【技术实现步骤摘要】
一种用于晶体打磨的循环冷却系统
[0001]本技术涉及晶体打磨领域，特别涉及一种用于晶体打磨的循环冷却系统。
技术介绍
[0002]晶体是由大量微观物质单位(原子、离子、分子等)按一定规则有序排列的结构，因此可以从结构单位的大小来研究判断排列规则和晶体形态，晶体按其结构粒子和作用力的不同可分为四类：离子晶体、原子晶体、分子晶体和金属晶体，固体可分为晶体、非晶体和准晶体三大类，而晶体的成型需要对其进行打磨处理。
[0003]通过将晶体放置在打磨箱当中，通过打磨机器对晶体的表面进行打磨处理，使其得到使用者所需要的模样，以获得光亮、表面平整的成型晶体。
[0004]目前的晶体打磨装置，在打磨时，由于晶体的摩擦产生的热量，会损坏打磨器或者使得加工零部件的尺寸发生变化，需要对其进行冷却处理，而现有的冷却处理之后，使用后的水流通常会直接排出设备之外，虽然具有冷却的功能，但容易造成对水流的浪费，不能对水流进行充分利用，同时无法持续对打磨的晶体进行冷却降温，既浪费了冷却用的水流，也降低了设备的实用性。
技术实现思路
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种用于晶体打磨的循环冷却系统，包括打磨箱(1)，其特征在于：所述打磨箱(1)的下表面固定连接有水箱(2)，所述水箱(2)左表面的上侧螺纹连接有盖板(3)，所述打磨箱(1)内部的下侧开设有条形腔(4)，所述打磨箱(1)内壁下侧的中心处固定连接有与条形腔(4)相连通的通管(5)，所述通管(5)的下端贯穿条形腔(4)内壁的下侧并延伸至打磨箱(1)下表面的中心处，所述通管(5)的下端贯穿水箱(2)的上表面并延伸至其内壁的一侧，所述水箱(2)内壁的下侧固定连接有冷凝管(6)，所述打磨箱(1)内壁下侧的左右两方均固定连接有斜块(7)，所述打磨箱(1)内壁左右两侧的下方共同固定连接有滤板(8)，所述条形腔(4)内壁后侧的左右两方共同设置有输送装置。2.根据权利要求1所述的一种用于晶体打磨的循环冷却系统，其特征在于：所述输送装置包括两个水泵(9)，两个所述水泵(9)的后表面分别与条形腔(4)内壁后侧的左右两方固定连接，所述通管(5)的左右两侧表面均固定连接有第一水管(10)，两个所述第一水管(10)的一侧表面均与相应的水泵(9)的输入端固定连接，所述打磨箱(1)内部上侧的左右两方均开设有空腔(11)，两个所述水泵(9)的输出端均固定连接有第二水管(12)，两个所述第二水管(12)的上端分别贯穿条形腔(4)内壁上侧的左右两...
【专利技术属性】
技术研发人员：李经让，刘丽华，
申请(专利权)人：苏州杭晶电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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