基板处理装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供一种基板处理装置。使基板处理装置的生产率提高。基板处理装置具备：基板出入部；第1群组的处理部，其对第1状态的基板进行一系列的处理；第2群组的处理部，其对第1状态的基板进行与由第1群组的处理部进行的一系列的处理同样的一系列的处理；第1输送部，其从基板出入部向第1群组的处理部输送第1状态的基板，并从第1群组的处理部向基板出入部输送利用第1群组的处理部而成为了第2状态的基板；以及第2输送部，其从基板出入部向第2群组的处理部输送第1状态的基板，并从第2群组的处理部向基板出入部输送利用第2群组的处理部而成为了第2状态的基板。而成为了第2状态的基板。而成为了第2状态的基板。

【技术实现步骤摘要】
基板处理装置


[0001]本技术涉及一种基板处理装置。

技术介绍

[0002]在专利文献1中公开有一种具备配置在上下方向上的多层的基板处理装置。对于该基板处理装置，第1层具备使用预定的处理液而进行基板的处理的第1处理部，第2层具备对基板进行温度处理的第2处理部。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：日本特开平10
‑
189420号公报

技术实现思路

[0006]技术要解决的问题
[0007]本技术提供一种对生产率的提高有效的基板处理装置。
[0008]用于解决问题的方案
[0009]本技术的一技术方案的基板处理装置具备：基板出入部，其从外部接收第1状态的基板，并向外部送出第2状态的基板；第1群组的处理部，其包括进行互不相同的处理的两个处理部，对所述第1状态的基板进行用于将所述第1状态变为所述第2状态的一系列的处理；第2群组的处理部，其包括进行互不相同的处理的两个处理部，对所述第1状态的基板进行与由所述第1群组的处理部进行的一系列的处理同样的一系列的处理；第1输送部，其从所述基板出入部向所述第1群组的处理部输送所述第1状态的基板，并从所述第1群组的处理部向所述基板出入部输送利用所述第1群组的处理部而成为了所述第2状态的基板；以及第2输送部，其从所述基板出入部向所述第2群组的处理部输送所述第1状态的基板，并从所述第2群组的处理部向所述基板出入部输送利用所述第2群组的处理部而成为了所述第2状态的基板。
[0010]对于上述基板处理装置，也可以是，所述第1群组的处理部包括也属于所述第2群组的处理部的共用处理部和不属于所述第2群组的处理部的独立处理部，所述共用处理部的生产率比所述独立处理部的生产率大。
[0011]对于上述基板处理装置，也可以是，所述共用处理部包括进行由所述第1输送部输送的基板的检查和由所述第2输送部输送的基板的检查的检查单元。
[0012]对于上述基板处理装置，也可以是，所述第1群组的处理部包括也属于所述第2群组的处理部的第1共用处理部，所述第1共用处理部包括：第1保持单元，其保持由所述第1输送部输送的基板；第2保持单元，其在水平方向上配置于与所述第1保持单元的位置不同的位置，保持由所述第2输送部输送的基板；以及供液单元，其能够向保持于所述第1保持单元的基板和保持于所述第2保持单元的基板供给处理液。
[0013]对于上述基板处理装置，也可以是，所述第1群组的处理部还包括也属于所述第2
群组的处理部的第2共用处理部，所述第2共用处理部的至少一部分在所述第1保持单元与所述第2保持单元之间的位置处重叠于所述第1共用处理部之上或之下。
[0014]对于上述基板处理装置，也可以是，所述基板出入部具有：第1收容部和第2收容部，其在水平方向上配置于互不相同的位置；以及基板分配部，其将所述第1状态的基板收容于所述第1收容部和所述第2收容部中的任一者，所述第1输送部从所述第1收容部送出所述第1状态的基板，并向所述第1收容部送入所述第2状态的基板，所述第2输送部从所述第2收容部送出所述第1状态的基板，并向所述第2收容部送入所述第2状态的基板。
[0015]对于上述基板处理装置，也可以是，所述基板分配部具有：第1送入送出单元，其向所述第1收容部送入所述第1状态的基板，并从所述第1收容部送出所述第2状态的基板；以及第2送入送出单元，其向所述第2收容部送入所述第1状态的基板，并从所述第2收容部送出所述第2状态的基板。
[0016]对于上述基板处理装置，也可以是，所述第1收容部包括进行所述第1状态的基板和所述第2状态的基板中的至少一者的检查的第1检查单元，所述第2收容部包括进行所述第1状态的基板和所述第2状态的基板中的至少一者的检查的第2检查单元。
[0017]对于上述基板处理装置，也可以是，所述第1输送部具有：第1保持臂，其用于保持基板；第1基座，其支承所述第1保持臂；以及第1升降致动器，其使所述第1基座升降，所述第2输送部具有：第2保持臂，其用于保持基板；第2基座，其支承所述第2保持臂；以及第2升降致动器，其使所述第2基座升降，在水平的一方向上，依次配置所述第1升降致动器、所述第1基座、所述第2基座、以及所述第2升降致动器，所述第1基座和所述第2基座以相互隔开间隔的方式配置。
[0018]对于上述基板处理装置，也可以是，所述第1群组的处理部和所述第2群组的处理部配置于互不相同的高度位置，所述基板出入部具有：第1收容部，其以与所述第1群组的处理部的高度位置相对应的方式配置；第2收容部，其以与所述第2群组的处理部的高度位置相对应的方式配置；以及基板分配部，其将所述第1状态的基板收容于所述第1收容部和所述第2收容部中的任一者。
[0019]对于上述基板处理装置，也可以是，所述基板分配部具有第1送入送出单元和第2送入送出单元，所述基板出入部还具有：第3收容部和第4收容部，其在水平方向上配置于互不相同的位置；第3送入送出单元，其向所述第3收容部送入所述第1状态的基板；以及第4送入送出单元，其向所述第4收容部送入所述第1状态的基板，所述第1送入送出单元从所述第3收容部向所述第1收容部和所述第2收容部中的任一者输送所述第1状态的基板，所述第2送入送出单元从所述第4收容部向所述第1收容部和所述第2收容部中的任一者输送所述第1状态的基板。
