一种晶体真空镀膜器设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种晶体真空镀膜器设备，包括镀膜箱、支撑机构，所述镀膜箱的后内侧面活动连接有转杆，所述转杆的侧表面固定连接有镀膜头，所述镀膜箱的内顶部固定连接有液压缸，所述液压缸的输出端固定连接有伸缩杆，所述伸缩杆远离液压缸的一端固定连接有齿板，所述转杆的侧表面固定连接有齿环，所述镀膜箱的上表面固定连接有第一电机，所述第一电机的输出端固定连接有第一旋转轴。本实用新型专利技术，通过设置连接软管、齿板、齿环，能够对镀膜头进行角度调整，在对晶片进行镀膜时可以更加地快速，提高镀膜的速率，通过设置第一旋转轴、转环、第二旋转轴，能够使晶片在镀膜时镀膜的更加均匀，提高晶片的镀膜效果。提高晶片的镀膜效果。提高晶片的镀膜效果。

【技术实现步骤摘要】
一种晶体真空镀膜器设备


[0001]本技术涉及真空镀膜器设备领域，尤其涉及一种晶体真空镀膜器设备。

技术介绍

[0002]晶体在使用时，需要对晶体的电极等部件进行银层镀膜，以防止晶体氧化，导致晶体使用寿命缩减，在镀膜时需要用到真空镀膜设备，真空镀膜设备主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。
[0003]目前一些真空镀膜器设备无法均匀对晶体进行镀膜，导致晶体表面镀膜的效果较差，而且一些真空镀膜器设备的镀膜速率较慢，导致设备的实用性降低。

