一种带有护罩结构的物理气相沉积设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种带有护罩结构的物理气相沉积设备，包括装置本体、第一滑块、支脚和防护门，装置本体的底部设置有支脚，且支脚在装置本体的底部设置有四个，装置本体的前部设置有防护门，防护门外部的一侧设置有控制面板，装置本体外部的右侧设置有真空泵，且真空泵的一端延伸到装置本体的内部，装置本体内部靠近防护门的一侧设置有伸缩杆，且伸缩杆的一侧设置有防护罩。本实用新型专利技术在装置上设置有工作台，把晶圆放到工作台中进行固定，通过工作台在装置中前后移动，通过启动高频线圈进行气相沉积，通过高频线圈的移动，使高频线圈移动到工作台的顶部进行镀膜，实现了镀膜均匀的目的。的。的。

【技术实现步骤摘要】
一种带有护罩结构的物理气相沉积设备


[0001]本技术涉及气相沉积设备，具体为一种带有护罩结构的物理气相沉积设备。

技术介绍

[0002]物理气相沉积技术表示在真空条件下，采用物理方法，将材料源——固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体(或等离子体)过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。物理气相沉积的主要方法有，真空蒸镀、溅射镀膜、电弧等离子体镀、离子镀膜，及分子束外延等。发展到目前，物理气相沉积技术不仅可沉积金属膜、合金膜、还可以沉积化合物、陶瓷、半导体、聚合物膜等。
[0003]目前的物理气相沉积设备，如公告号CN 208632632 U的专利所述，包括装置外壳和抽真空装置，装置外壳位于抽真空装置正上方位置处，装置外壳与抽真空装置焊接固定，且装置外壳与抽真空装置之间相连通，利用设置的靶材与钨丝的配合，实现对于气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时，把蒸发物或其反应物蒸镀在基材上，同时呈弧形的电热管实现对于真空镀膜室内部的高温提供。
[0004]针对上述中的相关技术，对气相沉积设备进行改造，解决现有技术中的镀膜不均均、且没有防护结构的问题。

