHz;所述上层第二电介质层采用中频电源加旋转阴极在氩氮氛围中溅射沉积,功率为50kw~70kw,中频电源频率为30kHz~40kHz。
[0018]在本专利技术的一个实施例中,所述功能ITO层采用中频电源加旋转阴极在氩氧氛围中溅射沉积,功率为75Kw~90kw,中频电源频率为30kHz~40kHz。
[0019]本专利技术提供的镀膜玻璃的制备方法能够很好的制作该镀膜玻璃,使之能够在保证低辐射性能的同时获得较高的透光率和较低的反射率。
附图说明
[0020]为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0021]图1为本专利技术实施例提供的镀膜玻璃的结构示意图。
[0022]图中:10、玻璃基板;
[0023]20、灰色无银低辐射膜;21、基层电介质层;22、基层第二电介质层;23、功能ITO层;24、上层电介质层;25、上层第二电介质层。
具体实施方式
[0024]为了使本专利技术所要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本专利技术进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本专利技术,并不用于限定本专利技术。
[0025]需要说明的是,当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件,它可以直接在另一个元件上或者间接在该另一个元件上。当一个元件被称为是“连接于”另一个元件,它可以是直接连接到另一个元件或间接连接至该另一个元件上。
[0026]此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性
或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本专利技术的描述中,“多个”的含义是两个或两个以上,除非另有明确具体的限定。“若干”的含义是一个或一个以上,除非另有明确具体的限定。
[0027]在本专利技术的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本专利技术和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本专利技术的限制。
[0028]在本专利技术的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.镀膜玻璃,其特征在于,所述镀膜玻璃包括玻璃基板以及呈叠层形式依次设于玻璃基板同侧的基层电介质层、基层第二电介质层、功能ITO层、上层电介质层和上层第二电介质层。2.如权利要求1所述的镀膜玻璃,其特征在于,所述基层电介质层与所述玻璃基板的表面粘接,所述基层电介质层为Si3N4层,所述基层电介质层的厚度为15nm~20nm。3.如权利要求1所述的镀膜玻璃,其特征在于,所述基层第二电介质层为SiO2层,所述基层第二电介质层的厚度为20nm~30nm。4.如权利要求1所述的镀膜玻璃,其特征在于,所述功能ITO层为氧化铟锡层,所述功能ITO层的厚度为120nm~130nm。5.如权利要求1所述的镀膜玻璃,其特征在于,所述上层电介质层为SiO2层,所述上层电介质层的厚度为30nm~35nm。6.如权利要求1所述的镀膜玻璃,其特征在于,所述上层第二电介质层为Si3N4层,所述上层第二电介质层的厚度为25nm~30nm。7.如权利要求1

6任一项所述的镀膜玻璃,其特征在于,所述玻璃基板为浮法白...

【专利技术属性】
技术研发人员:董清世马秀军易吉文郭泽渊
申请(专利权)人:信义玻璃天津有限公司
类型:发明
国别省市:

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