技术实现思路

[0004]本技术的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种晶体真空镀膜器设备。
[0005]为了实现上述目的，本技术采用了如下技术方案：一种晶体真空镀膜器设备，包括镀膜箱、支撑机构，所述镀膜箱的后内侧面活动连接有转杆，所述转杆的侧表面固定连接有镀膜头，所述镀膜箱的内顶部固定连接有液压缸，所述液压缸的输出端固定连接有伸缩杆，所述伸缩杆远离液压缸的一端固定连接有齿板，所述转杆的侧表面固定连接有齿环；
[0006]所述镀膜箱的上表面固定连接有第一电机，所述第一电机的输出端固定连接有第一旋转轴，所述第一旋转轴的侧表面固定连接有连接块，所述连接块的内部固定连接有第二电机，所述第二电机的输出端固定连接有第二旋转轴，所述连接块的侧表面活动连接有转环；
[0007]所述连接块的左右两端均设置连接板，所述连接板的内侧面固定连接有弹簧，所述弹簧的底端固定连接有压板，所述连接板的有右侧面固定连接有连接杆。
[0008]作为上述技术方案的进一步描述：
[0009]所述支撑机构包含支撑板、支撑柱、横杆，所述支撑板与镀膜箱的下表面固定连接，所述支撑柱与支撑板的底端固定连接，所述横杆与支撑柱的侧表面固定连接。
[0010]作为上述技术方案的进一步描述：
[0011]所述支撑板的上表面且位于镀膜箱的左侧固定连接有箱体，所述箱体的右侧面固定连接有连接软管。
[0012]作为上述技术方案的进一步描述：
[0013]所述连接软管远离箱体的一端延伸至箱体的内部，且与镀膜头的输入端相连接。
[0014]作为上述技术方案的进一步描述：
[0015]所述支撑板的上表面且位于镀膜箱的右侧固定连接有真空泵，所述真空泵的输入端固定连接有连接管，所述连接管远离真空泵的一端延伸至镀膜箱的内部。
[0016]作为上述技术方案的进一步描述：
[0017]所述第二旋转轴远离第二电机的一端与连接板的右侧面固定连接。
[0018]作为上述技术方案的进一步描述：
[0019]所述齿板与齿环啮合，所述连接杆远离连接板的一端与转环的外侧面固定连接。
[0020]作为上述技术方案的进一步描述：
[0021]所述第一旋转轴远离第一电机的一端延伸至镀膜箱的内部，且位于镀膜头的右侧。
[0022]本技术具有如下有益效果：
[0023]1、与现有技术相比，该晶体真空镀膜器设备，通过设置连接软管、齿板、齿环，能够对镀膜头进行角度调整，在对晶片进行镀膜时可以更加地快速，提高镀膜的速率。
[0024]2、与现有技术相比，该晶体真空镀膜器设备，通过设置第一旋转轴、转环、第二旋转轴，能够使晶片在镀膜时镀膜的更加均匀，提高晶片的镀膜效果。
[0025]3、与现有技术相比，该晶体真空镀膜器设备，通过设置弹簧与压板，能够对晶片进行固定，避免晶片发生脱落的现象，提高了晶片的稳固性。
附图说明
[0026]图1为本技术提出的一种晶体真空镀膜器设备的整体结构示意图；
[0027]图2为本技术提出的一种晶体真空镀膜器设备的内部结构示意图；
[0028]图3为本技术提出的一种晶体真空镀膜器设备的正视图；
[0029]图4为本图2中A处的放大图；
[0030]图5为本图2中B处的放大图。
[0031]图例说明：
[0032]1、镀膜箱；2、支撑机构；201、支撑板；202、支撑柱；203、横杆；3、箱体；4、连接软管；5、转杆；6、镀膜头；7、液压缸；8、齿环；9、第一电机；10、连接块；11、第二电机；12、第二旋转轴；13、转环；14、连接板；15、弹簧；16、压板；17、连接板；18、第一旋转轴；19、伸缩杆；20、齿板；21、真空泵；22、连接管。
具体实施方式
[0033]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0034]在本技术的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制；术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性，此外，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以
具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0035]参照图1
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5，本技术提供的一种晶体真空镀膜器设备：包括镀膜箱1、支撑机构2，镀膜箱1的前表面设置有箱门，便于对晶片进行放置，支撑机构2的位置位于镀膜箱1的下表面，支撑机构2包含支撑板201、支撑柱202、横杆203，支撑板201与镀膜箱1的下表面固定连接，支撑柱202与支撑板201的底端固定连接，横杆203与支撑柱202的侧表面固定连接，增强镀膜箱1的稳固性，支撑板201的上表面且位于镀膜箱1的左侧固定连接有箱体3，箱体3的右侧面固定连接有连接软管4，便于镀膜头6转动，连接软管4远离箱体3的一端延伸至箱体3的内部，且与镀膜头6的输入端相连接，支撑板201的上表面且位于镀膜箱1的右侧固定连接有真空泵21，便于对镀膜箱1内的空气进行抽干，真空泵21的输入端固定连接有连接管22，连接管22远离真空泵21的一端延伸至镀膜箱1的内部。
[0036]通过设置此结构，设置支撑机构2便于对镀膜箱1进行稳固，设置真空泵21便于将镀膜箱1内的空气抽干，使镀膜箱1内部处于真空状态。
[0037]镀膜箱1的后内侧面活动连接有转杆5，便于镀膜头6转动，转杆5的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种晶体真空镀膜器设备，包括镀膜箱(1)、支撑机构(2)，其特征在于：所述镀膜箱(1)的后内侧面活动连接有转杆(5)，所述转杆(5)的侧表面固定连接有镀膜头(6)，所述镀膜箱(1)的内顶部固定连接有液压缸(7)，所述液压缸(7)的输出端固定连接有伸缩杆(19)，所述伸缩杆(19)远离液压缸(7)的一端固定连接有齿板(20)，所述转杆(5)的侧表面固定连接有齿环(8)；所述镀膜箱(1)的上表面固定连接有第一电机(9)，所述第一电机(9)的输出端固定连接有第一旋转轴(18)，所述第一旋转轴(18)的侧表面固定连接有连接块(10)，所述连接块(10)的内部固定连接有第二电机(11)，所述第二电机(11)的输出端固定连接有第二旋转轴(12)，所述连接块(10)的侧表面活动连接有转环(13)；所述连接块(10)的左右两端均设置连接板(14)，所述连接板(14)的内侧面固定连接有弹簧(15)，所述弹簧(15)的底端固定连接有压板(16)，所述连接板(14)的有右侧面固定连接有连接杆(17)。2.根据权利要求1所述的一种晶体真空镀膜器设备，其特征在于：所述支撑机构(2)包含支撑板(201)、支撑柱(202)、横杆(203)，所述支撑板(201)与镀膜箱(1)的下表面固定连接，所述支撑柱(202)与支撑板(201)的底端固定连...

【专利技术属性】
技术研发人员：李经让，刘丽华，
申请(专利权)人：苏州杭晶电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：