[0020]对于上述基板处理装置，也可以是，所述第3收容部包括进行所述第1状态的基板和所述第2状态的基板中的至少一者的检查的第1检查单元，所述第4收容部包括进行所述第1状态的基板和所述第2状态的基板中的至少一者的检查的第2检查单元。
[0021]对于上述基板处理装置，也可以是，所述第1群组的处理部和所述第2群组的处理部各自进行的一系列的处理包括使用了互不相同的处理液的两个以上的液处理。
[0022]对于上述基板处理装置，也可以是，所述第1群组的处理部包括：中间收容部；前段处理部，其进行用于变为所述第2状态的一系列的处理中的前段的处理；以及后段处理部，
其进行该一系列的处理中的后段的处理，所述第1输送部具有：第1输送臂，其向所述中间收容部送入利用所述前段处理部进行了处理的基板；以及第2输送臂，其从所述中间收容部向所述后段处理部输送由所述第1输送臂送入到所述中间收容部的基板。
[0023]对于上述基板处理装置，也可以是，所述后段处理部包括对从所述中间收容部送出后的基板进行使用了清洗液的清洗的清洗处理单元。
[0024]对于上述基板处理装置，也可以是，该基板处理装置还具备：输送区域，在该输送区域，利用所述第1输送部输送基板，该输送区域在水平的第1方向上延伸；以及第1处理区域和第2处理区域，其在与所述第1方向以及上下方向垂直的第2方向上将所述输送区域夹在中间，所述第1群组的处理部包括：多个第1处理部，其在所述第1处理区域沿着所述第1方向排列；和多个第2处理部，其在所述第2处理区域沿着所本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基板处理装置，其特征在于，该基板处理装置具备：基板出入部，其从外部接收第1状态的基板，并向外部送出第2状态的基板；第1群组的处理部，其包括进行互不相同的处理的两个处理部，对所述第1状态的基板进行用于将所述第1状态变为所述第2状态的一系列的处理；第2群组的处理部，其包括进行互不相同的处理的两个处理部，对所述第1状态的基板进行与由所述第1群组的处理部进行的一系列的处理同样的一系列的处理；第1输送部，其从所述基板出入部向所述第1群组的处理部输送所述第1状态的基板，并从所述第1群组的处理部向所述基板出入部输送利用所述第1群组的处理部而成为了所述第2状态的基板；以及第2输送部，其从所述基板出入部向所述第2群组的处理部输送所述第1状态的基板，并从所述第2群组的处理部向所述基板出入部输送利用所述第2群组的处理部而成为了所述第2状态的基板。2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述第1群组的处理部包括也属于所述第2群组的处理部的共用处理部和不属于所述第2群组的处理部的独立处理部，所述共用处理部的生产率比所述独立处理部的生产率大。3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，所述共用处理部包括进行由所述第1输送部输送的基板的检查和由所述第2输送部输送的基板的检查的检查单元。4.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述第1群组的处理部包括也属于所述第2群组的处理部的第1共用处理部，所述第1共用处理部包括：第1保持单元，其保持由所述第1输送部输送的基板；第2保持单元，其在水平方向上配置于与所述第1保持单元的位置不同的位置，保持由所述第2输送部输送的基板；以及供液单元，其能够向保持于所述第1保持单元的基板和保持于所述第2保持单元的基板供给处理液。5.根据权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，所述第1群组的处理部还包括也属于所述第2群组的处理部的第2共用处理部，所述第2共用处理部的至少一部分在所述第1保持单元与所述第2保持单元之间的位置处重叠于所述第1共用处理部之上或之下。6.根据权利要求1～5中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，所述基板出入部具有：第1收容部和第2收容部，其在水平方向上配置于互不相同的位置；以及基板分配部，其将所述第1状态的基板收容于所述第1收容部和所述第2收容部中的任一者，所述第1输送部从所述第1收容部送出所述第1状态的基板，并向所述第1收容部送入所述第2状态的基板，
所述第2输送部从所述第2收容部送出所述第1状态的基板，并向所述第2收容部送入所述第2状态的基板。7.根据权利要求6所述的基板处理装置，其特征在于，所述基板分配部具有：第1送入送出单元，其向所述第1收容部送入所述第1状态的基板，并从所述第1收容部送出所述第2状态的基板；以及第2送入送出单元，其向所述第2收容部送入所述第1状态的基板，并从所述第2收容部送出所述第2状态的基板。8.根据权利要求6所述的基板处理装置，其特征在于，所述第1收容部包括进行所述第1状态的基板和所述第2状态的基板中的至少一者的检查的第1检查单元，所述第2收容部包括进行所述第1状态的基板和所述第2状态的基板中的至少一者的检查的第2检查单元。9.根据权利要求1～5中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，所述第1输送部具有：第1保持臂，其用于保持基板；第1基座，其支承所述第1保持臂；以及第1升降致动器，其使所述第1基座升降，所述第...

【专利技术属性】
技术研发人员：上山昇太，丸山光昭，大薗启，中岛清次，酒田洋司，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：新型
国别省市：