基板处理装置制造方法及图纸

回收槽内存储的处理液，借助泵的抽吸，经由配管，通过杂质去除过滤器及离子成分去除过滤器后，贮存在精制槽内。在杂质去除过滤器中，除去处理液中含有的杂质（例如，水分、蚀刻残渣或颗粒等）。在离子成分去除过滤器中，除去含酸性液体、ＨＦＥ及亲水性有机溶剂的处理液中的离子成分（主要为阴离子）。例如，当采用氢氟酸（ＨＦ）作为酸性液体时，通过离子成分去除过滤器除去氟离子（Ｆ↑［－］）。另外，采用离子成分去除过滤器，也可以除去处理液中含有的水分、亲水性有机溶剂或金属离子等。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种基板处理装置，其对基板实施处理，其中具有：供给部，该供给部向基板供给含有氟类有机溶剂及酸性液体的处理液；回收部，该回收部回收从上述供给部供给给基板的处理液；离子去除部，该离子去除部通过去除上述回收部回收的处理液中的酸性液体的阴离子，得到上述阴离子被去除的去除后处理液；混合部，该混合部通过在上述离子去除部得到的去除后处理液中混合酸性液体，使处理液再生；第１循环系统，该第１循环系统将通过上述混合部再生的处理液返回至上述供给部。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：基村雅洋，
申请(专利权)人：大日本网目版制造株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]