技术实现思路

[0005]本技术的目的在于提供一种物理气相沉积设备以解决上述
技术介绍
中提出的镀膜不均匀、没有防护结构的问题。
[0006]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种带有护罩结构的物理气相沉积设备，包括装置本体、第一滑块、支脚和防护门，所述装置本体的底部设置有支脚，且所述支脚在装置本体的底部设置有四个，所述装置本体的前部设置有防护门，所述防护门外部的一侧设置有控制面板，所述装置本体外部的右侧设置有真空泵，且所述真空泵的一端延伸到装置本体的内部，所述装置本体内部靠近防护门的一侧设置有伸缩杆，且所述伸缩杆的一侧设置有防护罩，所述伸缩杆的一侧设置有支撑件，且支撑件上设置有把手。
[0007]优选的，所述装置本体内部顶部的中心位置设置有气缸，且所述气缸的底部连接有第一滑块，气缸起到了提供动力的目的。
[0008]优选的，所述装置本体内部的侧壁上设置有第一滑轨，且所述第一滑轨上设置有第一滑块，且所述第一滑块的一侧与滑动板相互焊接，第一滑轨方便滑动的目的。
[0009]优选的，所述滑动板底部的中心位置设置有高频线圈，所述装置本体内部靠近第一滑轨的底部设置有加热管，加热管起到加热的目的。
[0010]优选的，所述装置本体内部背部的中心位置设置有电机，所述电机的一端连接有丝杠，电机提供动力的目的。
[0011]优选的，所述丝杠的顶部设置有工作台，所述工作台底部的两侧设置有第二滑块，所述装置本体内部底部设置有第二滑轨，且第二滑轨与第二滑块相互配合，第二滑块起到
了方便滑动的目的。
[0012]优选的，所述工作台顶部设置有晶圆槽，且晶圆槽在工作台的顶部设置有四个，且相互对称。
[0013]优选的，所述晶圆槽内部的底部设置有弹簧，弹簧的一端设置有夹块，夹块之间夹持有晶圆体，夹块起到了固定晶圆的目的。
[0014]与现有技术相比，本技术的有益效果是：该物理气相沉积设备结构合理，具有以下有优点：
[0015](1)通过设置有第二滑轨、工作台、电机和丝杠实现了镀膜均匀的目的，现有的装置镀膜不均匀，因此在装置上设置有工作台，把晶圆放到工作台中进行固定，通过工作台在装置中前后移动，通过启动高频线圈进行气相沉积，通过高频线圈的移动，使高频线圈移动到工作台的顶部进行镀膜，实现了镀膜均匀的目的。
[0016](2)通过设置有伸缩杆、防护罩、把手和支撑件实现了具有防护功能的目的，现有的装置没有防护功能，导致机器在气相沉积时会产生辐射，因此在装置中设置有防护罩，防护罩为金属丝制成，通过金属丝的屏蔽作用，防止辐射散出。
[0017](3)通过设置有工作台、弹簧、晶圆体、夹块和晶圆槽实现了对晶圆进行固定的目的，防止晶圆移动，因此，使用时，把晶圆体放到晶圆槽中，通过弹簧的作用，弹簧就会使夹块移动，夹块就会把晶圆体夹紧，防止晶圆体发生移动影响镀膜效果。
附图说明
[0018]图1为本技术的第一正视内部结构示意图；
[0019]图2为本技术的第二正视内部结构示意图；
[0020]图3为本技术的正视外部结构示意图；
[0021]图4为本技术的工作台俯视结构示意图；
[0022]图5为本技术的图4中A处放大结构示意图；
[0023]图6为本技术的系统框图。
[0024]图中：1、第一滑轨；2、气缸；3、装置本体；4、滑动板；5、第一滑块；6、高频线圈；7、加热管；8、支脚；9、第二滑轨；10、工作台；11、电机；12、丝杠；13、第二滑块；14、真空泵；15、伸缩杆；16、防护罩；17、把手；18、支撑件；19、防护门；20、控制面板；21、弹簧；22、晶圆体；23、夹块；24、晶圆槽。
具体实施方式
[0025]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0026]请参阅图1
‑
6，本技术提供的一种实施例：一种带有护罩结构的物理气相沉积设备，包括装置本体3、第一滑块5、支脚8和防护门19，装置本体3的底部通过螺栓设置有支脚8，且支脚8在装置本体3的底部设置有四个，装置本体3的前部通过轴设置有防护门19，防护门19外部的一侧通过螺钉设置有控制面板20，装置本体3外部的右侧通过螺钉设置有真空泵14，且真空泵14的一端延伸到装置本体3的内部，装置本体3内部靠近防护门19的一侧
通过轴设置有伸缩杆15，且伸缩杆15的一侧通过轴设置有防护罩16，伸缩杆15的一侧设置有支撑件18，且支撑件18上焊接有把手17；
[0027]现有的装置没有防护功能，导致机器在气相沉积时会产生辐射，因此在装置中设置有防护罩16，防护罩16为金属丝制成，通过金属丝的屏蔽作用，防止辐射散出；
[0028]装置本体3内部顶部的中心位置通过螺钉设置有气缸2，且气缸2的底部连接有第一滑块5；
[0029]装置本体3内部的侧壁上通过内六角螺栓设置有第一滑轨1，且第一滑轨1上滑动设置有第一滑块5，且第一滑块5的一侧与滑动板4相互焊接；
[0030]滑动板4底部的中心位置通过螺钉设置有高频线圈6，装置本体3内部靠近第一滑轨1的底部通过螺钉设置有加热管7；
[0031]装置本体3内部背部的中心位置通过螺钉设置有电机11，电机11的一端通过连轴器连接有丝杠12；
[0032]丝杠12的顶部活动设置有工作台10，工作台10底部的两侧通过螺钉设置有第二滑块13，装置本体3内部底部设置有第二滑轨9，且第二滑轨9与第二滑块13相互配合；
[0033]在本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种带有护罩结构的物理气相沉积设备，其特征在于：包括装置本体(3)、第一滑块(5)、支脚(8)和防护门(19)，所述装置本体(3)的底部设置有支脚(8)，且所述支脚(8)在装置本体(3)的底部设置有四个，所述装置本体(3)的前部设置有防护门(19)，所述防护门(19)外部的一侧设置有控制面板(20)，所述装置本体(3)外部的右侧设置有真空泵(14)，且所述真空泵(14)的一端延伸到装置本体(3)的内部，所述装置本体(3)内部靠近防护门(19)的一侧设置有伸缩杆(15)，且所述伸缩杆(15)的一侧设置有防护罩(16)，所述伸缩杆(15)的一侧设置有支撑件(18)，且支撑件(18)上设置有把手(17)。2.根据权利要求1所述的一种带有护罩结构的物理气相沉积设备，其特征在于：所述装置本体(3)内部顶部的中心位置设置有气缸(2)，且所述气缸(2)的底部连接有第一滑块(5)。3.根据权利要求1所述的一种带有护罩结构的物理气相沉积设备，其特征在于：所述装置本体(3)内部的侧壁上设置有第一滑轨(1)，且所述第一滑轨(1)上设置有第一滑块(5)，且所述第一滑块(5)的一侧与滑动板(4)相互焊接。4....

【专利技术属性】
技术研发人员：朱卫刚，
申请(专利权)人：株洲科汇钛力新材料有限公司，
类型：新型
国别省市：