一种物理气相沉积源的移动装置及物理气相沉积装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种物理气相沉积源的移动装置及物理气相沉积装置，涉及物理气相沉积技术领域。移动装置包括：第一移动机构，与基座连接，用于带动所述基座在第一方向上往复移动；第二移动机构，与所述第一移动机构连接，所述第二移动机构用于带动所述第一移动机构以及所述基座在第二方向上往复移动，所述第一方向与所述第二方向为不同方向。本发明专利技术能够避免增加或更换靶材后带来的PVD SOURCE位置偏移，从而避免对PVD产品质量的影响。而避免对PVD产品质量的影响。而避免对PVD产品质量的影响。

【技术实现步骤摘要】
一种物理气相沉积源的移动装置及物理气相沉积装置


[0001]本专利技术涉及物理气相沉积
，特别是涉及一种物理气相沉积源的移动装置及物理气相沉积装置。

技术介绍

[0002]现有技术中通常将靶材、固定靶材的绝缘基座、旋转电机及旋转电机带动的永磁铁统称为物理气相沉积源(PVD SOURCE)。
[0003]本领域技术人员公知的是靶材使用后需要增加或更换。为了便于操作人员增加或更换靶材，通常采用旋转支架将PVD SOURCE旋转。而为了准确地进行位置调节，一般都将旋转支架的位置设置成可以调节，而旋转支架中心点位置的细微偏移便会造成PVD SOURCE位置的较大偏移，一旦PVD SOURCE偏移则会造成物理气相沉积(PVD)最终产品的质量下降。
[0004]因此，如何避免增加或更换靶材后带来的PVD SOURCE位置偏移，成为本领域技术人员所要解决的技术问题。

技术实现思路

[0005]本专利技术提供了一种物理气相沉积源的移动装置及物理气相沉积装置，能够避免增加或更换靶材后带来的PVD SOURCE位置偏移，从而避本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种物理气相沉积源的移动装置，所述物理气相沉积源包括靶材和用于固定所述靶材的基座，其特征在于，所述移动装置包括：第一移动机构，与所述基座连接，用于带动所述基座在第一方向上往复移动；第二移动机构，与所述第一移动机构连接，所述第二移动机构用于带动所述第一移动机构以及所述基座在第二方向上往复移动，所述第一方向与所述第二方向为不同方向。2.根据权利要求1所述的移动装置，其特征在于，所述第一方向包括水平方向，所述第一移动机构包括与所述基座连接的滑动组件，所述滑动组件配置成允许所述基座沿其滑动后在所述水平方向上往复移动。3.根据权利要求2所述的移动装置，其特征在于，所述滑动组件包括：本体，与所述第二移动机构连接；开设在所述本体上且沿水平方向延伸的滑槽；所述移动装置还包括：连接件，一端卡设在所述滑槽中，另一端与所述基座连接，所述连接件配置成受力后沿所述滑槽滑动从而使所述基座在所述水平方向上往复移动。4.根据权利要求1所述的移动装置，其特征在于，所述第二方向包括垂直方向，所述第二移动机构包括：导杆，与所述第一移动机构连接，用于带动所述基座和所述第一移动机构在垂直方向上往复移动；气缸，与所述导杆连接，用于驱动所述导杆带动所述第一移动机构以及所述基座垂直向上移动。5.根据权利要求4所述的移动装置，其特征在于，所述第二移动机构还包括：气源，与所述气缸连接；控制器，与所述气源连接，用于在开启后控制所述气源为...

【专利技术属性】
技术研发人员：宋永辉，王世宽，
申请(专利权)人：无锡尚积半导体科技有限公司，
类型：发明
国别省市：