【技术实现步骤摘要】
一种金刚石研磨液及其制备工艺
[0001]本专利技术涉及精密研磨、抛光加工
,具体涉及一种金刚石研磨液及其制备工艺。
技术介绍
[0002]作为继硅(Si)、砷化镓(GaAs)之后的第三代半导体材料的氮化镓(GaN),其在器件上的应用被视为20世纪90年代半导体最重大的事件,它使半导体发光二极管与激光器上了一个新的台阶,然而在实际的应用中,GaN材料很难制得,必须在其他衬底材料上生长薄膜,目前作为生长GaN材料的衬底材料有很多,包括蓝宝石、碳化硅、硅、氧化镁等,而蓝宝石是最主要的衬底材料。目前已在蓝宝石上外延出高质量的GaN材料,制成GaN基蓝色发光二极管及激光二极管。蓝宝石由于其硬度高且脆性大,机械加工很困难,加工技术门槛相当高,作为衬底材料,其表面加工的质量(如表面粗糙度、微裂纹、划痕、位错)和加工精度对材料外延生长质量和器件性能都有至关重要的影响。
[0003]目前常用于蓝宝石工业化生产工序的研磨液主要有水性(包括水基和醇基)和油性两种。现有的水性研磨液和油性研磨液均存在悬浮稳定性较差的缺陷,长期放置时, ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种金刚石研磨液,其特征在于,包括如下质量份的组分:磨料2-10份、表面活性剂1-3份、悬浮剂0.5-2份、润湿剂0.1-1份、pH值调节剂0-8份、粘度调节剂1-10份和基体油60-90份;所述磨料为多晶金刚石微粉、类多晶金刚石微粉、单晶金刚石微粉的混合物;所述磨料预先采用烷基酚聚氧乙烯醚进行表面改性处理,其中,烷基酚聚氧乙烯醚与磨料的质量比为(0.01-0.2):1;所述悬浮剂为N-甲基吡咯烷酮、改性聚脲、甲基吡咯烷、蓖麻油衍生物中的至少一种。2.根据权利要求1所述的金刚石研磨液,其特征在于,所述磨料中多晶金刚石微粉、类多晶金刚石微粉、单晶金刚石微粉的质量比为(2-6):(0.5-1):1。3.根据权利要求1所述的金刚石研磨液,其特征在于,所述磨料中多晶金刚石微粉、类多晶金刚石微粉、单晶金刚石微粉的质量比为1:(3-5):(4-6)。4.根据权利要求2或3所述的金刚石研磨液,其特征在于,所述多晶金刚石微粉的粒径为2-15μm、类多晶金刚石微粉的粒径为3-10μm、单晶金刚石微粉的粒径为1-50μm。5.根据权利要求1所述的金刚石研磨液,其特征在于,所述表面活性剂为十二烷基苯磺酸、蓖麻油聚氧乙烯醚、聚氧乙烯失水山梨醇单油酸...
【专利技术属性】
技术研发人员:钱霖,
申请(专利权)人:苏州诺天美新材料技术有限公司,
类型:发明
国别省市:
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